The InAs multi-quantum dots (MQDs) solar cell and InGaAs multi-quantum wells (MQWs) solar cell to cover 1.1 eV and 1.3 eV were designed by 1D poisson, respectively. The MQDs and MQWs of 5, 10, 15 layers were grown by molecular beam epitaxy. The photo luminescence results showed that the 5 period stacked MQDs have the highest intensity at around 1.1 eV with 57.6 meV full width at half maximum (FWHM). Also we can observe 10 period stacked MQWs peak position which has highest intensity at 1.31 eV with 12.37 meV FWHM. The density and size of QDs were observed by reflection high energy electron diffraction pattern and atomic force microscope. Futhermore, AlGaAs/GaAs sandwiched tunnel junctions were modified according to the width of GaAs layer on p-type GaAs substrates. The structures with GaAs width of 30 nm and 50 nm have backward diode characteristics. In contrast, tunnel diode characteristics were observed in the 20 nm of that of sample.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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v.9
no.1
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pp.1013-1016
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2005
ZnO nanostructure was fabricated by catalyst-free method using Zn powder in air. The growth temperature was controlled from 450$^{\circ}$C to 600$^{\circ}$C, and the structural and optical properties were investigated by scanning electron microscopy (SEM), photoluminescence (PL), energy dispersive X-ray spectroscopy (EDX) and cathodoluminescence (CL). From all samples both ZnO tetrapods and clusters were observed. No significant dispersion was observed from the ZnO tetrapods, however, ZnO clusters show considerable change in density and size. From the EDX results, atomic composition difference was found. The clusters have O-deficiencies, while tetrapods have stoichiometric composition. Strong luminescence was observed at room temperature. From room temperature PL, UV emission at 380 nm and green emission at 500 nm were observed, and the intensity ratio ($I_{uv}/I_{green}$) increased as growth temperature increases. CL measurements show that the UV emission is closely related with tetrapods and the green emission is dominated from the clusters.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.48
no.5
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pp.285-295
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1999
Electroluminescent(EL) devices based on organic materials have been of great interest due to their possible applications for large-area flat-panel displays. They are attractive because of their capability of multi-color emission, and low operation voltage. An approach to realize such device characteristics is to use active layers of lanthanide complexes with their inherent extremely sharp emission bands in stead of commonly known organic dyes. In general, organic molecular compounds show emission due to their $\pi$-$\pi*$ transitions resulting in luminescence bandwidths of about 80 to 100nm. Spin statistic estimations lead to an internal quantum efficiency of dye-based EL devices limited to 25%. On the contrary, the fluorescence of lanthanide complexes is based on an intramolecular energy transfer from the triplet of the organic ligand to the 4f energy states of the ion. Therefore, theoretical internal quantum efficiency is principally not limited. In this study, Powders of TPD, $Eu(TTA)_3(phen) and AlQ_3$ in a boat were subsequently heated to their sublimation temperatures to obtain the growth rates of 0.2~0.3nm/s. Organic electrolumnescent devices(OELD) with a structure of $glass substrate/ITO/Eu(TTA)_3(phen)/AI, glass substrate/ITO/TPD/Eu(TTA)_3(phen)/AI and glass substrate/ITO/TPD/Eu(TTA)_3(phen)/AIQ_3AI$ structures were fabricated by vacuum evaporation method, where aromatic diamine(TPD) was used as a hole transporting material, $Eu(TTA)_3(phen)$ as an emitting material, and Tris(8-hydroxyquinoline)Aluminum$(AlQ_3)$ as an electron transporting layer. Electroluminescent(EL) and current density-voltage(J-V) characteristics of these OELDs with various thickness of $Eu(TTA)_3(phen)$ layer were investigated. The triple-layer structure devices show the red EL spectrum at the wavelength of 613nm, which is almost the same as the photoluminescent(PL) spectrum of $Eu(TTA)_3(phen)$.It was found from the J-V characteristics of these devices that the current density is not dependent on the applied field, but on the electric field.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.165-165
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2010
