본 연구에서는 간염치료제로 효과가 있는 민간제제(NS-P)의 성분 분석 및 항균 활성과 항산화 활성을 연구하였다. 이 NP-S는 그람 양성균인 Staphylococcus aureus와 그람 음성균인 Salmonella typhimurium 그리고 진균인 Candida albcans에 항균 활성을 보여 주었을 뿐만 아니라, 지질의 과산화를 억제하는 항산화 활성을 나타냈다. 이러한 NP-S는 C/H/N/S의 원소비가 15.5/4.8/11/10으로 황(S)이 상당히 많이 존재하고 있으며, 휘발성 물질인 암모니아를 2.11M 함유하고 있었다. 이 외에도 6.7의 펩타이드, 0.3의 유리 아미노산, 0.1의 무기 인산염을 함유하고 있으며, 미량 원소로서 Cl, Si, Mg, Zn도 함유하고 있다.
Formation behavior of PEO (Plasma Electrolytic Oxidation) films on AZ31 Mg alloy was studied in aqueous solutions containing various concentrations of hydroxide ion ($OH^-$) and silicate ion ($SiO_3{^{2-}}$) by voltage-time curves, and corrosion resistance of the PEO film-covered specimen was investigated by immersion test in 0.5 M NaCl solution. From the analyses of the voltage-time curves, it is suggested that two different types of anions are essentially needed for the formation of PEO films on AZ31 Mg alloy: film formation agent and local film breakdown agent. $SiO_3{^{2-}}$ ion acts only as a film formation agent but $OH^-$ ion acts not only as a film formation agent but also film breakdown agent. The PEO films prepared on AZ31 Mg alloy in alkaline silicate solution showed very good corrosion resistance without any pitting or filiform corrosions up to 480 h of immersion in 0.5 M NaCl.
생활폐기물 소각처리시설에서 발생하는 비산재의 pH와 입자분포 상태 등 물성치를 측정하였으며, XRF와 ICP-AES 및 ICP-MS를 이용하여 성분원소를 분석하였다. XRF 분석결과 비산재의 주성분 원소는 Ca, K, Na, Si, Al, Cl, S 및 O로 확인되었으며, XRD 분석결과 이들 원소는 염화물과 수산화물, carbonate, 산화물 및 복합화합물의 형태로 존재하는 것으로 나타났다. 미량원소로 함유된 중금속류의 정량을 위하여 시료의 전처리 없이 XRF를 이용한 직접분석과 마이크로파 분해장치를 사용하여 시료를 분해시킨 뒤 ICP-AES 및 ICP-MS를 이용한 분석결과를 비교하여 보았는데 두 가지 분석방법의 곁과가 잘 일치하였으며, Zn, Pb, Cu, Cr, Cd의 순으로 함량이 높게 나타났다.
A present semiconductor cleaning technology is based upon RCA cleaning technology which consumes vast amounts of chemicals and ultra pure water(UPW) and is the high temperature Process. Therefore, this technology gives rise to the many environmental issues, and some alternatives such as functional water cleaning are being studied. The electrolyzed water was generated by an electrolysis system which consists of anode, cathode, and middle chambers. Oxidative water and reductive water were obtained in anode and cathode chambers, respectively. In case of NH$_4$Cl electrolyte, the oxidation-reduction potential and pH for anode water(AW) and cathode water(CW) were measured to be +1050mV and 4.8, and -750mV and 10.0, respectively. AW and CW were deteriorated after electrolyzed, but maintained their characteristics for more than 40 minutes sufficiently enough for cleaning. Their deterioration was correlated with CO$_2$ concentration changes dissolved from air. It was known that AW was effective for Cu removal, while CW was more effective for Fe removal. The particle distributions after various particle removal processes maintained the same pattern. In this work, RCA consumed about 9$\ell$chemicals, while EW did only 400$m\ell$ HCI electrolyte or 600$m\ell$ NH$_4$Cl electrolyte. It was hence concluded that EW cleaning technology would be very effective for eliminating environment, safety, and health(ESH) issues in the next generation semiconductor manufacturing.
