졸-겔 스핀코팅법을 이용하여 VDT 기판에 반사방지 및 정전기방지 복층막을 코팅하고 코팅졸과 겔분말의 특성 및 코팅막의 전기적, 광학적, 기계적 특성을 조사하였다. 1층막은 복층막의 간섭조건을 만족시키는 굴절율을 얻기위해 투명 전도성 재료인 ATO(Antimony doped Tin Oxide) 졸과 SiO2 졸을 몰비 68:32로 혼합한 ATO-SiO2 복합졸을, 2층막에는 저굴절율의 SiO2 졸을 사용하였다. 각 코팅막을 45$0^{\circ}C$에서 30분간 열처리하였을 때 잔류 유기물은 완전히 제거되었다. ATO막의 표면저항은 3mol%의 Sb 첨가시 약 6$\times$107$\Omega$/$\square$로 최소를 나타내었고 SiO2 졸과의 혼합시 약 30mol% 까지는 표면저항이 완만히 증가하다가 그 이후에는 급격히 증가하는 경향을 나타내었으며, 간섭조건을 만족시키는 조성인 32mol%에서는 약 3$\times$108$\Omega$/$\square$를 나타내었다. 복층막의 반사율은 550nm의 기준파장에서 약 0.64%를 나타내었으며 광투과율은 약 3.20% 증가하였다. 복층막의 미소경도는 약 471.4kg.f/mm2로 코팅하지 않은 VDT기판의 경도와 유사한 값을 나타내었다.
PbTiO$_{3}$-PbZrO$_{3}$-Pb(Ni$_{1}$3/Nb $_{2}$3/O$_{3}$)(PZT-PNN) thin films were prepared from corresponding metal organics partially stabilized with diethanolamine by the sol-gel spin coating method. Each mol rates of PT:PZ:PNN solutions were #1(50:40:10), #2(50:30:20), #3(45:35:20) and #4(40:40:20), respectively. The spin-coated PZT-PNN films were sintered at the temperature from 500.deg. C to 600.deg. C for crystallization. The P-E hysteresis curve was drawn by Sawyer-Tower circuit with PZT-PNN film. The coercive field and the remanent polarization of #4(40:40:20 mol%) PZT-PNN film were 28.8 kV/cm and 18.3 .mu.C/cm$^{2}$, respectively. Their dielectric constants were shown between 128 and 1120, and became maximum value in MPB(40:40:20 mol%). The leakage currents of PZT-PNN films were about 9.4x 10$^{-8}$ A/cm$^{2}$, and the breakdown voltages were about 0.14 and 1.1 MV/cm. The Curie point of #3(45:35:20 mol%, sintered at 600.deg. C) film was 330.deg. C.
diol을 기반으로 하는 Sol-Gel 방법으로 PZT (53/47) 1M sol 용액을 만들어 회전 코팅법으로 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 기판위에 코팅하였고 한번 코팅으로 최대 0.9${\mu}m $의 PZT막을 얻었다. PZT는 비강유전성 pyrochlore상을 거쳐 강유전성 perovskite상으로 전이하며 따라서 PZT perovskite seed가 상전이에 미치는 영향을 규명하고자 하였다. 0.2${\mu}m $ 이하의 크기를 갖는 1wt% PZT분말을 propanol용액에 분산시켜 PZT sol 용액에 도입하여 seeded PZT 막을 제조하였다. Seeded PZT막을 열처리한 결과 perovskite상의 생성이 촉진되어 상전이 온도가 50$^{\circ}C$정도 낮아졌다.
The adsorption of proteins on the surface of glass slides is essential for the construction of protein chips. Here, we report that a Histidine (His)-tagged protein protein has been efficiently adsorbed on glass coated with nickel. A variety of nickel chloride-coated plates were prepared by the spin-coating method and adsorbed to the His-tagged protein. When the protein was adsorbed onto the surface of a variety of nickel chloride-coated glass slides, the efficiency of protein adsorption was dependent upon the coating conditions such as nickel chloride concentration, the spin speed and the drying temperature. The slides appropriate for protein adsorption were obtained when the slides were coated with 11%(w/w) of $NiCl_2$ at the spin speed of 4000 rpm for 20 sec and then dried at higher than 40°C. The physical properties of their nickel chloride thin layer were characterized by scanning electron microscopy. x-ray diffraction and atomic force microscopy, finding that the nickel chloride particles were around 10 nm in diameter and uniformly crystallized at 101 faces. These results show that nickel chloride-coated slides prepared by the spin-coating method are utilizable for the construction of Histagged protein chips.
The influence of the concentration of precursor solution and the number of solution coatings on the densification of the Pb($Zr_xTi_{1-x}$)$O_3$(PZT) thick films was studied. PZT powder and PZT precursor solution were prepared by sol-gel method and PZT thick films were fabricated by the screen-printing method on the alumina substrates. The powder and solution of composition were PZT(70/30) and PZT(30/70), respectively. The coating and drying procedure was repeated 4 times. And then the PZT precursor solution was spin-coated on the PZT thick films. A concentration of a coating solution was 0.5 to 2.0 mol/L[M] and the number of coating was repeated from 0 to 6. The relative dielectric constant of the PZT thick film was increased with increasing the number of solution coatings and the thick films with 15M, 6-time coated showed the 698. The remanent polarization of the 1.5M, 6-time coated PZT thick films was 38.3 ${\mu}C/cm^2$.
