• Title/Summary/Keyword: Shower Carrier

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Effects of $H_2$ Pretreatment using plasma for improved characteristics of Cu thin films (Cu 박막의 특성개선을 위한 플라즈마를 이용한 $H_2$ 전처리 효과)

  • 이종현;이정환;최시영
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.8 no.3A
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    • pp.249-255
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    • 1999
  • Deposition characteristics of Cu thin films using Ar carrier gas and $H_2$ processing gas at various working pressures and substrate temperatures were investigated. Also, effects of $H_2$ pretreatment using plasma at $200^{\circ}C$ of substrate temperature and 0.6 Torr of chamber pressure were stdied. Cu thin films were deposited on TiN/Si substrate at working pressure of 0.5~1.5 Torr, substrate temperatures of 140~$240^{\circ}C$ with (hface)Cu(tmvs). Substrates were pretreated by $H_2$ plasma, and Cu films deposited in situ using twofold shower head. The purity, electrical resistivity, thickness, surface morphology, optical properties of the deposited Cu films were measured b the AES, four point probe, stylus profiler, SEM,. and the uv-visible spectrophotometer. This study suggests that $H_2$ plasma is an effective method for enhancing deposition rate and for producing high quality copper thin films.

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A study on development of suitable healthcare equipment for aged people at their homes - Toward efficiency and reduction of the homehelpers' labor in healthcare

  • Nagao, Tomoko;Mizuno, Hiroyuki;Mitsuhashi, Toshio
    • Proceedings of the Korea Society of Design Studies Conference
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    • 2001.10a
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    • pp.9.1-9
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    • 2001
  • Concerning the development of suitable healthcare equipment for a aged people at their homes in order to reduce the labor and increase the efficiency in the homehelpers' work, we conducted a study on the actual conditions of healthcare in Kyoto city (healthcare in taking a meal and excretion, moving and taking a bath by using a hand-powered lift, moving by a wheelchair, shower carrier healthcare, assistance in body care and housework) by digital video filming, interviews and layout investigations. On the base of those investigations by using methods for analysis of video pictures, we divided the healthcate work into scenes and e exctracted the main problems in terms of health care equipment, information, environment, healthcare skills, mental burden, social s system, family burden, ete. Furthermore the questionnaire survey of home helpers (18 persons - 50% answers) clarified that more than half of them have lumbago pains and the biggest load in the everyday healthcare c comes from moving the patients or getting them into or out of t the equipment for moving. Finally we considered concrete proposals appropriate for each h healthcare scene image, based on evaluation toward efficiency (design guidelines) for suitable healthcare equipment for aged people at their homes: 1) Design toward a proper posture 2) Design toward self-help possibility 3) Design toward patient active participation 4) Design toward rationality of the whole process 5) Design toward place-appropriate healthcare equipment 6) Design toward healing of mind 7) Good level of healthcare skills 8) Economic, systematic rationality

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Plasma Effects on Nucleation of the RPCVD/MOCVD Copper Films

  • 이종현;이정환;손승현;박병남;배성찬;최시영
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.132-132
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    • 2000
  • Cu는 Al에 비하여 낮은 저항(1.8 $\mu$$\Omega$-cm)과 높은 EM 저항성을 가지고 있어 미래의 고속 ULSI 배선물질로 그 중요성이 더욱 증가되고 있으며, 현재까지 많은 연구가 진행되고 있다. 따라서, 본 논문에서는 이러한 방법들을 고려하여 CVD Cu의 문제점인 낮은 성장률의 개선과 Cu 박막의 특성을 향상하고자 수소 플라즈마 공정을 이용하여 plasma 전처리가 초기 Cu 핵생성에 미치는 영향에 대하여 연구하였다. 본 실험에 사용된 장비는 Cu RPCVD/MOCVD이다. 초기 Cu 핵의 생성에 있어서의 수소 플라즈마의 효과를 조사하기 위하여 다음과 같은 3가지의 방법으로 행하였다. 첫 번째는 Cu 박막 형성에서 플라즈마를 사용하지 않은 방법, 두 번째는 플라즈마 전처리공정을 행한 뒤, Cu 박막 증착시 플라즈마는 사용하지 않은 방법, 세 번재는 플라즈마 전처리공저을 행한 뒤 Cu 증착시에도 플라즈마를 사용한 방법이다. 이 세가지 방법의 핵생성 차이를 분석하기 위해서 각각 10초, 20초, 40초 증착시킨 후 grain의 크기와 개수를 비교하였다. 또한 플라즈마의 power에 따른 Cu 핵생성율도 조사하였다. 수소 전처리동안 working pressure는 10분 동안 1 torr로 유지되었으며 substrate의 온도는 20$0^{\circ}C$, r.f.power는 100watt로 설정하였다. Cu RPCVD의 증착조건은 r.f.power는 10watt, substrate의 온도는 20$0^{\circ}C$, gas pressure는 1 torr, Ar carrier gas는 50sccm, hydrogen processing gas는 100sccm, bubbler 온도는 4$0^{\circ}C$, gas line의 온돈느 6$0^{\circ}C$, shower head의 온도는 $65^{\circ}C$로 설정하였다. 증착된 Cu 박막은 SEM, XRD, AFM를 통해 제작된 박막의 특성을 비교.분석하였다. 초기 plasma 처리를 한 경우에는 그림 1에서와 같이 현저히 증가한 초기 구리 입자들이 관측되었으며, 이는 도상 표면에 활성화된 catalytic site의 증가에 기인한다고 보여진다. 이러한 특성은 Cu films의 성장률을 향상시키고, 또한 voids를 줄여 전기적 성질 및 surface morphology를 향상시키는 것으로 나타났다.

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