$1.55\;{\mu}m$ 대역의 레이저 다이오드를 제작하기 위해, InP(001) 기판에 InAlGaAs 물질을 장벽층으로 하는 InAs 양자점 구조를 분자선증착기 (MBE)를 이용하여 성장하고 구조 및 광학적 특성을 Double Crystal X-ray Diffraction (DCXRD), Atomic Force Microscopy (AFM), Photoluminescence (PL)을 이용하여 평가하였다. 일반적으로 InAlGaAs 물질은 고유한 상분리 현상 (Phase Separation)이 나타나는 특성이 있으며, 이는 양자점 성장에 중요한 요인으로 작용할 수 있다. 이러한 InAlGaAs 물질의 상분리 현상을 기판온도 ($540^{\circ}C$, $555^{\circ}C$, $570^{\circ}C$)를 비롯한 성장변수를 변화시켜 제어하고 InAs 양자점 형성에 어떠한 영향을 미치는지를 분석하였다. 540의 성장온도에서 InP(001) 기판에 격자정합한 InAlGaAs 장벽층이 성장온도를 $570^{\circ}C$로 증가시킬 경우 기판에 대하여 인장 응력 (Tensile Strain)을 받는 구조로 변화되었다. 인장응력을 받는 InAlGaAs 장벽층을 Ga Flux 양을 조절하여 격자정합한 InAlGaAs 층을 형성할 수 있었다. AFM을 통한 표면 형상 분석 결과, 서로 다른 기판온도에서 성장한 InAlGaAs 물질이 InP(001) 기판에 격자정합 조건일지라도 표면의 거칠기 (Surface Roughness)는 매우 다른 양상을 보였고 InAs 양자점 형성에 직접적으로 영향을 주었다. $570^{\circ}C$에서 성장한 InAlGaAs 위에 형성한 InAs 양자점의 가로방향 크기를 세로방향 크기로 나눈 비율이 1.03으로서, 555와 $540^{\circ}C$의 1.375 와 1.636와 비교할 때 모양 대칭성이 현저히 개선된 것을 알 수 있다. 상분리 현상이 줄어 표면 거칠기가 좋은 InAlGaAs 위에 양자점을 형성할 때 원자들의 이동도가 상대적으로 높아 InAs 양자점의 크기가 증가하고, 밀도가 감소하는 현상이 나타났다. 또한 InAlGaAs 장벽층이 InP(001) 기판을 기준으로 응력 (Compressive 또는 Tensile)이 존재하는 경우, InAs 양자점 모양이 격자정합 조건 보다 비대칭적으로 변하는 특성을 보여 주었다. 이로부터, 대칭성이 개선된 InAs 양자점 형성에 InAlGaAs 장벽층의 표면 거칠기와 응력이 중요한 변수로 작용함을 확인 할 수 있었다. PL 측정 결과, 발광파장은 $1.61\;{\mu}m$로 InAs 양자구조 형상에 따라 광강도 (Intensity), 반치폭 (Line-width broadening) 등이 변화 되었다.
The Journal of the Convergence on Culture Technology
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v.9
no.5
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pp.523-528
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2023
The applicability as a material to improve solar cell performance was reviewed by synthesizing a phosphor that emits red wavelengths by a liquid synthesis method using a metal salt aqueous solution and a polymer medium as a starting material. An aqueous solution was prepared using nitrate of metals such as Ca, Zn, Al, and Eu, and a precursor impregnated with starch, a natural polymer, was sintered to synthesize CaZnAlO:Eu phosphor powder. The surface structure and composition analysis of the synthesized CaZnAlO:Eu phosphor powder were analyzed by scanning electron microscope(SEM) and energy-dispersed X-ray spectroscopy(EDS). The crystal structure of CaZnAlO:Eu phosphor particles was analyzed by an X-ray diffraction analyzer (XRD). As a result of measuring the photoluminescence(PL) characteristics of the phosphor, it was confirmed that a red phosphor with a light emitting wavelength of 650-780nm was successfully synthesized. According to SEM and EDS analysis, the synthesized Ca14Zn6Al9.93O35:Eu3+0.07 phosphor powder has a uniform particle size, and Eu ions used as an activator are present. The synthesized CZA:Eu3+ phosphor can be used as a material that can increase the light absorption efficiency of the solar cell by converting ultraviolet or visible light down conversion into a wavelength in the near-infrared region.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.08a
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pp.174-175
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2012
(In, Ga) N-based III-nitride semiconductor materials have been viewed as the most promising materials for the applications of blue and green light emitting devices such as light-emitting diodes (LEDs) and laser diodes. Although the InGaN alloy can have wide range of visible wavelength by changing the In composition, it is very hard to grow high quality epilayers of In-rich InGaN because of the thermal instability as well as the large lattice and thermal mismatches. In order to avoid phase separation of InGaN, various kinds of structures of InGaN have been studied. If high-quality In-rich InGaN/GaN multiple quantum well (MQW) structures are available, it is expected to achieve highly efficient phosphor-free white LEDs. In this study, we proposed a novel InGaN double hetero-structure grown on GaN nano-pyramids to generate broad-band red-color emission with high quantum efficiency. In this work, we systematically studied the optical properties of the InGaN pyramid structures. The nano-sized hexagonal pyramid structures were grown on the n-type GaN template by metalorganic chemical vapor deposition. SiNx mask was formed on the n-type GaN template with uniformly patterned circle pattern by laser holography. GaN pyramid structures were selectively grown on the opening area of mask by lateral over-growth followed by growth of InGaN/GaN double hetero-structure. The bird's eye-view scanning electron microscope (SEM) image shows that uniform hexagonal pyramid structures are well arranged. We showed that the pyramid structures have high crystal quality and the thickness of InGaN is varied along the height of pyramids via transmission electron microscope. Because the InGaN/GaN double hetero-structure was grown on the nano-pyramid GaN and on the planar GaN, simultaneously, we investigated the comparative study of the optical properties. Photoluminescence (PL) spectra of nano-pyramid sample and planar sample measured at 10 K. Although the growth condition were exactly the same for two samples, the nano-pyramid sample have much lower energy emission centered at 615 nm, compared to 438 nm for planar sample. Moreover, nano-pyramid sample shows broad-band spectrum, which is originate from structural properties of nano-pyramid structure. To study thermal activation energy and potential fluctuation, we measured PL with changing temperature from 10 K to 300 K. We also measured PL with changing the excitation power from 48 ${\mu}W$ to 48 mW. We can discriminate the origin of the broad-band spectra from the defect-related yellow luminescence of GaN by carrying out PL excitation experiments. The nano-pyramid structure provided highly efficient broad-band red-color emission for the future applications of phosphor-free white LEDs.
