Ni coating was carried out by pulse plating at room temperature. So, experimental conditions for Ni-coating were based on Watt's bath, and new additives(propionic acid) were introduced in the Watt's bath electrolyte as $H_3$$BO_3$ alternatives. By adding propionic acid, coating layer demonstrated a good adhesion and uniformity without special pre-treatment of the 316L stainless steel at room temperature. With a decrease of amount of propionic acid and applied average current density, cathode current efficiency increased. Also, edge effect was decreased with decreasing a peak current and increasing a pulse frequency in the same bath condition. It was found that the optimum condition for Ni coating was a current density of 10~20mA/$\textrm{cm}^2$ at below 500 mA peak current in the $5m\ell/\ell$ propionic acid solution.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.17
no.4
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pp.83-88
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2010
The composite electroplating is accomplished by adding inert materials during the electroplating. Permalloy is the term for Ni-Fe alloy and it is used for industrial applications due to its high magnetic permeability. Microhardness for microdevices is enhanced after composite coating and it increases the life cycle. However, the hydroxyl group on the silica makes their surface susceptible to moisture and it causes the silica nanoparticles to be agglomerated in the aqueous solution. The agglomeration problem causes poor dispersion which eventually interrupts uniform deposition of silica nanoparticles. In this study, the dispersion of silica nanoparticles in the permalloy electroplated layer is reported with variation of additives and sonication time. Longer sonication period guaranteed better silica nanopowder dispersion and sonication period also influenced on composition of deposits. The amount of silica nanopowder codeposition and surface morphologies were influenced with variation of additives. In alkaline bath, smooth surface morphology and relatively high contents of silica nanopowder codeposition were obtained with addition of sodium lauryl sulfate.
Shim, Byeong Yun;Kim, Hanul;Han, Chang Nam;Jang, Young Bae;Yun, Jeong Woo
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.23
no.4
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pp.79-85
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2016
It is imperative to find environment-friendly coatings as an alternative to the currently used hexavalent chromate conversion coatings for the purpose of improving the anti-corrosion properties of aluminum alloys. Hence, in this study, the corrosion properties of a trivalent chromate conversion coating solution are analyzed and measured. Because of the presence of multiple components in trivalent chromate conversion coating solutions, it is difficult to control plating, attributed to their mutual organic relationship. It is of significance to determine the concentrations of the components present in these coatings; hence, qualitative and quantitative analysis is required. The coating solution contained not only an environment-friendly component chromium(III), but also zirconium, fluorine, sulfur, and potassium, in the coating film. These metals are confirmed to produce a film with improved corrosion resistance to form a thin layer. The excellent corrosion resistance for the trivalent chromate solution is attributed to various inorganic and organic additives.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.18
no.4
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pp.39-42
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2011
The composite electroplating is accomplished by adding inert materials during the electroplating. Permalloy is the term for Ni-Fe alloy and it is used for industrial applications due to its high magnetic permeability, surface wear resistance, corrosion protection. Microhardness for microdevices is enhanced after composite coating and it increases the life cycle. However, the hydroxyl group on the silica makes their surface susceptible to moisture and it causes the silica nanoparticles to be agglomerated in the aqueous solution. The agglomeration problem causes poor dispersion which eventually interrupts uniform deposition of silica nanoparticles. In this study, the dispersion of silica nanoparticles in the permalloy electroplated layer is reported with variation of additives and current densities. The optimum current density was 20 $mA/cm^2$ and the silica content was 9 at% at $50^{\circ}C$. The amount of silica nanopowder codeposition and surface morphologies were influenced with variation of additives. In the bath, smooth surface morphology and relatively high contents of silica nanopowder codeposition were obtained with addition of sodium lauryl sulfate.
