This paper deals with an inexpensive, simple and fast Langmuir probe sweeping circuit and its application. This sweeper completes a probe trace in a 1 ms order. Futhermore, the circuit drives a maximum probe voltage of $\pm$30V and has a maximum probe current capability of a few amperes. The plasma parameters are successfully determined using the fast Langmuir probe method.
Melting curve analysis of fluorescently labeled DNA fragments is used extensively for genotyping single nucleotide polymorphism(SNP). Here, we evaluated a SNP genotyping method by melting curve analysis with the two probe chemistries in a 384-well plate format on a Roche LightCycler 480. The HybProbe chemistry is based on the fluorescence resonance energy transfer(FRET) and the SimpleProbe chemistry uses a terminal self-quenching fluorophore. We evaluated FRET HybProbes and SimpleProbes for two SNP sites closely linked to two quantitative trait loci(QTL) for southern root-knot nematode resistance. These probes were used to genotype the two parents and 94 $F_2$ plants from the cross of PI 96354$\times$Bossier. The SNP genotypes of all samples determined by the LightCycler software agreed with previously determined SSR genotypes and the SNP genotypes determined on a Luminex 100 flow cytometry instrument. Multiplexed HybProbes for the two SNPs showed a 98.4% success rate and 100% concordance between repeats two of the same 96 DNA samples. Also, we developed a HybProbe assay for the Rcs3 gene conditioning broad resistance to the frogeye leaf spot(FLS) disease. The LightCycler 480 provides rapid PCR on 384-well plate and allows simultaneous amplification and analysis in approximately 2 hours without any additional steps after amplification. This allowed for a reduction of the potential contamination of PCR products, simplicity, and enablement of a streamlined workflow. The melting curve analysis on the LightCycler 480 provided high-throughput and rapid SNP genotyping and appears highly effective for marker-assisted selection in soybean.
Cutoff probe, diagnostics instrument for plasma density, have been received an extensive attention due to simple, robust and lowest assumption. Although the cutoff probe has a long history, physical model is limited in low density plasma. For that reason, we propose a novel transmission line model of cutoff probe for precise measurement of high density plasma. In addition simplified circuit model can be obtained from transmission line model. It can explain simply physics of cutoff probe in high density plasma.
In semiconductor manufacturing, the probe process between fabrication and assembly process is constrained mostly by the equipment capacity because most products pass through the similar procedures. The probe process is usually performed in a batch mode with relatively short cycle times. The capability of the probe process can be determined by the optimal combination of the equipments and the products. A probe line usually has several types of equipment with different capacity. In this study, the probe line is modeled in terms of capacity to give the efficient planning and control procedure. For the practical usage, the hierarchical capacity planning procedure is used. First, a monthly capacity plan is made to meet the monthly production plan of each product. Secondly, the daily capacity planning is performed by considering the monthly capacity plan and the daily fabrication output. Simple heuristic algorithms for daily capacity planning are developed and some experimental results are shown.
A cutoff probe is the novel diagnostic method to get the absolute plasma density with simple system and less assumption. However, high density of ion flux from plasma on probe tip can make the error of plasma density measurement because the dielectric material of probe tip can be damaged by ion flux. We proposed a shielded cutoff probe using the ceramic tube for protection from ion flux. The ceramic tube on probe tip can intercept the ion flux from plasma. The transmitted spectrum using the shielded cutoff probe is good agreement with E/M wave simulation result (CST Microwave Studio) and previous circuit simulation of cutoff probe [1]. From the analysis of the measured transmitted spectrum base on the circuit modeling, the parallel resonance frequency is same as the unshielded cutoff probe case. The obtained results of electron density is presented and discussed in wide range of experimental conditions, together with comparison result with previous cutoff method.
So Yeon Yi;Jinyoung Jeong;Wang Sik Lee;Jungsun Kwon;Kyungah Yoon;Kyoungsook Park
Journal of Microbiology and Biotechnology
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제33권5호
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pp.698-705
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2023
Rapid diagnosis of methicillin-resistant Staphylococcus aureus (MRSA) is essential for guiding clinical treatment and preventing the spread of MRSA infections. Herein, we present a simple and rapid MRSA screening test based on the aggregation effect of mannose-binding lectin (MBL)-conjugated gold nanoparticles (AuNP), called the MRSA probe. Recombinant MBL protein is a member of the lectin family and part of the innate immune system. It can recognize wall teichoic acid (WTA) on the membrane of MRSA more specifically than that of methicillin-sensitive Staphylococcus aureus (MSSA) under optimized salt conditions. Thus, the MRSA probe can selectively bind to MRSA, and the aggregation of the probes on the surface of the target bacteria can be detected and analyzed by the naked eye within 5 min. To demonstrate the suitability of the method for real-world application, we tested 40 clinical S. aureus isolates (including 20 MRSA specimens) and recorded a sensitivity of 100%. In conclusion, the MRSA probe-based screening test with its excellent sensitivity has the potential for successful application in the microbiology laboratory.