Oh, Dong-Keun;Lai, Van Thi Ha;Choi, Bong-Geun;Yi, Seong;Chung, Jin-Hyun;Lee, Seong-Kuk;Shim, Kwang-Bo
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.18
no.3
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pp.97-100
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2008
Polar and non-polar GaN was grown by the HVPE on various substrates and influence of polarity has been investigated. The $10\;{\mu}m$ thickness GaN were grown by HVPE is along A-plane ($11{\bar{2}}0$), C-plane (0001) and M-Plane ($10{\bar{1}}0$) sapphire substrate respectively. Surface properties were observed by optical microscope and atomic force microscopy. High resolution X-ray diffraction (HR-XRD) confirms the wurtzite structure. The donor band exciton peak located at ${\sim}3.4\;eV$ and also located yellow luminescence peak at 2.2 eV. The polarity of the GaN film has a strong influence on the morphology and the optical properties.
The optoelectrical characteristics of the ZnO nanoparticles (NPs) annealed in vacuum or oxygen condition from $200^{\circ}C$ to $600^{\circ}C$ were examined. Increased on-off ratio (or, the ratio of photocurrent to dark current) was observed when they were annealed at $300^{\circ}C$, $400^{\circ}C$ and $500^{\circ}C$ with the values enhanced about 4 orders compared to the as-prepared ZnO NPs in both annealing conditions, while the maximum efficiency was shown at the annealing temperature of $600^{\circ}C$ for the ZnO NPs annealed in vacuum with the value of 29.8 mA/W and at the temperature of $500^{\circ}C$ for those annealed in oxygen condition with the value of 40.3 mA/W. Photoresponse behavior of the ZnO NPs annealed in oxygen showed the sharp increase right after the ir exposure to the light followed by the slow decay and saturation during steady illumination, differing from the ZnO NPs annealed in vacuum which only exhibited the gradual increase. This difference occurred due to the curing effect of the oxygen vacancies. SEM images indicated no change in their morphologies with annealing, indicating the change in their internal structures by annealing, and most remarkably at $600^{\circ}C$. As for their photoluminescence(PL) spectra, the decrease of the deep-level(DL) emission was observed when they were annealed in oxygen at $400^{\circ}C$, and not at $200^{\circ}C$ and $600^{\circ}C$.
New PPV derivatives which contain electron-withdrawing trifluoromethyl ($CF_3$) group, poly[2-(2-ethylhexyloxy)-5-(4-trifluoro methylphenyl)-1,4-phenylenevinylene] (EH$CF_3$P-PPV), and poly[2-(2-ethylhexyloxy)-5-(3,5-bis(trifluoromethyl)-phenyl)-1,4-phenylenevinylene] (EHB$CF_3$P-PPV), have been synthesized by GILCH polymerization. As the result of the introduction of the electron-withdrawing $CF_3$ group to the phenyl substituent, the LUMO and HOMO energy levels of EH$CF_3$P-PPV (2.8, 5.1 eV) and EHB$CF_3$P-PPV (3.0, 5.3 eV) were lower than those of known poly[2-(2-ethylhexyloxy)-5-phenyl-1,4-phenylenevinylene] (EHP-PPV) (2.6, 4.9 eV). These polymers have been used as the electroluminescent (EL) layers in double layer lightemitting diodes (LEDs) (ITO/PEDOT/polymer/Al). EH$CF_3$P-PPV, and EHB$CF_3$P-PPV show maximum photoluminescence (PL) peaks at ${\lambda}_{max}$ = 550, 539 nm, and maximum EL peak at ${\lambda}_{max}$ = 545, 540 nm, respectively. The current-voltage-luminance (I-V-L) characteristics of the polymers show that turn-on voltages of EH$CF_3$P-PPV and EHB$CF_3$P-PPV are around 4.0 and 3.5 V, respectively.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.9
no.1
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pp.89-93
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1999
The properties and effects of the electrodeposited CdTe compound film on the porous silicon. To find ways to achieve good mechanical contact on the nanostructure porous silicon layer while keeping the interface transparent, we tried to electrodeposit a CdTe compound film on the porous silicon surface. The CdTe compound film was fabricated with -2.3V vs. Ag/AgCl potential difference in the electrolyte solution containing 1M of $CdSO_4$and 1 mM of $TeO_4$. X-ray diffraction results confirmed the existence of CdTe compound film on the porous silicon surface. Auger depth profile showed that Cd and Te were uniformly distributed up to a 80 nm distance from the surface. The photoluminescence of the sample with a CdTe compound film was weaker in intensity than that without the film and the maximum wavelength was shifted to the higher energy. These results indicate that the contacting CdTe compound film was infiltrated to the nanostructure of porous silicon.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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