Quantum-dot materials have introduced novel applications in organic light-emitting diodes and solar cells. The size controllability and structure modifications have continuously been upgrading the applicability to optoelectronic and flat-panel displays. In particular, quantum-dot organic light-emitting diodes (QLEDs) are a device driven through the electrical field applied to the electrical diodes. The QLEDs are affected by the constituent materials and the corresponding device structures. Conventionally, the electrical properties are characterized only in terms of dc-based current-voltage characteristics. The dynamic change in light-emitting diodes should be characterized in emitted and non-emitted states. Therefore, the frequency-dependent impedance can offer different information on the electrical performance in QLED. The current work reports an auxiliary information on the electrical and optical features originating from quantum-dot organic light-emitting diodes. The empirical characterizations are discussed towards an experimental tool in optimizing the light-emitting diodes.
A poly[bis(4-butypheny)-bis(phenyl)benzidine] (poly-TPD) and poly(9-vinylcarbazole) (PVK) bilayer was employed as a hole transport layer (HTL) in solution-processed CdSe/ZnS quantum dot light-emitting diodes (QLEDs). The thickness of the PVK layer spin-coated onto the poly-TPD layer, whose thickness was fixed to 40 nm, was varied, with PVK layer thicknesses of 0 nm, 35 nm, 45 nm, and 55 nm. Because the thickness of the PVK can determine the hole transport properties of the HTL, a PVK thickness that maximizes the performance of the HTL for the QLEDs was investigated. By employing the optimized PVK thickness of 45 nm, the current efficiency of the QLED exhibited a 1.74 times improvement when compared with that of the QLED with poly-TPD based HTL without PVK. This was mainly attributed to the decrease in the energy barrier between the HTL and the quantum dot (QD) emitting layer (EML).
We investigated the electrical characteristics of ZnO nanoparticles (NPs) with air exposure that is a widely used electron transport layer for quantum dot light-emitting diodes (QLEDs). Upon air exposure, we observed changes in the density of states (DOS) of the trap levels of ZnO NPs. In particular, with air exposure, the concentration of deep trap energy levels in ZnO NPs decreased and electron mobility significantly improved. Consequently, the air-exposed ZnO reduced leakage current by approximately one order of magnitude and enhanced the external quantum efficiency at the low driving voltage region of the QLED. In addition, based on the excellent conductivity properties, high-brightness QLEDs could be achieved.
본 연구에서는 SnO2 nanoparticles (NPs) 위에 TiO2 NPs를 코팅하여 Quantum Dots Light Emitting Diodes (QLEDs)를 제작하였다. TiO2 NPs는 SnO2 NPs보다 conduction band minimum (CBM) 준위가 낮다. 따라서 SnO2 층과 발광층의 CBM 준위 사이에 위치해 에너지 장벽을 감소시키고, 전자의 이동을 원활하게 할 것으로 예상하였다. QLEDs는 inverted 구조로 제작되었으며, SnO2 단일층을 사용한 경우보다 발광 특성이 향상된 것을 확인하였다. 이중 전자수송층을 적용한 이번 연구를 통해 SnO2를 QLEDs에 전자수송층으로 적용할 수 있을 것으로 기대한다.
