• 제목/요약/키워드: S-doping

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Simultaneous Liquid Chromatography Tandem Mass Spectrometric Determination of 35 Prohibited Substances in Equine Plasma for Doping Control

  • Kwak, Young Beom;Yu, Jundong;Yoo, Hye Hyun
    • Mass Spectrometry Letters
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    • 제13권4호
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    • pp.158-165
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    • 2022
  • Many therapeutic class drugs such as beta-blocker, corticosteroids, NSAIDs, etc are prohibited substances in the horse racing industry. Liquid chromatography-tandem mass spectrometry (LC-MS/MS) technology makes it possible to isolate drugs from interference, enables various drug analyses in complex biological samples due to its sensitive sensitivity, and has been successfully applied to doping control. In this paper, we describe a rapid and sensitive method based on solid-phase extraction (SPE) using solid phase cartridge and LC-MS/MS to screen for different class's 35 drug targets in equine plasma. Plasma samples were pretreated by SPE with the NEXUS cartridge consisted non-polar carbon resin and minimum buffer solvent. Chromatographic separation of the analytes was performed on ACQUITY HSS C18 column (2.1 × 150 mm, 1.8 ㎛). The elution gradient was conducted with 5 mM ammonium formate (pH 3.0) in distilled water and 0.1% formic acid in acetonitrile at a flow rate of 0.25 mL/min. The selected reaction monitoring (SRM) mode was used for drug screening with multiple transitions in the positive ionization mode. The specificity, limit of detection, recovery, and stability was evaluated for validation. The method was found to be sensitive and reproducible for drug screening. The method was applied to plasma sample analysis for the proficiency test from the Association of Racing Chemist.

CHARACTERISTICS OF THE HETEROEPITAXIAL Si1-xGex FILMS GROWN BY RTCVD METHOD

  • Chung, W.J.;Kwon, Y.K.;Bae, Y.H.;Kim, K.I.;Kang, B.K.;Sohn, B.K.
    • 한국진공학회지
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    • 제4권S2호
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    • pp.84-89
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    • 1995
  • The growth and the film characteristics of heteroepitaxial $Si_{1-x}Ge_x$ films growth by the Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition(RTCVD)method are described. For the growth of $Si_{1-x}Ge_x$ heteroepitaxial layers, $SiH_4/GeH_4/H_2$gas mixtures are used. The growth conditions are varied to investigate their effects on the Si/Ge composition ratios, the interface abruptness and crystalline properties. The Si/Ge composition ratios are analyzed with the RBS and the SIMS techniques, and the interface abruptness are deduced from these data. The crystalline properties are analyzed from TEM pictures. The experimental data shows that the crystalline perfection is excellent at the growth temperature of as low as $650^{\circ}C$, and the composition ratios change linearly with $SiH_4/GeT_$$ gas mixing ratios in our experimental ranges. Boron doping experiments are also performed using 200 ppm $B_2H_6$ source gas. The doping profiles are measured with SIMS technique. The SIMS data shows that the doping abruptness can be controlled within about 200$\AA$/decade.

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Flash EEPROM에서 부유게이트의 도핑 농도가 소거 특성에 미치는 영향 (Effects of the Doping Concentration of the Floating Gate on the Erase Characteristics of the Flash EEPROM's)

