A Taguchi methodology study of the plasma spraying thermal barrier coating (TBC) layer is presented. The experiment parameters were designed by a L8-style orthogonal arrays approach. A Taguchi analysis was conduc-ted through the results of the coating properties which were affected by plasma spraying parameters. Zirconia (partially stbilized with ytrria: PSZ) was sprayed on TiAl intermetallic compound substrates, The coating layer was characterized by thickness microstructure and porosity using SEM and Image analyzer. The coating quali-ties are discussed with respect to thermal barrier effect thermal cycling test6 and adhesion strength test. An optimum condition of plasma spraying process which are derived from the Taguchi analysis could be found for high quality TBC.
Lee, Hyo Serk;Park, Yong-Seog;Lee, Joong Shik;Seo, Ju Tae
Clinical and Experimental Reproductive Medicine
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v.43
no.2
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pp.97-101
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2016
Objective: Growth hormone and its mediator, insulin-like growth factor-1 (IGF-1), have been suggested to exert gonadotropic actions in both humans and animals. The present study was conducted to assess the relationship between serum IGF-1 concentration, seminal plasma concentration, and sperm parameter abnormalities. Methods: A total of 79 men were enrolled in this study from December 2011 to July 2012 and were prospectively analyzed. Patient parameters analyzed included age, body mass index, smoking status, urological history, and fertility history. Patients were divided into four groups based on their semen parameters: normal (A, n=31), abnormal sperm motility (B, n=12), abnormal sperm morphology (C, n=20), and two or more abnormal parameters (D, n=16). Patient seminal plasma and serum IGF-1 concentrations were determined. Results: Patient baseline characteristics were not significantly different between any of the groups. The serum IGF-1 levels in groups B, C, and D were significantly lower than the levels in group A; however, the seminal plasma IGF-1 levels were not significantly different between any of the groups. Conclusion: Men with abnormal sperm parameters had significantly lower levels of serum IGF-1 compared with men with normal sperm parameters. Seminal plasma IGF-1 levels, however, did not differ significantly between the groups investigated here. Further investigations will be required to determine the exact mechanisms by which growth hormone and IGF-1 affect sperm quality.
Kim, Jun-Hwan;Park, Hee-Ju;Hwang, In-Ki;Kim, Do-Hyung;Oh, Chul Woong;Lee, Jung sick;Kang, Ju-Chan
Korean Journal of Fisheries and Aquatic Sciences
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v.49
no.6
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pp.830-837
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2016
Juvenile Anoplopoma fimbria (mean length $15.6{\pm}1.4cm$, mean weight $68.7{\pm}4.3g$) were exposed to 4 months with the different levels of salinity [100 (35.0), 90 (31.5), 80 (28.0), 70 (24.5), 60 (21.0), 50 (17.5), and 40 (14.0) % (psu)] for 4 months. Hematological parameters such as red blood cell (RBC) counts, hematocrit (Ht), and hemoglobin (Hb) concentrations were substantially decreased under salinities of 50% psu or lower. Of the measured inorganic plasma constituents, magnesium was notably decreased, whereas there was no effect on calcium. Among organic plasma components, glucose and cholesterol were significantly increased, and total protein was decreased. Among enzyme plasma components, glutamic oxalate transaminase (GOT), glutamic pyruvate transaminase (GPT), and alkaline phosphatase (ALP) were significantly increased under salinities of 50% psu or lower. Antioxidant responses such as glutathione S-transferase (GST) and glutathione (GSH) were significantly decreased at salinities of 50% psu or lower. The results of this study indicate that salinity affects the blood parameters, plasma constituents, and antioxidant responses of A. fimbria.
Kim, D.W.;You, S.J.;Na, B.K.;Kim, J.H.;Chang, H.Y.;Oh, W.Y.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.218.1-218.1
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2014
In order to measure the absolute plasma density, various probes are proposed and investigated and microwave probes are widely used for its advantages (Insensitivity to thin non-conducting material deposited by processing plasmas, High reliability, Simple process for determination of plasma density, no complicate assumptions and so forth). There are representative microwave probes such as the cutoff probe, the hairpin probe, the impedance probe, the absorption probe and the plasma transmission probe. These probes utilize the microwave interactions with the plasma-sheath and inserted structure (probe), but frequency range used by each probe and specific mechanisms for determining the plasma density for each probe are different. In the recent studies, behaviors of each microwave probe with respect to the plasma parameters of the plasma density, the pressure (the collision frequency), and the sheath width is abundant and reasonably investigated, whereas relative diagnostic characteristics of the probes by a comparative study is insufficient in spite of importance for comprehensive applications of the probes. However, experimental comparative study suffers from spatially different plasma characteristics in the same discharge chamber, a low-reproducibility of ignited plasma for an uncertainty in external discharge parameters (the power, the pressure, the flow rate and so forth), impossibility of independently control of the density, the pressure, and the sheath width as well as expensive and complicate experimental setup. In this paper, various microwave probes are simulated by finite-different time-domain simulation and the error between the input plasma density in FDTD simulations and the measured that by the unique microwave spectrums of each probe is obtained under possible conditions of plasma density, pressure, and sheath width for general low-temperature plasmas. This result shows that the each probe has an optimum applicable plasma condition and reliability of plasma density measurement using the microwave probes can be improved by the complementary use of each probe.