Spinel, mullite, forsterite and cordierite composition powders were synthesized from Mg(NO3)2.6H2O, Al(NO3)3.9H2O and SiCl4-ethanol solution by spray pyrolysis method and the sinterability of these powders were investigated. The bulk density of spinel and mullite specimens sintered at 1,$700^{\circ}C$ for 1hr was 3.56g/㎤(99.5% relative density) and 3.16g/㎤(99.7% relative density), respectively. (Green compacts were made from powders prepared at 1,00$0^{\circ}C$). The bulk density of forsterite and cordierite specimens sintered at 1,480 and 1,40$0^{\circ}C$ for 2hrs were 3.217 and 2.155g/㎤, respectively. (Green compacts were made from powders prepared at 1,00$0^{\circ}C$). The constituent compositions of spinel and mullite specimens sintered at 1,$700^{\circ}C$ for 1hr were 27.5wt% MgO and 70.5wt% Al2O3, respectively. Vickers microhardness and fracture toughness of spinel sintered at the above condition were 13.7GPa and 2.6MN.m3/2, respectively, and room temperature bending strength, 425MPa, was nearly maintained even at the elevated temperature. In the case ofmullite specimens, those values were 13.5GPa, 2.2MN/m3/2 and 430MPa, respectively.
먹는샘물은 국민의 건강과 직결될 뿐 아니라 귀중한 지하수자원이라는 점에서 엄격한 품질기준과 사후관리가 요구된다. 본 연구에서는 대보화강암(20개)과 불국사화강암(4개) 지역에 분포하는 먹는샘물 업체를 대상으로 원수의 수질특성을 수리화학적인 측면에서 해석하였다. 대보화강암과 불국사화강암 지역에 분포하는 먹는샘물 업체의 원수의 수질특성은 수리화학적으로 유사한 경향을 보이지만 상이한 부분도 있다. 수소이온농도, 전기전도도, 총고용물질, 경도, 양이온과 음이온의 함량은 대보화강암 지역이 불국사화강암 지역보다 높게 나타난다. 양이온 중에서 대부분은 Ca>Na>Mg>K의 순으로 함량비를 나타내며 음이온 성분의 함량은 $HCO_3>SO_4>Cl>K$의 순을 보인다. 화강암지역에서 $Ca-Na-HCO_3$ 유형이 가장 우세하며 Ca함량이 가장 높은 현상은 화강암에 풍부하게 포함되어 있는 사장석류의 용해작용에 기인하기 때문인 것으로 보인다. 대보화강암 지역에서는 $Ca-HCO_3(0.84),{\;}Mg-HCO_3(0.81),{\;}SiO_2-Cl(0.74),{\;}Na-HCO_3(0.70)$ 등이 비교적 높은 상관관계를 보이며, 불국사화강암 지역의 경우 K-Mg(0.93), $K-HCO_3(0.92)$, Mg-Cl(0.92), $Cl-HCO_3(0.91)$, K-F(0.90) 등이 다소 높은 상관관계를 보인다. 실리카 상들을 제외한다면 대부분의 지하수는 방해석의 포화도에 가장 근접한 상태를 보여 주며 돌로마이트, 석고, 형석에 대하여는 불포화정도가 다소 큼을 나타낸다. 실리카의 활동도가 증가하는 동안 K, Na같은 알칼리원소의 활동도와 pH는 크게 증가하지 않았는데 이는 장석류로부터의 용해작용 이외에 석영과 같은 실리카상들의 용해작용에 의하여 규산이 어느 정도 공급되었음을 의미한다. 전반적으로 보아 화강암 지역의 지하수가 암석내에 가장 풍부하게 존재 하는 장석류에 대하여 아직도 불포화 상태에 있기 때문에 pH의 증가와 함께 장석류와의 반응이 계속 진행될 수 있을 것으로 예상된다.