  • 이재호;신봉조;박근형;이재봉
    • 전자공학회논문지D
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    • 제36D권11호
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    • pp.56-62
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    • 1999
  • Flash EEPROM에서 칩 전체나 또는 칩의 한 블록에 속에 있는 모든 셀들의 소거는 Fowler-Nordheim (FN) 터널링 방식을 사용하여 일괄적으로 수행되고 있다. 이러한 FN 터널링에 의한 소거는 self-limited 공정이 아니기 때문에 일부의 셀들이 심하게 과소거되는 문제가 자주 발생하고 있다. 본 논문에서는 이러한 과소거 문제를 해결하기 위한 부유게이트의 최적 도핑 농도에 관하여 연구하였다. 이러한 연구를 위하여 다양한 도핑 농도를 갖는 n-type MOSFET과 MOS 커패시터를 제작하였고, 이 소자들의 전기적인 특성들을 측정 및 분석하였다. 실험 결과, 부유게이트의 도핑 농도가 충분히 낮다면 ($1.3{\times}10^{18}/cm^3$ 이하) 과소거가 방지될 수 있음을 볼 수 있었다. 이는, 소거시 부유게이트에 저장되었던 전자들의 대부분이 빠져나가면 부유게이트에 공핍층이 형성되어 부유게이트와 소스 사이의 전압 차가 감소하고 따라서 소거가 자동적으로 멈추기 때문이라고 판단된다. 반면에 부유게이트의 도핑 농도가 너무 낮을 경우 ($1.3{\times}10^{17}/cm^3$ 이하)에는 문턱 전압과 gm의 균일도가 크게 나빠졌는데, 이는 부유게이트에서 segregation으로 인한 불순물의 불균일한 손실에 의한 것이로 판단된다. 결론적으로 Flash EEPROM에서 과소거 현상을 방지하고 균일한 문턱 전압과 gm을 갖기 위한 최적의 부유게이트의 도핑 농도는 $1.3{\times}10^{17}/cm^3$에서 $1.3{\times}10^{18}/cm^3$의 범위인 것으로 발견되었다.

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탄소전극의 질소 및 산소 도핑에 따른 바나듐 레독스-흐름전지 양극 및 음극에서의 촉매화학적 특성 연구 (Performance of Carbon Cathode and Anode Electrodes Functionalized by N and O Doping Treatments for Charge-discharge of Vanadium Redox Flow Battery)

  • 임혜빈;김지연;이정석;이두환
    • 청정기술
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    • 제23권3호
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    • pp.308-313
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    • 2017
  • 본 연구에서는 Graphite Felt (GF) 전극의 표면에 산소와 질소의 도핑을 통하여 전기화학적 특성을 개선하고, 이의 촉매화학적 효과를 바나듐 레독스 흐름전지의 양극과 음극의 특성비교를 통하여 관찰하였다. 탄소전극 표면의 산소와 질소 동시 도핑은 GF 샘플을 773 K에서 암모니아-공기 ($NH_3=50%$, $O_2=10%$) 혼합가스에 노출시켜 Chemical Vapor Deposition (CVD) 방법으로 제조하였다. 이러한 산소-질소 동시 도핑의 전기화학적 효과는 산소만으로 도핑 처리된 GF 샘플과 비교하여 분석, 평가하였다. 탄소전극 샘플들의 표면 구조와 화학적 조성은 Scanning Electron Microscopy (SEM)와 X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) 방법을 통하여 분석하였다. 결과물로 얻어진 탄소전극은 바나듐 레독스-흐름전지의 양극과 음극에 동시 적용하여 충-방전 사이클을 진행하고, 각 전극이 흐름전지의 효율과 양극과 음극에서의 전기화학적 특성에 미치는 효과를 비교하여 분석하였다. 산소와 질소의 동시 도핑으로 처리된 GF 전극은 산소만으로 활성화된 전극에 비하여 흐름전지의 전압 및 에너지 효율에서 2% 이상의 향상 효과를 보여주었다. 특히, 탄소전극 표면의 산소-질소의 동시 도핑은 음극반응에서 우수한 전기화학적 특성을 유도하는 것을 확인하였다.

$Sb_2S_3$ 박막과 Ag 도핑한 $Sb_2S_3$ 박막의 광학적인 특성 (Optical Properties of $Sb_2S_3$ and Ag Doped $Sb_2S_3$ Thin Films)

  • 김종기;박정일;이현용;이영종;정홍배
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1999년도 하계학술대회 논문집 D
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    • pp.1959-1961
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    • 1999
  • We prepared the $Ag[100\AA])/Sb_2S_3[3000\AA]$ films using the thermal evaporator. The films were exposed by the blue-pass filtered mercury lamp and the polarized He-Ne laser. We have investigated the dependence of the induced optical energy with Ag-doping and have observed the transmittance variation near the optical absorption edge with the light source. It was shown that the energy gap of this thin film was largely changed by exposing He-Ne laser, the light source of the near energy gap of this thin film. It is because of the structural change from Ag-doping. It is investigated that the dissolution, the diffusion, and the field effect of the Ag thin film generate the Ag spatial distribution.

