Background: The hemi-body electron beam irradiation (HBIe-) technique has been proposed for the treatment of mycosis fungoides. It spares healthy skin using an electron shield. However, shielding electrons is complicated owing to electron scattering effects. In this study, we developed a thimble-like head bolus shield that surrounds the patient's entire head to prevent irradiation of the head during HBIe-. Materials and Methods: The feasibility of a thimble-like head bolus shield was evaluated using a simplified Geant4 Monte Carlo (MC) simulation. Subsequently, the head bolus was manufactured using a three-dimensional (3D) printed mold and Ecoflex 00-30 silicone. The fabricated head bolus was experimentally validated by measuring the dose to the Rando phantom using a metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET) detector with clinical configuration of HBIe-. Results and Discussion: The thimble-like head bolus reduced the electron fluence by 2% compared with that without a shield in the MC simulations. In addition, an improvement in fluence degradation outside the head shield was observed. In the experimental validation using the inhouse-developed bolus shield, this head bolus reduced the electron dose to approximately 2.5% of the prescribed dose. Conclusion: A thimble-like head bolus shield for the HBIe- technique was developed and validated in this study. This bolus effectively spares healthy skin without underdosage in the region of the target skin in HBIe-.
A dynamic range extension technique is proposed based on a 3-transistor active pixel sensor (APS) with gate/body-tied p-channel metal oxide semiconductor field effect transistor (PMOSFET)-type photodetector using a feedback structure. The new APS consists of a pseudo 3-transistor APS and an additional gate/body-tied PMOSFET-type photodetector, and to extend the dynamic range, an NMOSFET switch is proposed. An additional detector and an NMOSFET switch are integrated into the APS to provide negative feedback. The proposed APS and pseudo 3-transistor APS were designed and fabricated using a $0.35-{\mu}m$ 2-poly 4-metal standard complementary metal oxide semiconductor (CMOS) process. Afterwards, their optical responses were measured and characterized. Although the proposed pixel size increased in comparison with the pseudo 3-transistor APS, the proposed pixel had a significantly extended dynamic range of 98 dB compared to a pseudo 3-transistor APS, which had a dynamic range of 28 dB. We present a proposed pixel that can be switched between two operating modes depending on the transfer gate voltage. The proposed pixel can be switched between two operating modes depending on the transfer gate voltage: normal mode and WDR mode. We also present an imaging system using the proposed APS.
The method of passivation for protecting the $Hg_{l-x}Cd_xTe$ surface is important device fabrication process, because the surface components are highly reactive leading to its chemical and electrical instability. Especially, the material of which composition is x=0.2 or 0.3, is narrow bandgap semiconductor and used as detector of infrared radiation. The device performance of narrow bandgap semiconductors are largely governed by the properties of the semiconductor surface. The electro-chemical processing of $Hg_{l-x}Cd_xTe$ allows rigorous control of the surface chemistry and provides an in-situ monitor of surface reaction. So electro-chemical reduction at specific potential can selectively eliminate the undesirable species on the surface and manipulated to reproducibly attain the desired stoichiometry. This method shows to assess the quality or chemically treated $Hg_{l-x}Cd_xTe$ good surface.
본 논문에서는 가시광선과 원적외선 전반의 파장대역에 걸쳐 사용 가능한 동축 듀얼카메라를 설계 및 분석하였다. 광학계는 빔 스플리터를 이용한 동축광학계 시스템으로 설계되었으며, 가시광선 광학계에서 적외선으로 인한 열 전달을 최소화하기 위해 hot mirror 타입의 빔 스플리터를 사용하였다. 원적외선 카메라는 비냉각형 검출기로 640×480의 센서 배열을 가지고, 가시광선은 1,945×1,097의 센서를 사용한다. 최적화 과정을 거친 후 최종 설계된 광학계의 정합도는 90% 이상이며, 기존에 존재하던 듀얼카메라에 비해 정합도가 향상된 효율적인 설계 결과를 얻었고, 테스트를 통해 향상된 정합도를 확인하였다.
본 연구에서는 영남지역 해수욕장의 모래 시료 중에 함유되어 있는 방사능 농도를 측정하였다. 해수욕장에서 채취한 모래 표본은 영남지역의 유명해수욕장 8곳을 대상으로 선정하였다. 모래 표본을 반도체검출기인 고순도게르마늄검출기(HPGe)에 넣어 다채널분석기(MCA)를 이용한 정밀 감마 방사성핵종 분석을 실시했다. 방사선핵종의 농도를 측정하기 위해 측정 시간을 8,000 초로 설정하여 스펙트럼 파일을 얻어서 감마 방사성핵종의 농도를 분석하였다. 연구결과 8곳 해변 모두 TI-208의 방사능이 가장 높았다. 결론적으로 영남지역 해수욕장 모래표본에서 검출된 방사성핵종은 자연 방사성핵종이지만 인체 내부에 영향을 미칠 수 있다. 따라서 지속적으로 조사할 필요가 있다.