The thin films of high pemitivity in ferroelectric materials using a capacitor are applied to DRAMs and FRAMs. (Ba, Sr)$TiO_3$ thin films as ferroelectric materials were prepared by the sol-gel method and made by spin-coating on the Pt/Ti/$SiO_2/Si$ substrate at 4,000 [rpm] for 10 seconds. The devices of BST thin films to composite $(Ba_{0.7},Sr_{0.3})TiO_3$ were fabricated by changing of the depositing layer number on $Pt/Ti/SiO_2/Si$ substrate. The thin film capacitor to be ferroelectric devices was investigated by structural and electrical properties. The thickness of BST thin films at each coating numbers 3, 4 and 5 times was $2500[\AA]$, $3500[\AA]$, $3800[\AA]$. The dielectric factor of thin film when the coating numbers were 3, 4 and 5 times was 190, 400 and 460 on frequency l[MHz]. The dielectric loss of BST thin film was linearly increased by increasing of the specimen area.
The thin films of high permitivity in ferroelectric materials using a capacitor are applied to DRAMs and FRAMs. (Ba, Sr)TiO$_3$ thin films as ferroelectric materials were prepared by the sol-gel method and made by spin-coating on the Pt/Ti/SiO$_2$/Si substrate at 4,700 [rpm] for 10 seconds. The devices of BST thin films to composite (Ba$\_$0.7/Sr$\_$0.3/)TiO$_3$ were fabricated by changing of the depositing layer number on Pt/Ti/SiO$_2$/Si substrate. The thin film capacitor to be ferroelectric devices was investigated by structural and electrical properties. The thickness of BST thin films at each coating numbers 3, 4 and 5 times was 2500[${\AA}$], 3500[${\AA}$], 3800[${\AA}$]. The dielectric factor of thin film when the coating numbers were 3, 4 and 5 times was 190, 400 and 460 on frequency 1[MHz]. The dielectric loss of BST thin film was linearly increased by increasing of the specimen area.
In this study, PZT solutions added impurities of Yttrium acetate were prepared by sol-gel processing and were deposited on Pt/ $SiO_{2}$/Si substrates at 5000 rpm for 20 sec. using spin-coating method. Coated films were annealed at 700-750.deg. C for 30 min. using conventional furnace method. Variations of the crystallographic structure and microstructure of PZT thin films with adding impurities were observed using XRD and SEM, and the electrical properties, such as relative permittivity, tan .delta., hysteresis curves and leakage currents, were measured. As the yttrium contents were increased, the remanent polarization and coercive field were decreased. Variations of remanent polarizations and coercive fields of pure and yttrium doped specimens according to polarization reversal cycles were observed using hysteresis measurement. PZT thin films added $Y^{3+}$ ions were completely crystallized at 750.deg. C. $Y^{3+}$ ions, as donor impurity, substituted Pb.sup 2+/ ions located at A-site of perovskite structure. By substitution of $Y^{3+}$ ions, leakage currents became less by decreasing the space charges. Degradation of remanent polarizations of Yttrium added specimens after fatigue was not observed and coercive fields increased more than those of pure PZT thin films.
In this study, Pb(Z $r_{0.52}$$Ti_{0.48}$) $O_{3}$ ceramic thin films were fabricated from an alkoxide-based by Sol-Gel method. Pb(Z $r_{0.52}$$Ti_{0.48}$) $O_{3}$ stock solution was made and spin-coated on the Pt/ $SiO_{2}$/Si substrate at 4000[rpm] for 30[sec.]. Coated specimens were chied at 400[.deg. C] for 10[min]. The coating process was repeated 6 times and then heat-treated at 500-800[.deg. C] and 1 hour. The final thickness of the thin films were about 4800[.angs.]. The ferroelectric perovskite phases precipitated under the sintering of 700[.deg. C] for 1 hour. Pb(Z $r_{0.52}$$Ti_{0.48}$) $O_{3}$ thin films sintered at 700[.deg. C] for 1 hour showed good dielectric and ferroelectric properties.
Optical amplificator have been used to compensate the losses in the optical signal transmission and processing. Today, there has been increasing demand for the very low cost optical amplifier. Sol-gel offers considerable potential both low cost manufacture, and for great flexibility in materials composition and structure. In addition, the sol-gel process is a very attractive method for producing porous materials with controlled structure. In this work, we present the potoluminescence properties of Er doped A1$_2$O$_3$/SiO$_2$ films. Erbium doped alumina nano sol was prepared by Al(NO$_3$)$_3$.9$H_2O$ and Er(NO$_3$)$_3$.5$H_2O$ through hydrolysis and peptization, and then GPS (3-Glycidoxypropyltrimethoxysilane) was added into Er doped alumina nano sol for organic- inorganic hybridization. Er doped A1$_2$O$_3$/SiO$_2$ film was obtained by spin coating, dip coating and thermal treatment from 30$0^{\circ}C$~120$0^{\circ}C$, and there were crack-free after thermal treatment. The thickness of film was measured SEM, and the porosity of film was characterized by BET and TGA. The crystal phase of Er doped A1$_2$O$_3$/SiO$_2$ were determined by XRD. Finally, the photoluminescence properties of Er doped A1$_2$O$_3$/SiO$_2$ films will be discuss with the consideration of porosity and crystallity.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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