Son Sang Ki;Lee Yoo Yong;Cho Byung Won;Lee Jae Bong;Lee Tae Hee
Journal of the Korean Electrochemical Society
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v.4
no.4
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pp.160-165
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2001
The eletrochemical charateristics of mercapto compound additives on the copper electroplating for semi conductor metalization were investigated. Mercapto compounds including sulfur atom is known that they activate deposition rate in eletroplating. Four different types of mercapto compounds were chosen with different concentration and both the characteristics of plating and throwing power were investigated by electrochemical experiments such as Hull cell test, Haring-Blum cell, cathodic polarization, EQCM(Electrochemical Quartz Crystal Microbalance). 3-Mercapto-1-propanesulfonic acid among 4 different mercapto compounds was regarded as the most proper activator with the results of the mass change of Cu metal deposited on eletrode by cathodic polarization and EQCM. The overpotential was more shifted to 100 mV in the concentration of 20 ppm than the solution with only $Cl^-$ in cathodic scan.
Kim, Dong-Hyeon;Jang, Si-Seong;Bok, Gyeong-Sun;Lee, Seong-Jun;Lee, Gi-Baek;Choe, Jin-Seop;Jeong, Min-Gyeong;Yun, Deok-Hyeon;Jeong, Gwang-Mi
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2017.05a
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pp.68.2-68.2
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2017
인체접촉시 니켈도금의 알러지 반응을 억제하기 위한 대체 도금기술인 비 시안계 Cu-Sn 합금도금을 개발함에 있어서, 황산구리5수화물과 황산제일주석을 금속염으로 하여 황산 및 계면활성제, 유화제 등을 포함한 각종 유기첨가제를 포함하였고 특히 은백색조의 외관 색상과 안정적인 Cu-Sn 합금전착을 위해 2종의 착화제인 EDTP (Ethylenediaminetetrapropanol, $C_{14}H_{32}N_2O_4$)와 TEA (Triethanolamine)를 첨가한 비 시안계 Cu-Sn 합금 도금액을 도출하였다. Cu-Sn 합금도금 피막 조성의 균일화를 도모하기 위해서는 합금 도금액중의 Cu와 Sn 금속이온 농도를 일정하게 유지하는 것이 필요하다. 그러나 합금 도금액 중 2가 주석이온($Sn^{2+}$)은 수용액 중에서 4가 주석이온($Sn^{4+}$)으로 산화됨으로써 도금액 색상이 백탁이 되고 Stannic Hydroxide($Sn(OH)_4$, $SnO_2{\cdot}2H_2O$)이 생성되어 대량의 침전물이 침강하는 문제점이 발생되는 등시간 경과에 따른 도금액의 경시 변화가 발생되었다. 상기 침전물은 연속여과에 의해 제거 가능하나 합금 도금액 중 $Sn^{2+}$ 농도가 지속적으로 감소하게 된다. 이는 합금 도금액 중 금속이온 비율이 변동함으로써 합금도금 피막의 조성비를 일정하게 유지하는 것이 곤란해진다. 이에 $Sn^{4+}$ 침전물 생성을 방지하기 위한 산화방지제를 개발하고 또한 산화방지제의 첨가에 따른 도금 피막 외관에 미치는 영향을 평가하여 외관 개선을 위한 광택제를 개발하고자 한다. 본 연구의 결과를 토대로 니켈도금과 동등 이상의 기능 특성을 갖는 비 시안계 Cu-Sn 합금도금액을 개발하여 실용화하는 것을 목적으로 하였다.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.12
no.2
s.35
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pp.129-134
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2005
Electroplating copper is the important role in formation of 3D stacking interconnection in SiP (System in Package). The I-V characteristics curves are investigated at different electrolyte conditions. Inhibitor and accelerator are used simultaneously to investigate the effects of additives. Three different sizes of via are tested. All via were prepared with RIE (reactive ion etching) method. Via's diameter are 50, 75, $100{\mu}m$ and the height is $100{\mu}m$. Inside via, Ta was deposited for diffusion barrier and Cu was deposited fer seed layer using magnetron sputtering method. DC, pulse and pulse revere current are used in this study. With DC, via cannot be filled without defects. Pulse plating can improve the filling patterns however it cannot completely filled copper without defects. Via was filled completely without defects using pulse-reverse electroplating method.