Kim, Dae-Woong;You, Shin-Jae;Na, Byung-Keun;You, Kwang-Ho;Kim, Jung-Hyung;Chang, Hong-Young
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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pp.181-181
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2012
The microwave probe for measuring plasma density is widely used for its advantages: First, it is not affected by the reactive gas. Second, it can measure local plasma parameters such as plasma density, plasma potential and plasma temperature. Third, it is simple and robust. A cut-off probe is the one of the most promising microwave probe. Recently, Kim et al. reveals the physics of the cut-off probe but the effect of the sheath on the determination of the plasma density is not explained. In this presentation, for taking account of sheath effects on determination of plasma density from the cut-off peak, a simplified circuit modeling and an E/M simulation are conducted. The results show that occupation ratio of sheath volume between two tips of the cut-off probe and subsequence pressure condition mainly change position of the cut-off peak with respect to plasma frequency. Magnitude of relative voltage taken on the impedance of sheath and the impedance of bulk plasma can explain this effect. Furthermore, effects of gap size, tip radius, and tip length ware revealed based on above analysis.
In this paper, a DC potential drop measurement system was used to find the position of the flaw on a simple thin plate. Four-point probe test was evaluated and used for this study. In the four-point probe test, the more distance between current pins provides the more measurable scope, the less voltage difference, and the more voltage difference rate. In the other hand, the more distance between voltage pins provides the less voltage difference and the less voltage difference rate. An optimized four-point probe was applied to measure the relation between voltage and the relative position of flaw to the probe. The Maxwell 21) simulator was used to analyze the electromagnetic field, and it showed that the analytical result was similar to the experimental result within 11.4% maximum error.
Kim, D.W.;You, S.J.;You, K.H.;Lee, J.W.;Kim, J.H.;Chang, H.Y.;Oh, W.Y.
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.576-576
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2013
Recently, diagnostics of plasma becomes more important due to requirement of precise control of plasma processing based on measurement of plasma characteristics. The Langmuir probe has been used for the diagnostics but it has an inevitable uncertainty and error sources such as incorrect tip length and RF noise. Instead of the Langmuir probe, various diagnostic methods have been developed and researched. The cutoff probe is promising one for plasma density using microwaves and resonance phenomenon at the plasma frequency. The cutoff probe has various advantages as follows; (i) it is simple and robust, (ii) it uses few assumptions, and (iii) it is free from deposition by reactive gas. However, the cutoff probe also has uncertainty and error sources such as gap between tips, tip length, direction of tip plane, and RF noise. In this study, the uncertainty and error sources in manufacturing both probes and in diagnostics process were analyzed via comparative experiment at various discharge conditions. Furthermore, to reveal the user dependence of both probes, three well trained Ph. D students made the Langmuir probe and the cutoff probe, respectively, and it were analyzed. Thought this study, it is established that reliability and validity of the Langmuir probe and the cutoff probe related with not only the intrinsic characteristics of probes but also probe user.
In this study, a probe array has been developed for use in a data storage device that is based on scanning probe microscope (SPM) and MEMS technology. When recording data bits by poling the PZT thin layer and reading them by sensing its piezoresponse, commercial probes of which the tip heights are typically shorter than $3{\mu}m$ raise a problem due to the electrostatic forces occurring between the probe body and the bottom electrode of a medium. In order to reduce this undesirable effect, a poly-silicon probe with a high aspect-ratio tip was fabricated using a molding technique. Poly-silicon probes fabricated by the molding technique have several features. The tip can be protected during the subsequent fabrication processes and have a high aspect ratio. The tip radius can be as small as 15 nm because sharpening oxidation process is allowed. To drive the probe, electrostatic actuation mechanism was employed since the fabrication process and driving/sensing circuit is very simple. The natural frequency and DC sensitivity of a fabricated probe were measured to be 18.75 kHz and 16.7 nm/V, respectively. The step response characteristic was investigated as well. Overshoot behavior in the probe movement was hardly observed because of large squeeze film air damping forces. Therefore, the probe fabricated in this study is considered to be very useful in probe-based data storages since it can stably approach toward the medium and be more robust against external shock.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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