Transition metal ions($Ni^{2+}$, $Cr^{3+}$ and $V^{5+}$) doped $TiO_2$ nanostructured powders were synthesized by mechanical alloying(MA) to shift the adsorption threshold into the visible light region. The synthesized powders were characterized by XRD, SEM, TEM and BET for structural analysis, UV-Vis and photoluminescence spectrum for the optical study. Also, photocatalytic abilities were evaluated by decomposition of 4-chlorophenol(4CP) under ultraviolet and visible light irradiations. Optical studies showed that the absorption wavelength of transition metal ions doped $TiO_2$ powders moved to visible light range, which was believed to be induced by the energy level change due to the doping. Among the prepared $TiO_2$ powders, $NiO^{2+}$ doped $TiO_2$ powders, showed excellent photooxidative ability in 4CP decomposition.
The archival long-slit spectra, covering the wavelength range 4050 ~ 5150 $\AA$, have been used to investigate the radial behavior of absorption line fea-tures (G4300, Fe4383, Ca4455, Fe4531, and $H{\beta}$) of an elliptical galaxy NGC 5846A. The heliocentric recession velocity of NGC 5846 has been derived as $1949{\pm}87\;kms^{-1}$. Fe absorption lines of NGC 5846A show significant radial gradients with the mean slope of $\Delta/Delta(r")=-0.863\pm0.202$. There is also a significant radial gradient of G band with a slope of $-1.109{\pm}0.098$. On the other hand, no radial gradients has been detected on the Ca4455 and $H{\beta}$ absorptions of NGC 5846A. A metallicity gradient, which is derived from the Fe line gradients, is similar to the abundance gradient predicted by Larson's (1975) dissipative models for the formation of elliptical galaxies. We also note that a galaxy-galaxy interaction could affect the line gradients of NGC 5864A.
Journal of Korean Society for Atmospheric Environment
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v.22
no.6
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pp.922-928
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2006
An absolute absorption cross section of benzene was measured with a spectrometer system including a mono-chrometer and a grating in the wavelength region of $240{\sim}280nm$ under the atmospheric pressure and room temperature in the laboratory. A certificated reference benzene gas ($98{\mu}mol/mol$ in $N_2$) was used to measure its absorption cross section. A 710 mm cell with a quartz window and a 150 W Xe arc lamp were employed. The magnitude of absorption cross section of $1.41{\times}10^{-18}cm^2$ was lower than that of the reference spectra ($2.5{\times}10^{-18}cm^2$) of high resolution spectrometer, Total measurement uncertainty was estimated to be 4.0%.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.07b
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pp.788-791
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2002
Tin doped indium oxide(ITO) films are highly conductive and transparent in the visible region whose property leads to the applications in solar cell, liquid crystal display, thermal heater, and other sensors. This paper investigated ITO films as a transparent conducting films for application of PDP. ITO films were grown on glass substrate by RF magnetron sputtering method. To achieve high transmittance and low resistivity, we examined the various film deposition such as substrate temperature, gas pressure, annealing temperature, and deposition time. We recommend the substrate temperature of $500^{\circ}C$ and post annealing of $200^{\circ}C$ in $O_2$ atmosphere for good conductivity and transmittance. From XRD examination, ITO films showed a preferred(222) orientation. As substrate temperature increased from RT to $500^{\circ}C$, the intensity of the (222) peak increased. The highest peak intensity was observed at a substrate temperature of $500^{\circ}C$. with the optimum growth conditions, ITO films showed resistivity of $1.04{\times}10^{-4}{\Omega}-cm$ and transmittance of 81.2% for a film 300nm thick in the wavelength range of the visible spectrum.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.5
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pp.280-284
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2015
Among many the oxynitrides, TiNO and AlCrNO, have diverse applications in different technological fields. We prepared TiNO/AlCrNO/Al thin films on aluminum substrates using the method of dc reactive magnetron sputtering. The reactive gas flow, gas mixture, and target potential were applied as the sputtering conditions during the deposition in order to control the chemical composition. The multi-layer films have been prepared in an Ar and O2+N2 gas mixture rate. The surface properties were estimated by performing scanning electron microscopy (SEM). At a wavelength range of 0.3~2.5 μm, the exact composition and optical properties of thin films were measured by Auger electron spectroscopy (AES) and Ultraviolet-visible-near infrared (UV-Vis-NIR) spectrophotometry. The optimal absorptance of multi-layer films was exhibited above 95.5% in the visible region of the electromagnetic spectrum, and the reflectance was achieved below 1.89%.
