OLED(Organic Light Emitting Device)는 LCD(Liquid Crystal Display)의 뒤를 잇는 차세대 디스플레이의 선두주자로서 자체발광형이기 때문에 백라이트 등의 보조광원이 불필요하며, 구동전압이 낮고 넓은 시야각과 빠른 응답속도 등의 특징을 가지고 있다. 또한 플렉서블 기판을 사용할 수 있어 차세대 디스플레이인 플렉서블 디스플레이에 적합하다. 플렉서블한 디스플레이를 만들기 위해서 플라스틱 기판에 OLED 물질을 사용하여 기존에 무겁고, 깨지기 쉬우며, 변형이 불가능한 유리로 만든 소자 보다 더 가볍고 깨지지 않고 변형이 가능한 플렉서블 디스플레이를 제작 할 수 있다. 그러나 플라스틱 기판은 매우 큰 투습율을 가지고 있어 OLED소자에 적용시키면 공기 중의 수분이나 산소와 접촉이 많아져 쉽게 산화되어 소자의 효율 및 수명이 짧아진다. 또한 OLED에 사용되는 유기물도 산소나 수분에 의해 특성이 급격히 저하되기 때문에 산소 및 수분의 차단은 필수적이다. 이러한 단점을 최소화하기 위해서 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)로 만든 SiON(Silicon Oxynitride), $SiO_2$(Sillicon dioxide), $Si_3N_4$(Sillicon nitride) 박막을 차단막(Passivation layer)으로 사용하였다. PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)로 만든 SiON(Silicon Oxynitride), $SiO_2$(Sillicon dioxide), $Si_3N_4$(Sillicon nitride) 각각의 박막의 Crack의 특성을 85%-$85^{\circ}C$조건에서 24hr 측정하였다.
The technology of LASER lamination joining of sillicon steel sheets has been studied in this paper. Conventional sheets lamination process does not meet the requirments for the improvement electric parts performance. In response to this, a new LASER spot joining method has been developed. This study performs the SASER spot lamination joining while synchronizing the sillicon steel sheets in the dies with the press movement. Several conclusions have been drawn in this paper. Effects of beam focus, power, atmosphere gas and press oil etc.
The effect of oxidation-reduction heating conditions on coating adherence of hot-dip galvanized steel containing silicon has beeninvestigated. The presence of a stbke sillicon oxide formed on the steel surface has been shown to be very detrimenal to proper wetting by liquid zinc. When the steel has more than the critical sillicon content neeled to from a stable external oxide, the use of oxidation-reduction method has been found successful in obtaining a good quality, coated product with excellence adhreence. This can be explained by the formation of an iron oxide. The iron oxrtion of the scale is reduced, leaving the stable oxides dispersed in a fresh metallic iron surface layer. This reduced iron surface is easily wetted by the liquid zinc and excellent adherence is obtained.
Sillicon Wafer는 순도 99.9999999%의 단결정 규소를 사용하여 만들어진다. 웨이퍼의 표면은 결함이나 오염이 없어야 하고 회로의 정밀도에 영향을 미치기 때문에 고도의 평탄도와 정밀도를 요구한다. 특히 실리콘의 순도는 효율성에 영향을 주는 주요 원인으로 금속의 오염은 실리콘 웨이퍼의 수명을 단축시켜 효율성을 떨어뜨린다. 표면에 흡착된 구리와 니켈은 Silicon 오염의 주요인 중 하나로 알려져 있다. 이 연구는 Silicon Wafer 표면에 흡착된 구리가 내부로 확산되는 메커니즘을 규명하는 것을 목표로 한다. 표면에 구리가 흡착된 상태는 AES 및 LEED로 관찰하였다. 표면에 흡착된 구리의 표면(수평)및 내부(수직)확산은 SIMS를 이용하여 연구하였다.
${\beta}$-silicon carbides with yttrium aluminum garnet of 2,5,10 mol% were prepared by a liquid--phase sint-ering and the microstructural evolution and phase transformation were investigated during sintering as functions of liquid-phase amount and sintering time. The rate of grain growth decreases with the addition of the amount of yttrium aluminum garnet (YAG) in the SiC starting powder however the apparent density and the aspect ratio of grains in sintered body increase. The phase transformation from ${\beta}$-SiC to ${\alpha}$-SiC were dependent on the liquid-phase amount and sintering time.
The technology of Laser lamination joining of silicon steel sheets has been studied in this paper. Conventional sheets lamination process does not meet the requirments for the improvement electric parts performance. In response to this, a new Laser spot joining method has been developed. This study performs the Laser spot lamination joining while synchronizing the sillicon steel sheets in the dies with the press movement. Several conclusions have been drawn in this paper. Effects of beam focus, power, atmosphere gas and press oil etc.
Generally, a diode package consists of the synthetic resin that has good durability but low thermal conductivity. The surface mounted type fast recovery diode was fabricated by using ceramic package. Its main manufacture processes are composed of soldering, sillicon coating and side termination. And it has various advantages that diode is small, easy manufacture and fast cooling. The electric characteristics of the diode such as reverse recovery time, breakdown voltage, forward voltage, and leakage current were 5.28 ns, 1322 V, 1.08 V, $0.45\;{\mu}A$, respectively.
반도체 동작시에 파워 손실을 최소화하는 것은 2000년대의 에너지, 산업전자, 정보통신 산업분야에서의 가장 주요한 요구 사항중의 하나이다. 실리콘계 반도체 소자들은 완전히 새로운 구동기구의 소자가 개발되지 않는 한, 실리콘 재료의 낮은 열전도율이나 낮은 절연파괴전계와 같은 물리적 특성한계 때문에 이러한 요구를 만족시키는 것이 불가능한 실정이다. 따라서 21세기를 위한 대안으로 고열전도융의 WBG(WideBand-Gap) 물질 그 중에서도 탄화규소(SiC) 반도체가 제시되고 있다. SiC 반도체는 실리콘에 비하여 밴드갭(band gap: $E_{g}$)이 높을 뿐만이 아니라 절연파괴강도 ($E_{B}$)가 한 자릿수 이상 그리고 전자의 포화 drift 속도, $V_{s}$ 및 열전도도 k가 3배 가량 크다. 따라서 SiC는 고온 동작 내지는 고내압, 대전류, 저손실 반도체를 제작하는데 아주 유리하다. 본고에서는 응용성이 넓고, 단결정 제조가 비교적 용이한 SiC 반도체의 기술현황에 대하여 살펴보고자 한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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