Seo, Sang-Hun;Na, Byeong-Geun;Yu, Gwang-Ho;Jang, Hong-Yeong
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.30-30
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2011
The wave-cutoff tool is a new diagnostic method to measure electron density and electron temperature. Most of the plasma diagnostic tools have the disadvantage that their application to processing plasma where toxic and reactive gases are used gives rise to many problems such as contamination, perturbation, precision of measurement, and so on. We can minimize these problems by using the wave-cutoff method. Here, we will present the results obtained through the development of the wave-cutoff diagnostic method. The frequency spectrum characteristics of the wave-cutoff probe will be obtained experimentally and analyzed through the microwave field simulation by using the CST-MW studio simulator. The plasma parameters are measured with the wave-cutoff method in various discharge conditions and its results will be compared with the results of Langmuir probe. Another disadvantage is that other diagnostic methods spend a long time (~ a few seconds) to measure plasma parameters. In this presentation, a fast measurement method will be also introduced. The wave-cutoff probe system consists of two antennas and a network analyzer. The network analyzer provides the transmission spectrum and the reflection spectrum by frequency sweeping. The plasma parameters such as electron density and electron temperature are obtained through these spectra. The frequency sweeping time, the time resolution of the wave-cutoff method, is about 1 second. A short pulse with a broad band spectrum of a few GHz is used with an oscilloscope to acquire the spectra data in a short time. The data acquisition time can be reduced with this method. Here, the plasma parameter measurement methods, Langmuir probe, pulsed wave-cutoff method and frequency sweeping wave-cutoff method, are compared. The measurement results are well matched. The real time resolution is less than 1 ?sec. The pulsed wave-cutoff technique is found to be very useful in the transient plasmas such as pulsed plasma and tokamak edge plasma.
Ground Level Enhancements (GLEs) in cosmic ray intensity observed during the period of 1997-2012 have been studied with energetic solar features and disturbances in solar wind plasma parameters and it is seen that all the GLEs have been found to be associated with coronal mass ejections, hard X-ray solar flares and solar radio bursts. All the GLEs have also been found to be associated with sudden jumps in solar proton flux of energy of ${\geq}60Mev$. A positive correlation with correlation coefficient of 0.48 has been found between the maximum percentage intensity (Imax%) of Ground Level Enhancements and the peak value of solar proton flux of energy (${\geq}60Mev$). All the Ground Level Enhancements have been found to be associated with jumps in solar wind plasma velocity (JSWV) events. A positive correlation with correlation coefficient of 0.43 has been found between the maximum percentage intensity (Imax %) of Ground Level Enhancements and the peak value of solar wind plasma velocity of associated (JSWV) events. All the Ground Level Enhancements have been found to be associated with jumps in solar wind plasma pressure (JSWP) events. A positive correlation with correlation coefficient of 0.67 has been found between the maximum percentage intensity (Imax %) of Ground Level Enhancements and the peak value of solar wind plasma pressure of associated (JSWP) events and of 0.68 between the maximum percentage intensity (Imax %) of Ground Level Enhancements and the magnitude of the jump in solar wind plasma pressure of associated (JSWP) events.
Atomic force microscopy(AFM) was used to study the polyethylene(PE) surfaces grafted and immobilized with acrylic acid by Ar plasma treatment. The topographical images and parameters including RMS roughness and Rp-v value provided an appropriate means to characterize the surfaces. The plasma grafting and immobilization method were a useful tool for the preparation of surfaces with carboxyl group. However, the plasma immobilization method turned out to have a limitation to use as a means of preparation of PE surface with specific functionalities, due to ablation effect during the Ar plasma treatment process.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.210.2-210.2
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2016
An inductively coupled plasma source was prepared for the deposition of a-C:H thin film. Properties of the inductively coupled plasma source are investigated by fluid simulation including Navier-Stokes equations and home-made tuned single Langmuir probe. Signal attenuation ratios of the Langmuir probe harmonic frequency were 13.56Mhz and 27.12Mhz. Dependencies of plasma parameters on process parameters were accord with simulation results. Ar/CH4 plasma simulation results shown that hydrocarbon radical densities have their lowest value at the vicinity of gas feeding line due to high flow velocity. For input power density of 0.07W/cm3, CH radical density qualitatively follows electron density distribution. On the other hand, central region of the chamber become deficient in CH3 radical due to high dissociation rate accompanied with high electron density. The result suggest that optimization of discharge power is important for controlling deposition film quality in high density plasma sources.
Hydroxyapatite(HA) was spray-coated to alloy substrate(Ti-6Al-4V) using plasma-spray process for bioceramic application The coating morphology composition and crystallinity were influenced by following process parameters ; stand-off distance spray power level and auxiliary gas pressure. These parameters have been systematically varied in the present study to evaluate their relative influence on the coating qual-ity and to seek an optimum spraying condition. Amorphicity and decomposition of HA increased with stand-off distance and the imperfect coating layer was obtained at the short stant-off distance (55mm). The cry-stallinity of HA coating decreased with spray power level and auxiliary gas pressure but the bond strength between the HA coated layer and Ti alloy substrate increased with the spray power level.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.5
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pp.371-377
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1998
The plasma chemical vapor deposition is one of the most utilized techniques for the diamond growth. As the applications of diamond thin films prepared by plasma chemical vapor deposition(CVD) techniques become more demanding, improved fine-tuning and control of the process are required. The important parameters in diamond film deposition include the substrate temperature, $CO/H_2$gas flow ratio, total gas pressure, and gas excitation power. With the spectroscopic ellipsometry, the substrate temperature as well as the various parameters of the film can be determined without the physical contact and the destructiveness under the extreme environment associated with the diamond film deposition. Through this paper, the important parameters during the diamond film growth using $CO+H_2$are determined and it is shown that $sp^2$ C in the diamond film is greatly reduced.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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