Park, Soo-Young;Han, Sang-Uk;Kim, Hyun-Hoo;Jang, Gun-Eik;Lee, Yong-Jun
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.5
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pp.264-267
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2015
AlCrNO cermet films were prepared on aluminum substrates using a DC-reactive magnetron sputtering method and a water-cooled Al:Cr target. The Al2O3/AlCrNO (LMVF)/AlCrNO (MMVF)/AlCrNO (HMVF)/Al/substrate of the 5 multi-layers was prepared according to the Ar and (N2 + O2) gas-mixture rates. The Al2O3 of the top layer is the anti-reflection layer of triple AlCrNO (LMVF)/AlCrNO (MMVF)/AlCrNO (HMVF) layers, and an Al metal forms the infrared reflection layer. In this study, the crystallinity and surface properties of the AlCrNO thin films were estimated using X-ray diffraction (XRD) and field-emission scanning electron microscopy (FESEM), while the composition of the thin films was systematically investigated using Auger electron spectroscopy (AES). The optical properties of the wavelength spectrum were recorded using UH4150 spectrophotometry (UV-Vis-NIR) at a range of 0.3 μm to 2.5 μm.
Kim, Byung-Sub;Park, Kang-Il;Lim, Dong-Gun;Park, Gi-Yub;Kwak, Dong-Joo
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.07b
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pp.857-860
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2003
Tin doped indium oxide(ITO) and Al doped zinc oxide(ZnO:Al) films, which are widely used as a transparent conductor in optoelectronic devices such as solar cell, liquid crystal display, plasma display panel, thermal heater, and other sensors, were prepared by using the capacitively coupled DC magnetron sputtering method. The electrical and optical properties of both the ITO and ZnO:Al thin films were investigated as functions of substrate temperature, working gas pressure and deposition time. ITO and ZnO:Al films with the the present experimental conditions of temperature and pressure showed resistivity of $2.36{\times}10^{-4}{\Omega}-cm,\;9.42{\times}10^{-4}{\Omega}-cm$ and transmittance of 86.28%, 90.88% in the wavelength range of the visible spectrum, respectively.
Kim, Byung-Sub;Lee, Sung-Wook;Lee, Soo-Ho;Lim, Dong-Gun;Lee, Se-Jong;Park, Min-Woo;Kwak, Dong-Joo
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2004.07b
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pp.969-972
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2004
Al doped Zinc Oxide(ZnO:Al) films, which is widely used as a transparent conductor in optoelectronic devices such as solar cell, liquid crystal display, plasma display panel, thermal heater, and other sensors, were prepared by using the capacitively coupled DC magnetron sputtering method. In this paper the effect of doping amounts of $Al_2O_3$ on the electrical, optical and morphological properties were investigated experimentally, The results show that the structural and electrical properties of the film are highly affected by the doping. The optimum growth conditions were obtained for films doped with 2 wt% of Al203 which exhibit a resistivity of $8.5{\times}10^{-4}{\Omega}-cm$ associated with a transmittance of 91.7 % for 840 nm in film thickness in the wavelength range of the visible spectrum.
In automotive industry, light weight vehicle is one of issues because of the air pollution and the protection of environment. Therefore, automotive manufacturers have tried to apply light materials such as aluminum to car body. Aluminum welding using laser has some advantages high energy density and high productivity. It is very important to understand behavior of plasma and keyhole in order to improve weld quality and monitor the weld state. In this study, spectral analysis was carried out to verify the spectrum for plasma which is generated in laser welding of A 6000 aluminum alloy. Two photodiodes which cover the range of plasma wavelength was used to measure light emission during laser welding according to assist gas flow rate and welding speed. Analysis of relationship between sensor signals of welding variables and formation of keyhole and plasma is performed. To determine the level of significance, analysis of variation (ANOVA) was carried out.
I propose a vector passive harmonic mode-locked fiber laser based on topological insulator Bi2Se3 interacting with a fiber taper with a diameter of 7 μm. The particles of topological insulator are deposited uniformly onto the fiber taper with light pressure effect. By incorporating the fabricated saturable absorber into an Er-doped fiber laser cavity, stable mode-locked fiber is obtained. Due to the intense evanescent field of the fiber taper, strong confinement of light enhances the nonlinearity of the laser cavity, and passive harmonic mode-locking is performed. I observe a maximum harmonic mode-locking of 356th, corresponding to a frequency of 3.57 GHz. The pulse duration is 824 fs, and the full width at half maximum of the spectrum is about 8.2 nm. The polarization dependent loss of the saturable absorber is ~ 2.5 dB in the wavelength range of the C band. As the cavity contains no other polarization dependent device, the mode-locked laser is functioning in the vector state. The harmonic order vs pump power is investigated. To the best of our knowledge, this report is the highest frequency mode-locked fiber laser based on Bi2Se3. Experimental results indicate that the topological insulator Bi2Se3 functioning with a thin fiber taper is effective for vector harmonic mode-locking.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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