Seo, Jin-Cheol;Moon, Yong-Hwan;Seo, Joon-Hyup;Jang, Jae-Young;An, Taek-Joon;Kang, Jin-Ku
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제13권3호
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pp.185-192
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2013
In this paper, a clock and data recovery (CDR) circuit that supports triple data rates of 1.62, 2.7, and 5.4 Gbps for DisplayPort 1.2 standard is described. The proposed CDR circuit covers three different operating frequencies with a single VCO switching the operating frequency by the 3-bit digital code. The prototype chip has been designed and verified using a 65 nm CMOS technology. The recovered-clock jitter with the data rates of 1.62/2.7/5.4 Gbps at $2^{31}$-1 PRBS is measured to 7/5.6/4.7 $ps_{rms}$, respectively, while consuming 11 mW from a 1.2 V supply.
Yun, Il-Gu;Carastro, Lawrence A.;Poddar, Ravi;Brooke, Martin A.;May, Gary S.;Hyun, Kyung-Sook;Pyun, Kwang-Eui
ETRI Journal
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제22권1호
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pp.38-46
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2000
The extraction of model parameters for embedded passive components is crucial for designing and characterizing the performance of multichip module (MCM) substrates. In this paper, a method for optimizing the extraction of these parameters using genetic algorithms is presented. The results of this method are compared with optimization using the Levenberg-Marquardt (LM) algorithm used in the HSPICE circuit modeling tool. A set of integrated resistor structures are fabricated, and their scattering parameters are measured for a range of frequencies from 45 MHz to 5 GHz. Optimal equivalent circuit models for these structures are derived from the s-parameter measurements using each algorithm. Predicted s-parameters for the optimized equivalent circuit are then obtained from HSPICE. The difference between the measured and predicted s-parameters in the frequency range of interest is used as a measure of the accuracy of the two optimization algorithms. It is determined that the LM method is extremely dependent upon the initial starting point of the parameter search and is thus prone to become trapped in local minima. This drawback is alleviated and the accuracy of the parameter values obtained is improved using genetic algorithms.
In a treatment planning for actual patients with a complex internal structure, we often expect that proton beams, which pass through both a bolus and the heterogeneity in body, will form complex dose distributions. Therefore, the accuracy of the calculated dose distributions has to be verified for such a complex object. Then dose distributions formed by proton beams passing through both the bolus and phantoms simulating a clinical heterogeneity in patients were measured using a silicon semiconductor detector. The calculated results by the range-modulated pencil beam algorithm (RMPBA) produced large errors compared with the measured dose distributions since dose calculation using the RMPBA could not predict accurately the edge-scattering effect both in the bolus and in clinical heterogeneous phantoms. On the other hand, in spite of this troublesome heterogeneity, calculated results by the simplified Monte Carlo (SMC) method reproduced the experimental ones well. It is obvious that the dose-calculations by the SMC method will be more useful for application to the treatment planning for proton therapy.
The purpose of this study is to compare the quality of digital radiography image with that of classical film images for welded structure in power plants. The CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) flat panel detecter and Agfa D5 film are used to image flaw specimens respectively. In the test, CMOS flat panel detector has been determined to have a better image than that of film image. In the IQI(Image Quality Indicator) transmission test, one or two more line can be seen in digital image than in film image. Digital Radiography Test enabled to successfully detect all defects on the weld specimens fabricated with real reheat stem pipe and boiler tube as well. In the specific comparison test, Digital radiography test detected micro flaws in the size of 0.5 mm in length by 0.5 mm in depth. However, film test has limited it to 1.0 mm in length by 1.0 mm in depth. As a result of this study, digital radiography technology is estimated well enough to perform the inspection in the industry with far more cost effective way, compared to the classical film test.
한국마이크로전자및패키징학회 2000년도 Proceedings of 5th International Joint Symposium on Microeletronics and Packaging
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pp.29-33
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2000
MEMS, Micro Electro-Mechanical Systems, present one of the greatest advanced packaging challenges of the next decade. Historically hybrid technology, generally thick film, provided sensors and actuators while integrated circuit technologies provided the microelectronics for interpretation and control of the sensor input and actuator output. Brought together in MEMS these technical fields create new opportunities for miniaturization and performance. Integrated circuit processing technologies combined with hybrid design systems yield innovative sensors and actuators for a variety of applications from single crystal silicon wafers. MEMS packages, far more simple in principle than today's electronic packages, provide only physical protection to the devices they house. However, they cannot interfere with the function of the devices and often must actually facilitate the performance of the device. For example, a pressure transducer may need to be open to atmospheric pressure on one side of the detector yet protected from contamination and blockage. Similarly, an optical device requires protection from contamination without optical attenuation or distortion being introduced. Despite impediments such as package standardization and complexity, MEMS markets expect to double by 2003 to more than $9 billion, largely driven by micro-fluidic applications in the medical arena. Like the semiconductor industry before it. MEMS present many diverse demands on the advanced packaging engineering community. With focused effort, particularly on standards and packaging process efficiency. MEMS may offer the greatest opportunity for technical advancement as well as profitability in advanced packaging in the first decade of the 21st century! This paper explores MEMS packaging opportunities and reviews specific technical challenges to be met.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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