양자점 패터닝 기술은 최근 QLED, 센서, laser, 태양전지, 양자컴퓨터 등을 포함한 광전자 응용분야에서 많은 수요가 예상되고 있다. 최근 양자점 패터닝을 위한 다양한 기술이 등장했지만 여전히 실제 산업에 적용에는 힘든 실정이다. 1~100 ㎛에 걸친 다양한 패턴 크기를 구현할 수 있는 전사프린팅은 대면적화가 어렵고 공정과정 중 발생할 수 있는 양자점 필름의 불완전한 박리 문제로 인한 패터닝 수율 문제가 보고 되고 있다. 기존 반도체 공정을 활용할 수 있는 포토리소그래피를 활용한 양자점 패터닝은 초고해상도로 픽셀을 패터닝 할 수 있다는 장점이 있지만, 포토레지스트를 제거하기 위해 쓰이는 용매에 의해 양자점 패턴 자체가 손상될 수도 있고 오염되어 광 효율이 낮아질 수 있다는 우려가 있다. 포토레지스트를 사용하지 않고 양자점의 용해도를 활용한 직접 광경화 공정이 주목받았지만, 패터닝 과정 중 생기는 결함과 비방사성 재결합으로 인해 양자점의 발광 효율이 떨어진다는 단점이 있어 표면 처리 등의 연구가 더욱 요구된다. 잉크젯 프린팅은 대면적화가 쉽고 상대적으로 경제적이라는 장점이 있으나 패턴의 불균일성과 낮은 해상도의 단점이 있다. 다양한 양자점 패터닝 방법 기술개발을 통해 QLED 소자에만 국한되는 것이 아니라 태양전지, 양자 통신, 양자 컴퓨터 등에도 적용이 기대된다.
Quantum Dot Light-Emitting Diodes (QLEDs)는 제조 공정이 용액 공정을 기반으로 하기 때문에 잉크젯 공정에 쉽게 적용할 수 있다. 하지만 QLED의 적층은 서로 다른 용매를 사용하는 직교 공정이 필요하기 때문에 잉크젯 인쇄 공정이 더 복잡하며 비용이 상승한다. 따라서 한 번의 공정으로 두 개의 층을 증착하면 제조 단계를 줄일 수 있어 공정 시간이 절감된다. 이 연구에서 우리는 QD와 정공 수송 재료의 혼합물을 사용하여 standard 구조의 QLED를 제작하였다. TFB와 QD를 클로로벤젠에 분산시켜 혼합층에 사용하였고, 소자는 45,850 cd/m2의 최고 휘도를 나타내었다. 이 연구는 잉크젯 프린팅 공정을 적용하여 전계발광 장치를 제작할 수 있는 가능성을 확인하였다.
양자점은 수 나노미터 크기의 반도체 나노입자로 우수한 발광 특성 및 색순도, 간단한 밴드갭 조절의 장점 때문에 이를 발광원으로 사용한 양자점 디스플레이가 차세대 디스플레이로 주목받고 있다. 하지만 전하 주입 불균형 문제로 인해서 소자의 효율 및 안정성에 큰 문제가 발생하고 이를 해결하기 위한 많은 연구가 진행되었다. 본 논문에서는 전자 및 정공 수송층에 중간층을 삽입하여 양자점 디스플레이의 발광과 수명 특성을 향상시킨 연구와 정공 수송층의 구조 변화를 통해서 정공 수송 능력을 향상시킨 연구들에 대해서 소개하고자 한다.
Colloidal quantum dots (QDs) have gained tremendous attention as a key material for highly advanced display technologies. The performance of QD light-emitting diodes (QLEDs) has improved significantly over the past two decades, owing to notable progress in both material development and device engineering. The brightness of QLEDs has improved by more than three orders of magnitude from that of early-stage devices, and has attained a value in the range of traditional inorganic LEDs. The emergence of high-luminance (HL) QLEDs has induced fresh demands to incorporate the unique features of QDs into a wide range of display applications, beyond indoor and mobile displays. Therefore it is necessary to assess the present status and prospects of HL-QLEDs, to expand the application domain of QD-based light sources. As part of this study, we review recent advances in HL-QLEDs. In particular, based on reports of brightness exceeding 105 cd/㎡, we have summarized the major approaches toward achieving high brightness in QLEDs, in terms of material development and device engineering. Furthermore, we briefly introduce the recent progress achieved toward QD laser diodes, being the next step in the development of HL-QLEDs. This review provides general guidelines for achieving HL-QLEDs, and reveals the high potential of QDs as a universal material solution that can enable realization of a wide range of display applications.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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