Kim, Jong-Min;Cho, Kyeong-Yeon;Lee, Ji-Hun;Lee, Soo-Hong
한국태양에너지학회:학술대회논문집
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2009.04a
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pp.230-234
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2009
It is significant technique to increase competitiveness that solar cells have a high energy conversion efficiency and cost effectiveness. When making high efficiency crystalline Si solar cells, evaporated Ti/Pd/Ag contact system is widely used in order to reduce the electrical resistance of the contact fingers. However, the evaporation process is no applicable to mass production because high vacuum is needed. Furthermore, those metals are too expensive to be applied for terrestrial applications. Ni/Cu/Ag contact system of silicon solar cells offers a relatively inexpensive method of making electrical contact. Ni silicide formation is one of the indispensable techniques for Ni/Cu/Ag contact sytem. Ni was electroless plated on the front grid pattern, After Ni electroless plating, the cells were annealed by RTP(Rapid Thermal Process). Ni silicide(NiSi) has certain advantages over Ti silicide($TiSi_2$), lower temperature anneal, one step anneal, low resistivity, low silicon consumption, low film stress, absence of reaction between the annealing ambient. Ni/Cu/Ag metallization scheme is an important process in the direction of cost reduction for solar cells of high efficiency. In this article we shall report an investigation of rapid thermal silicidation of nickel on silngle crystalline silicon wafers in the annealing range of $350-390^{\circ}C$. The samples annealed at temperatures from 350 to $390^{\circ}C$ have been analyzed by SEM(Scanning Electron Microscopy).
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.31
no.1
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pp.34-39
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2018
In this study, e-beam equipment was used to form silver nanoparticles on thin films of $TiO_2$ to increase the efficiency of dye-sensitized solar cells and improve the annealing process. $TiO_2$ thin films with nanoparticle photoelectrodes were fabricated in individual units for use in dye-sensitized solar cells. The characteristics of dye-sensitized solar cells were compared to those of the prepared $TiO_2$ photoelectrode with and without nanoparticles. The dye-sensitized solar cells with silver nanoparticles showed a significant increase in the electric current density compared with the pure $TiO_2$ dye-sensitized solar cell and improved the solar conversion efficiency to 27.89%. The increased density of electric current increased the extent of light absorption of the dye owing to the plasmon resonance of the nanoparticles at the local surfaces. This phenomenon led to increased light scattering, which in turn increased the current density of the dye-sensitized solar cells and improved the solar conversion efficiency.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.158-158
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2011
$Cu(In_xGa_{1-x})Se_2$ (CIGS) thin film solar cell is one of the most promising solar cells in photovoltaic devices. CIGS has a direct band gap which varied from 1.0 to 1.26 eV, depending on the Ga to In ratio. Also, CIGS has been studying for an absorber in thin film solar cells due to their highest absorption coefficient which is $1{\times}10^5cm^{-1}$ and good stability for deposition process at high temperature of $450{\sim}590^{\circ}C$. Currently, the highest efficiency of CIGS thin film solar cell is approximately 20.3%, which is closely approaching to the efficiency of poly-silicon solar cell. The deposition technique is one of the most important points in preparing CIGS thin film solar cells. Among the various deposition techniques, the sputtering is known to be very effective and feasible process for mass production. In this study, CIGS thin films have been prepared by rf magnetron sputtering method using a single target. The optical and structural properties of CIGS films are generally dependent on deposition parameters. Therefore, we will explore the influence of deposition power on the properties of CIGS films and the films will be deposited by rf magnetron sputtering using CIGS single target on Mo coated soda lime glass at $500^{\circ}C$. The thickness of CIGS films will be measured by Tencor-P1 profiler. The optical properties will be measured by UV-visible spectroscopy. The crystal structure will be analyzed using X-ray diffraction (XRD). Finally the optimal deposition conditions for CIGS thin films will be developed.
Screen printing method is a common way to fabricate the crystalline silicon solar cell with low-cost and high-efficiency. The screen printing metallization use silver paste and aluminum paste for front and rear contact, respectively. Especially the rear contact between aluminum and silicon is important to form the back surface filed (Al-BSF) after firing process. BSF plays an important role to reduces the surface recombination due to $p^+$ doping of back surface. However, Al electrode on back surface leads to bow occurring by differences in coefficient of thermal expansion of the aluminum and silicon. In this paper, we studied the properties of mono crystalline silicon solar cell for rear electrode with aluminum and aluminum-boron in order to characterize bow and BSF of each paste. The 156*156 $m^2$ p-type silicon wafers with $200{\mu}m$ thickness and 0.5-3 ${\Omega}\;cm$ resistivity were used after texturing, diffusion, and antireflection coating. The characteristics of solar cells was obtained by measuring vernier callipers, scanning electron microscope and light current-voltage. Solar cells with aluminum paste on the back surface were achieved with $V_{OC}$ = 0.618V, JSC = 35.49$mA/cm^2$, FF(Fill factor) = 78%, Efficiency = 17.13%.