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n-CdS/p-InP 태양전지에 관한 연구 (A study on the n-CdS/p-InP solar cells)

  • 송복식;최영복;한성준;문동찬;김선태
    • E2M - 전기 전자와 첨단 소재
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    • 제8권4호
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    • pp.406-412
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    • 1995
  • A n-CdS thin films were evaporated by thermal evaporation method and their structure, optical transmission spectra and electrical characteristics were investigated. The photovoltaic characteristics of solar cells which were fabricated in optimum conditions measured. The evaporated CdS thin films showed in hexagonal structure and above 80% of optical transmission spectra regardless of impurity doping. The high quality thin films could be obtained at 150.deg. C temperature of substrate, which is useful for solar cell window layer with low resistivity of 6*10$\^$-2/(.ohm.-cm) by In doping We measured the electrical and optical characteristics of the n-CdS/p-InP heterojunction solar cells. The most efficient photovoltaic characteristics of heterojunction solar cells had the open circuit voltage of 0.66V, short circuit current density of 13.85mA/cm$\^$2/, fill factor of 0.576 and conversion efficiency of 8.78% under 60mW/cm$\^$2/ illumination.

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비정질 박막에 대한 도핑 조건의 영향 및 미세구조와 I-V 연구 (Effect of Dopping Conditions on a-Se Thin-Films : Microstructural and I-V Study)

  • 박성광;박지군;강상식;공현기;김진섭;남상희
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집 Vol.14 No.1
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    • pp.492-496
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    • 2001
  • Due to their better photosensitivity in X-ray, the amorphous selenium based photoreceptor is widely used on the X-ray conversion materials. It was possible to control the charge carrier transport of amorphous selenium by suitably alloying a-Se with other elements(e,g. As, Cl). In this paper, We investigated dopants(As, Cl) composition rate to improve dark resistivity and transport properties of charge carrier in amorphous selenium using by direct X-ray conversion material. Alloying a-Se with As inhibits the recrystallization of a-Se but introduces undesirable deep hole traps. then doping with Cl(in the ppm range) compensates for the deep hole traps. We investigated their composition rate in various doping conditions and then obtained optimum dopant composition rate. The result was Se-As 0.3%-c] 30 ppm and X-ray Sensitivity was 0.57 pC/$pixel{\cdot}mR$ at $137{\mu}m{\times}137{\mu}m$ Pixel area.

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$N-TiO_2$ 광촉매의 제조와 광촉매 활성 검토 (Preparation of $N-TiO_2$ Photocatalysts and Activity Test)

  • 강영구;신기석;안성환;함현식
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제29권3호
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    • pp.466-472
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    • 2012
  • 가시광선에 감응하는 광촉매를 제조하기 위하여 $TiO_2$에 질소(N)를 도핑하여 $N-TiO_2$를 제조하였다. 제조한 광촉매의 결정성, 입자 형상 및 도핑 상태는 XRD, FE-SEM 및 XPS를 이용하여 조사하였다. 제조한 광촉매의 활성 평가는 메틸렌블루의 광분해로 조사하였다. 제조한 광촉매는 anatase type이었으며, pH가 높을수록 결정화도가 향상되었다. 제조한 광촉매의 입자 크기는 pH 2.0에서 5.42 nm, pH 4.7에서 5.99 nm, pH 9.0에서 7.58 nm로, 입자 크기는 pH가 증가 할수록 약간씩 증가하였다. 광촉매의 활성은 결정화도에 비례하였다. $TiO_2$에 N를 도핑하여 제조한 $N-TiO_2$가 가시광선 하에서도 활성을 나타냈다. $TiO_2$에 도핑한 N는 격자 속에 존재하는 것이 아니라 표면에 존재하였다.