• Journal of Animal Science and Technology
• /
• 제45권2호
• /
• pp.211-218
• /
• 2003

본 연구는 양돈사료내 대두박 항영양인자인 $\alpha$-galactosides와 galatomannan의 분해를 유도하는 $\alpha$-1,6-galactosidase와 $\beta$-1,4-mannanase의 사료내 첨가가 자돈 및 육성돈의 성장과 영양소 소화율에 미치는 영향을 조사하기 위하여 실시하였다. 시험 1은 개시시 체중 10.57$\pm$0.30kg의 3원 교잡종 자돈 60두를 공시하였으며, 시험설계는 옥수수－건조유청－대두박 위주의 사료에 NRC (1998)의 영양소 요구량에 따라 처리한 대조구 (CON), 대조구 사료내 복합효소제를 0.1% 첨가한 처리구로 하였다. 사양시험기간동안, 일당증체량에 있어서는 대조구와 비교하여 EC0.1 처리구가 높은 것으로 평가되었으나 유의적인 차이는 보이지 않았다. 그러나 사료효율에 있어서는 대조구와 비교하여 EC0.1 처리구가 유의적으로 높게 평가되었다 (P<0.05). 건물과 질소 소화율에 있어서 대조구와 비교하여 처리구가 향상된 것으로 조사되었다 (P<0.05). 시험 2는 개시시 체중 22.30$\pm$0.45kg의 3원 교잡종 육성돈 36두를 공시하였으며, 시험설계는 옥수수－대두박 위주의 사료에 NRC (1998)의 영양소 요구량에 따라 처리한 대조구 (AME, adequate ME diet), 대조구 사료내 복합효소제를 0.1% 첨가한 처리구 (AME+EC0.1, Adequate ME diet+ 0.1% 복합효소제), 대조구 사료에서 대사에너지 함량을 4% 낮춘 사료에 복합효소제를 0.1% 첨가한 처리구 (LME+EC0.1, Low ME diet + 0.1% 복합효소제)로 하였다. 총 30일간의 사양시험 기간동안, 일당증체량에 있어서는 AME 처리구와 비교하여 복합효소제 처리구가 유의적인 성장율이 높은 것으로 조사되었다 (P<0.05). 건물 및 질소 소화율에 있어서는 AME 처리구와 비교하여 복합효소제 첨가구가 유의적으로 높게 평가되었다 (P<0.05). 결론적으로, 자돈 및 육성돈 사료에 복합효소제의 첨가는 성장능력 및 영양소 소화율을 향상시키는 것으로 사료된다.

• 유기물자원화
• /
• 제11권4호
• /
• pp.120-129
• /
• 2003

0.3M의 옥살산 용액에서 anodic alumina를 제작하였으며 barrier 층을 제거하기 위하여 20wt% 황산 용액에서 한시간 동안 방치시켰다. 이 anodic alumina를 전극으로 사용하여 수용액에서 $Cd^{2+}$, $Co2^{+}$ 및 $Pb^{2+}$이온들을 환원시켜 제거하였다. XRD와 SBM으로 anodic alumina의 구조를 분석하였고, SEM 결과 anodic alumina에는 60nm의 pore가 존재함을 확인할 수 있었으며, 20wt% 황산 용액으로 처리 후 anodic alumina의 표면이 황산에 약간 녹기 때문에 anodic alumina의 표면의 규칙성이 떨어지는 결과를 보였다. anodic alumina를 음극, 그리고 탄소를 양극으로 각각 사용하여 $Cd(NO_3)_2{\cdot}4H_2O$, $Co(NO_3)_2{\cdot}6H_2O$ 및 $PbSO_4$ 수용액에 24시간동안 직류전류를 흘려주었을 때, 전류를 흘려준 시간에 따라 전압이 각각 4.6, 3.4 및 5.1V 까지 증가하다가 4.2, 2.7 및 2.4V로 일정해지는 결과를 얻었다. 전류를 흘려준 시간이 18시간까지는 시간이 증가할수록 용액내의 금속이온의 농도는 감소하였으며 음극인 anodic alumina의 표면에 각 금속들이 석출되는 것을 확인할 수 있었다. anodic alumina로 금속이온을 제거한 수용액을 retriculate vitreous carbon(RVC)를 작업전극으로 하는 flow cell로 제2차 금속이온 제거를 수행하였다. $Cd^{2+}$ 와 $Co^{2+}$이온의 농도는 용액을 flow cell에 20분간 흘려줄 때까지만 감소하였고 $Pb^{2+}$이온 농도는 30분까지 감소하였다. 이 경우 $Cd^{2+}$, $Co^{2+}$ 및 $Pb^{2+}$이온들 제거효율은 각각 34.78, 28.79 및 86.38% 이었다. 또한 $Cd^{2+}$ 와 $Co^{2+}$이온이 동시에 RVC전극에 흡착 가능한 결과를 보였으며 제거효율은 32.30 및 31.37% 이었다.

• 한국재료학회지
• /
• 제11권5호
• /
• pp.367-371
• /
• 2001

RF magnetron sputtering 법으로 T $a_2$ $O_{5}$ 세라믹 타겟과 S $r_2$N $b_2$ $O_{7}$ 세라믹 타겟을 동시 sputtering하여 저유전율 S $r_2$(T $a_{1-x}$ , N $b_{x}$)$_2$ $O_{7}$(STNO) 박막을 p-type Si (100) 기판 위에 증착하여 NDRO 강유전체 메모리 (Non-destructive read out ferro-electric random access memory)에 사용되는 Pt/STNO/Si (MFS) 구조의 응용 가능성을 확인하였다. Sr$_2$Nb$_2$ $O_{7} (SN O)$ 타겟과 T $a_2$ $O_{5}$ 타겟의 출력의 비를 100w/100w, 70w/100w, 그리고 50w/100w로 조절하면서 x 값을 달리하여 조성을 변화시켰다. 성장된 박막을 8$50^{\circ}C$, 90$0^{\circ}C$, 그리고 9$50^{\circ}C$에서 1시간 동안 산소 분위기에서 열처리하였다. 조성과 열처리 온도에 따른 구조적 특징을 XRD에 의해 관찰하였으며 표면특성은 FE-SBM에 의해 관찰하였고, C-V 측정과 I-V 측정으로 박막의 전기적 특성을 조사하였다. SNO 타겟과 T $a_2$ $O_{5}$ 타켓의 출력비에 따른 STNO 박막의 성장 결과 70W/170W의 출력비에서 성장된 STNO박막에서 Ta의 양이 상대적 맡은 x=0.4였으며 가장 우수한 C-V 특성 및 누설 전류 특성을 보였다. 이 조성에서 성장된 STNO박막은 3-9V외 인가전압에서 메모리 윈도우 갑이 0.5-8.3V였고 누설전류밀도는 -6V의 인가전압에서 7.9$\times$10$_{-8}$A /$\textrm{cm}^2$였다.