Various studies on dye-sensitized solar cells, which are cheaper to manufacture and have superior stability than silicon solar cells, are continuously conducted. In this study, the properties of dye-sensitized solar cells were studied using semiconductor oxides made by mixing $TiO_2$ and $Nb_2O_5$. By adding $Nb_2O_5$ in different proportions, the solar cell was made, and the surface area and electrical characteristics of this cell were measured. As $Nb_2O_5$ was added, the contact area of dye and electrolyte increased and the short-circuit current, open voltage, fill factor and conversion efficiency of dye-sensitized solar cells were confirmed to be improved.
In the crystalline silicon solar cells, the full area aluminum_back surface field(BSF) is routinely achieved through the screen-printing of aluminum paste and rapid firing. It is widely used in the industrial solar cell because of the simple and cost-effective process to suppress the overall recombination at the back surface. However, it still has limitations such as the relatively higher recombination rate and the low-to-moderate reflectance. In addition, it is difficult to apply it to thinner substrate due to wafer bowing. In the recent years, the dielectric back-passivated cell with local back contacts has been developed and implemented to overcome its disadvantages. Although it is successful to gain a lower value of surface recombination velocity(SRV), the series resistance($R_{series}$) becomes even more important than the conventional solar cell. That is, it is a trade off relationship between the SRV and the $R_{series}$ as a function of the contact size, the contact spacing and the geometry of the opening. Therefore it is essential to find the best compromise between them for the high efficiency solar cell. We have investigated the optimal design for the local back contact by using PC1D simulation.
Kim, Hyun-Jun;Byun, Jung-Hyun;Kim, Ji-Hun;Jeong, Sang-Hyun;Kim, Kwang-Ho
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.242-242
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2010
산화 알루미늄($Al_2O_3$) 박막을 p-type Czochralski(CZ) Si 위에 Remote Plasma Atomic Layer Deposition(RPALD)을 이용하여 저온 공정으로 증착하였다. Photolithography 공정으로 grid 패턴을 형성한 후 열 증착기로 알루미늄을 증착하여 MIS-IL (Metal-Insulator-Semiconductor Inversion Layer) solar cell을 제작하였다. 반응소스로는 Trimethylaluminum (TMA)과 $O_2$를 이용하였다. $Al_2O_3$ 박막의 전기적 특성 평가를 위해 MIS capacitor를 제작하여 Capacitance-voltage (C-V), Current-voltage (I-V), Interface state density ($D_{it}$)를 평가하였으며 Solar simulator를 이용하여 MIS-IL Solar cell의 Efficiency을 측정하였다.
Kim, Changheon;Lee, Jonghwan;Lim, Sangwoo;Jeong, Chaehwan
Current Photovoltaic Research
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v.2
no.3
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pp.130-134
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2014
We have fabricated the selective emitter solar cell using double textured nanowires structure. The $40{\times}40mm2$-sized silicon substrates were textured to form the pyramid-shaped surface and the nanowires were fabricated by metal assisted chemical etching process using Ag nanoparticles, subsequently. The heavily doped and shallow emitters for selectiv eemitter solar cells were prepared through the thermal $POCl_3$ diffusion and chemical etch-back process, respectively. The front and rear electrodes were prepared following conventional screen printing method and the widths of fingers have been optimized. The selective emitter solar cell using double textured nanowires structure achieved a conversion efficiency of 17.9% with improved absorption and short circuit current density.
We investigated the MoS2 thin film layer by thermolytic deposition and applied it to the silicon solar cells. MoS2 thin films were made by two methods of dipping and spin coating of (NH4)2MoS4 precursor solution. We implemented two types of substrates of microtextured and nano-microtextured 6-in. Si pn junction wafers. The fabricated MoS2 thin film layer was analyzed, and solar cells were fabricated by applying the standard silicon solar cell process. The MoS2 thin film layer of sulfur-deficient form was deposited on the n-type emitter layer, and electrons, which are minority carriers, were well transported at the interface and exhibited photovoltaic solar cell characteristics. The cell efficiencies were achieved at 5% for microtextured wafers and 2.56% for nano-microtextured wafers.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.234-234
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2010
Most high efficiency silicon solar cells use a passivated selective emitter. It have been an important research subject for crystalline silicon solar cells for decades. It is being used in production for high efficiency solar cells. Most of the selective emitter process require expensive extra masking, etching steps, and a double diffusion process making selective emitters not cost effective. In this paper, we study method for single diffusion step selective emitter process as an alternative to not cost effective double diffusion process. Cost effective selective emitter that the efficiency should be increased significantly (mare than 0.2%) and that the process should simple, robust and cheap.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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