With the advancement of micro-systems and nanotechnology, the need for ultra-precision fabrication techniques has been steadily increasing. In this paper, a novel nano-structure fabrication process that is based on the fundamental understanding of nano-scale tribological interaction is introduced. The process, which is called Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography (MC-SPL), has two steps, namely, mechanical scribing for the removal of a resist layer and selective chemical etching on the scribed regions. Organic monolayers are used as a resist material, since it is essential for the resist to be as thin as possible in order to fabricate more precise patterns and surface structures. The results show that high resolution patterns with sub-micrometer scale width can be fabricated on both silicon and various metal surfaces by using this technique.
주사탐침현미경 (Scanning Probe Microsope, SPM)을 이용하여 직접 패터닝을 함으로써 hexanedithiol 분자의 임의 패턴을 금 표면에 형성하였다. 또한, hexanedithiol 분자는 양단에 thiol 그룹이 존재하여 금과 안정화 화학결합을 이룰 수 있으므로, 금 표면과결합을 이루고 있지 않는 상단의 thiol 그룹에 금 나노 입자를 고정함으로써 나노입자의 패턴을 제작하였다. SPM을 이용한 직접 패터닝 방법은 분자활성을 유지한 채로 임의 패턴을 수십 nm의 선폭으로 구현하는 것이 가능하므로, 나노입자 배열뿐만 아니라, 생화학물질의 패터닝을 통한 바이오 기술연구, 레지스트용 분자 패터닝과 시각 및 흡착 등의 계속적인 공정을 통한 다양한 나노구조 제작 등에 폭넓게 활용될 수 있다.
A nanopatterning technique was proposed and demonstrated for low cost and mass productive process using the scanning probe lithography (SPL) and soft lithography. The nanometer scale structure is fabricated by the localized generation of oxide patterning on the H-passivated (100) silicon wafer, and soft lithography was performed to replicate of nanometer scale structures. Both height and width of the silicon oxidation is linear with the applied voltagein SPL, but the growth of width is more sensitive than that of height. The structure below 100 nm was fabricated using HF treatment. To overcome the structure height limitation, aqueous KOH orientation-dependent etching was performed on the H-passivated (100) silicon wafer. Soft lithography is also performed for the master replication process. Elastomeric stamp is fabricated by the replica molding technique with ultrasonic vibration. We showed that the elastomeric stamp with the depth of 60 nm and the width of 428 nm was acquired using the original master by SPL process.
The storing ability of information of optical disks directly depends on the physical property of recording unit cells. It means that the degradation of optical disks ultimately causes the loss of the physical and chemical properties of recording unit cells and leads also information, too. We investigated the degradation and life time of optical disks which tell us the longevity of the preservation of information. Optical disks were aged using the accelerated aging system and studied by optical reflectivity spectroscopy and atomic force microscopy(AFM), and the preservation environment of electronic media in National central library of Korea also were analysed. Results show that the double reflective coated optical disks have good preservation of recording information but revealed some deformation of dye area in the AFM images. It means that we should include the mechanical and chemical degradation of the optical disks in the life time expectation evaluation.
An experimental study was carried out to investigate the effect of nano-contact condition on the nano-adhesion phenomena. SPM(scanning probe microscope) tips with different radius of curvature were fabricated by a series of masking and etching processes. DLC(diamond-like carbon) and W-DLC (tungsten-incorporated diamond-like carbon) were coated on (100) silicon wafer by PACVD(plasma assisted chemical vapor deposition). Pull-off forces of Pure Si-wafer, DLC and W-DLC were measured with SPM(scanning probe microscope). Also, the same series of tests were carried out with the tips with different radius of curvature. Results showed that DLC and W-DLC showed much lower pull-off force than Si-wafer and Pull-off force increased with the tip radius.
The current profiles in a coated conductor with transport current were calculated using an iterative inversion method from the data of the magnetic flux density profiles measured. The applied current was increased from 0 to 60 A by 10A step and decreased down to -60A by 20A step. The magnetic flux profiles were measured at a distance of 400 mm above the surface of the coated conductor using a scanning hall probe method. The current profiles calculated were very different from the Bean model: current density profile is not a constant in the critical region. However the aspect of the change of the current and magnetic flux density profiles in the case of decreasing applied current are similar to the theoretical calculations in Brandt's paper.
Massive identification of differentially expressed patterns has been used as a tool to detect genes that are involved in disease related process. We employed circular single stranded sense molecules as probe DNA for a DNA chip. The circular single stranded DNAs derived from 1,152 unigene cDNA clones were purified in a high throughput mode from the culture supernatant of bacterial transformants containing recombinant phagemids and arrayed onto silanized slide glasses. The DNA chip was examined for its utility in detection of differential expression profile by using cDNA hybridization. Hybridization of the single stranded probe DNA were performed with Cy3- or Cy5-labeled target cDNA preparations at $60^\circ$C. Dot scanning performed with the hybridized slide showed 29 up-regulated and 6 down-regulated genes in a cancerous liver tissue when compared to those of adjacent noncancerous liver tissue. These results indicate that the circular single stranded sense molecules can be employed as probe DNA of arrays in order to obtain a precious panel of differentially expressed genes.
Demand for high precision measurement of large area is increasing in many industrial fields. White-light Scanning Interferometer(WSI) is a well-known method for 3D profile measurement. However WSI has some limitations in a measurement range because of the sensing mechanism. Therefore, in this paper we use a heterodyne laser interferometer to get over the limitations of a short measurement range in WSI, We suggest a new WSI system combined with heterodyne laser interferometer. This system is aimed at eliminating Abbe error with measuring the focus point directly. With the use of triggering functionality of WSI, we can use this system as a probe of a precision stage such as a probe of CMM. The suggested system gives a repeatability of 87 nm in the absolute distance measurement test under the laboratory environment.
Nam Hyo-Jin;Kim Young-Sik;Lee Caroline Sunyong;Jin Won-Hyeog;Jang Seong-Soo;Cho Il-Joo;Bu Jong-Uk
정보저장시스템학회논문집
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제1권1호
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pp.73-77
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2005
In this paper, a new silicon nitride cantilever integrated with silicon heater and piezoelectric sensor has been firstly developed to improve the uniformity of the initial bending and the mechanical stability of the cantilever array for thermo-piezoelectric SPM(scanning probe microscopy) -based data storages. This nitride cantilever shows thickness uniformity less than $2\%$. Data bits of 40 nm in diameter were recorded on PMMA film. The sensitivity of the piezoelectric sensor was 0.615 fC/nm after poling the PZT layer. For high speed operation, 128${\times}$128 probe array was developed.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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