A present semiconductor cleaning technology is based upon RCA cleaning technology which consumes vast amounts of chemicals and ultra pure water(UPW) and is the high temperature process. Therefore, this technology gives rise to the many environmental issues, and some alternatives such as electrolyzed water(EW) are being studied. In this work, intentionally contaminated Si wafers were cleaned using the electrolyzed water. The electrolyzed water was generated by an electrolysis system which consists of three anode, cathode, and middle chambers. Oxidative water and reductive water were obtained in anode and cathode chambers, respectively. In case of NH4Cl electrolyte, the oxidation-reduction potential and pH for anode water(AW) and cathode water(CW) were measured to be +1050mV and 4.8, and -750mV and 10.0, respectively. AW and CW were deteriorated after electrolyzed, but maintained their characteristics for more than 40 minutes sufficiently enough for cleaning. Their deterioration was correlated with CO2 concentration changes dissolved from air. Contact angles of UPW, AW, and CW on DHF treated Si wafer surfaces were measured to be $65.9^{\circ}$, $66.5^{\circ}$ and $56.8^{\circ}$, respectively, which characterizes clearly the eletrolyzed water. To analyze the amount of metallic impurities on Si wafer surface, ICP-MS was introduced. It was known that AW was effective for Cu removal, while CW was more effective for Fe removal. To analyze the number of particles on Si wafer surfaces, Tencor 6220 were introduced. The particle distributions after various particle removal processes maintained the same pattern. In this work, RCA consumed about $9{\ell}$ chemicals, while EW did only $400m{\ell}$ HCl electrolyte or $600m{\ell}$ NH4Cl electrolyte. It was hence concluded that EW cleaning technology would be very effective for promoting environment, safety, and health(ESH) issues in the next generation semiconductor manufacturing.
Ferro-Nickel slag is one of the by-products in Ferro-Nickel manufacturing process. The slag is composed of $SiO_2$, MgO, $Fe_2O_3$ and others. But the slag has been buried at landfill despite having valuable elements. This study tried to extract Mg ion and fabricate Mg compound from ferro-nickel slag using hydrochloric acid solution. Mg ion was extracted with Si, Fe and other ions in HCl solution. So reprocess was needed for gaining high purity Mg ion. It was thought that Si ion or $SiO_2$ precipitated in HCl solution and removed from solution in filtering process. Fe ion converted into $Fe(OH)_3$ after reacted with $NH_4OH$ and precipitated in HCl solution. After these process, the filtrate was composed of high purity Mg ion. $MgCl_2{\cdot}NH_4Cl{\cdot}6H_2O$ was obtained through drying of filtrate and this product was changed into MgO by burning process ($600^{\circ}C$-30 min). That is, 1st material or solution for manufacturing 2nd product was fabricated using acid dissolution method and other treatments.
In this paper, a yellow phosphor $Sr_3SiO_5:Eu^{2+}$ that emits efficiently at the 450 nm excitation for warm white LED is studied. In addition, the effects of various flux $BaF_2$, $NH_4Cl$ on the emission spectra were investigated. The samples were synthesized through conventional solid state reaction under reducing atmosphere of 95% $N_2$-5% $H_2$ mixture at the high temperature. All phosphors showed a excitation band from 450 nm and broad band emission peaking at region of 580 nm. The optimal concentration of $BaF_2$ flux is 3 wt% for $Sr_3SiO_5$ with doping 0.05mol Eu phosphors fired in a reductive atmosphere. The phosphor showed highest emission peaking at 582 nm.
In order to utilize silicon carbide (SiC) as an inner part of fluidized bed reactor (FBR) for manufacturing poly-silicon, we have carried out the thermodynamic calculation on the overall reactions including poly-silicon synthesis and compatibility of SiC with FBR process. The resources of silicon included $SiH_4(MS)$, $SiHCl_3(TCS)$ and $SiCl_4(STC)$ and the thermodynamic yield of the FBR with MS, TCS and STC were compared each other with variable range of temperature, pressure and hydrogen to silicon ratio. The silicon yield of MS, TCS and STC were 100%, 28% and 4%, respectively, throughout the conventional FBR conditions. Silicon carbide having high hardness and strength showed strong resistance to granule collisions during the FBR process using a lab-scale reactor. And it also showed quite good compatibility with the typical FBR processes of MS and TCS resources.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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