Kim, Yong Hwan;Son, Seong Ho;Choi, Han Shin;Han, Chul Woong;Kim, Tae Bum;Ahn, Jae Woo;Kim, Hong In;Lee, Ki Woong
Resources Recycling
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v.23
no.3
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pp.61-70
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2014
Tin has been widely used to solder, tin plated steel, bronze alloy, sputtering target for transparent electrode and chemical additives. It has been widely reported to the recycling technologies for tin scraps because of the scarcity and economic efficiency of the reserve. This study was analyzed by using open/registered patents KR, US, CN, JP and EP related to recycling technologies for processing scrap, sludges, waste fluid for plating process and spent alloy containing tin in between 1970 and 2013. Patents were collected using key-words searching and filtered by filtering criteria. The trends of the patents were analyzed by year, country, appliant and technology.
Kim, Minho;Cha, Hee-Ryoung;Choi, Changsoon;Kim, Jong-Man;Lee, Dongyun
Korean Journal of Metals and Materials
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v.48
no.10
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pp.884-892
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2010
To modify the physical properties of Cu thin films, gelatin is generally used as an additive. In this study, we assessed the effect of gelatin on the mechanical properties of electrodeposited Cu films. For this purpose, Cu/gelatin composite films were fabricated by adding 100 ppm of gelatin to an electrolyte, and tension and indentation tests were then performed. Additional tests based on pure Cu films were also performed for comparison. The Cu films containing gelatin presented a smaller grain size compared to that of pure Cu films. This increased the hardness of the Cu films, but addition of gelatin did not significantly affect the elastic modulus of the films. Cu films prepared at room temperature showed no significant change in the yield strength and tensile strength with an addition of gelatin, but we observed a dramatic decrease in the elongation. In contrast, Cu films prepared at $40^{\circ}C$ with gelatin presented a significant increase in the yield strength and tensile strength after the addition of gelatin. Elongation was not affected by adding gelatin. Presumably, the results would be closely related to the preferred orientation of the Cu thin film with the addition of gelatin and at temperatures that lead to a change in the microstructure of the Cu thin films.
Byeoung-Jae Kang;Jun-Seo Yoon;Jong-Jae Park;Tae-Gyu Woo;Il-Song Park
Journal of Surface Science and Engineering
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v.57
no.4
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pp.274-284
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2024
In this study, copper foil was electroplated under high current density conditions. We used Polyethylene Glycol (PEG), known for its thermal stability and low decomposition rate, as an inhibitor to form a stable and smooth copper layer on the titanium cathode. The electrolyte was composed of 50 g/L CuSO4 and 100 g/L H2SO4, MPSA as an accelerator, JGB as a leveler, and PEG as a suppressor, and HCl was added as chloride ions for improving plating efficiency. The copper foil electroplated in the electrolyte added PEG which induced to inhibit the growth of rough crystals. As a result, the surface roughness value was reduced, and a uniform surface was formed over a large area. Moreover, the addition of PEG led to priority growth to the (111) plane and the formation of polygonal crystals through horizontal and vertical growth of crystals onto the cathode. In addition, the grains became fine when more than 30 ppm of PEG was added. As the microcrystalline structure changed, mechanical and electrical properties were altered. With the addition of PEG, the tensile strength increased due to grain refinement, and the elongation was improved due to the uniform surface. However, as the amount of PEG added increased, the corrosion rate and resistivity increased due to grain refinement. Finally, it was possible to manufacture a copper foil with excellent electrical and mechanical properties and the best surface properties when electroplating was carried out under the condition of additives with Cl-20 ppm, MPSA 10 ppm, JGB 5 ppm, and PEG 10 ppm.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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