Photoreactions of pseudosaccharin ethers have been investigated. Pseudosaccharin 3-allyl ether undergoes a facile photoreaction via reaction pathways involving homolysis of bond between pseudosaccharyl oxygen and 3-allyl carbon, and excited nucleophilic substitution of allyloxy group by solvent which are not quenched by oxygen present in the reaction. Product yield demonstrates that the homolysis pathway predominates over the nucleophilic substitution in ca. 7:1 ratio. In contrast, pseudosaccharin alkyl ethers follow different reaction routes to produce two products, solvent-substituted pseudosaccharin alkyl ethers and reduction products, 3-alkoxy-1, 2-benzisothiazoles. The formations of reduction products, 3-alkoxy-1, 2-benzisothiazoles are completely quenched by oxygen.
Industrial waste which highly loaded by halogenide phenols was photooxidized by laboratory-scale photooxidation of these organic impurities in the presence of aerotropic and titaniumdioxide as photocatalyst. The disapperance of organic compounds was determined as a function of the irradiation time. Some contaminants such as 2-chlorophenol, 2-bromphenol, 3-bromphenol, 4-bromphenol, 2,4-dibromophenol and 2,6-dibromophenol were photodegraded separately to obtain information on the reaction rates, reactivities, and reaction mechanisms of the photooxidation, and on the stoichiometric correlation between organic reactant and inorganic products concentration in the course of the photocatalytic photoreaction.
The azomethine ylide forming photoreaction has been explored by probing the excited state chemistry of several N-trimethylsilylmethyl substituted cyclic and acyclic imides and amide analogs. N-[(Trimethylsilyl)methyl]-N-mesylbenzamide (5) undergoes the excited state C to O silyl migration reaction to produce azomethine ylide intermediate 13. This ylide undergoes electrocyclization to form transient aziridine intermediate 14 which react further by ring opening to generate N-phenacylamine product 10. On the other hand, photolysis of N-[N-mesyl-N-(trimethylsilyl)methyl]aminoethyl-N-mesylbenzamide (8) brings about desilylation resulting in the production of dimer 17.
This study is about Sealant for LCD panel which used m manufacture of liquid crystal display device with LC dropping method, with the least contamination of liquid crystals, the best adhesion of glass and Improvement of photoreaction for shaded area.
한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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pp.317-319
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2008
Photo-alignment layer which contains cinnamate is difficult to generate pretilt angle of liquid crystals. In order to enhance pretilt angle, blending poly (amic acid) between containing fluorine poly (amic acid) and 1,2,3,4-cyclobutanetetracaroxylic dianhydride (CBDA) / 3,5-diaminobenzyl alcohol (DBA) were used. For photoreaction, cinnamate was conjugated by interfacial reaction with blending polyimide.
The photoreaction of 5,7-dimethoxycoumarin with adenosine has been carried out in a dry film state. The mixture of DMC and adenosine was irradiated with 350 nm UV light and two major products were isolated. The structure was determined by various spectroscopic measurements involving $^{13}C$ nuclear magnetic resonance and fast atom bombardment mass spectrometry. These addition products were produced by covalent bond formation between the pyrone ring at carbon 3 or 4 and the sugar ring moiety of adenosine at carbon 5'.
LCD 배향막으로 응용하기 위하여 광반응성 polyvinylcinnamate 필름 위에서 액정 분자들의 배향에 관한 연구를 수행하였다. 선편광 UV를 polyvinylcinnamate 필름에 노광하면 선택적인 광반응에 의하여 필름 내에 이방성이 형성되고, 필름 표면에 인접한 액정 분자는 고분자와 분자간 상호작용으로 고분자 배향 방향과 동일한 방향으로 늘어선다. 광배향막을 사용한 액정 셀의 열 및 빛에 대한 안정성은 배향막에 UV를 다시 노광하고 열을 가한 후 유도된 액정 배향 변화를 측정하여 조사하였다. 선편광 UV를 여러번 노광한 필름의 경우 처음 노광 방향에 관계없이 최종으로 노광한 편광 UV의 방향에 따라 액정 배향이 유도되었다.
To produce stable polymer coating layer using the interaction between metal stent and polymer layer, Ahx-HSAB was synthesized by coupling 6-aminoheanoic acid (Ahx) with N-Hydroxy succinimidyl 4-azidobenzonate (HSAB) containing photo reactive group. Then, Ahx-HSAB was applied to self·assembled monolayer (SAM) on $TiO_2$-coated surface, since one end of Ahx-HSAB was carboxyl acid which was known to be able to interact with $TiO_2$ surface. That SAM layer was incubated in 1% polycaprolacton (PCL) solution and photoreacted by ultraviolet light (254 nm) to produce the chemical bond between SAM and polymer layer, followed by PCL polymer coating ({\sim}5\;{\mu}m$) by the method of spray coating. The surface change was investigated by measuring of contact angle of the surface. The contact angle values of stainless steel (SS) surface, $TiO_2$-coated surface, SAM layer by Ahx-HSAB, photoreacted surface with PCL and PCL layer by spray coating were 70.48${\pm}$1.89, 38.57${\pm}$3.31, 60.14${\pm}$2.21, 54.91${\pm}$2.70 and 56.47${\pm}$2.12, respectively. The stability of polymer layers was tested by incubation of PCL-coated plates in 0.1M PBS buffer (pH 7.4, 0.05%, Tween 80) with vigorous shaking (200 rpm). While the poiymer layer prepared by these processes showed the intact surface morphology over 3 days, the polymer layers prepared by spray coating of PCL onto SS plate (control 1) and $TiO_2$-coated SS plate (control 2) were Peeled off in 3 days. Thus, the polymer coating method using SAM and photoreaction seems to be a effective method to obtain the stable polymer layer onto SS surface.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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