• 제목/요약/키워드: Pd/Co multilayer

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Effects of Sputtering Parameters on the Properties of Co/Pd Multilayered Films

  • Shin, J. N.;Hong, D. H.;Lee, T. D.
    • Journal of Magnetics
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    • 제8권4호
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    • pp.146-148
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    • 2003
  • Multilayered films of Co/Pd have been studied as a candidate material for a high density perpendicular recording medium due to higher anisotropy energy. However, high exchange coupling among grains results in large transition noise. To reduce the exchange coupling and grain size, addition of 3rd elements and physical separation of grains have been attempted. In the present paper, effects of sputtering pressure, Co sublayer thickness and Pd underlayer thickness on magnetic properties and microstructures were studied. It was found that by increasing sputtering pressure from 5 mTorr to 25 mTorr, Ms decreased to one half and coercivity increased more than 5000 Oe. The increase of the coercivity is associated with physical separation of grains by high pressure sputtering. Ms per volume of Co for Co/Pd multilayered film deposited at 25 mTorr shows continuous decrease with increasing Co sublayer thickness. This was related to void formation and intermixing of Co/Pd interface. Also, effect of Pd underlayer thickness on magnetic properties will be discussed.

Co계 다층박막을 이용한 이중막에서 Direct Overwriting을 위한 교환결합 연구 (Study on Exchange Coupling in Bilayer Systems using Co-Based Multilayer Thin Films)

  • 문기석;최석봉;신성철
    • 한국자기학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.15-20
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    • 1996
  • Co/Pd와 Co/Pd 다층박막으로 구성된 이중막 시스템에서 direct overwriting을 구현하는데 필수적인 교환결합 (exchange coupling)에 대하여 연구하였다. Co/Pd 및 Co/Pd 다층박막을 수직자성을 가지도록 하기 위하여 Co층의 두께를 4- .angs. 이하로 하여 전자빔 증착법으로 제작한 후 x-ray 회절 실험으로 구조 분석을 하였고, Kerr spectrometer, VSM을 사용하여 자기 및 자기광학적 성질을 조사하였다. 기억막과 기준막으로 구성된 이중막에서는 exchange coupling이 커서 자화반전이 두 박막에서 동시에 일어나며, 두 박막사이에 적당한 두께의 비자성 사이막(non-magnetic spacer)이 존재하는 경우에는 두 박막사이의 교환결합의 크기가 줄어들어서 두 박막의 자화반전이 분리되어 계단식 자화곡선이 생겼다. 또 비자성 사이막이 두꺼우면 두 박막사이의 교환결합이 사라짐이 관찰 되었다. 두 박막사이의 교환결합은 자구 기록 실험을 통해서도 그 존재를 확인할 수 있었다.

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Modified Magnetism at Buried Co/Pd Interface: Depth-Resolved Magnetic Circular Dichroism Study Using Soft X-ray Standing Waves

  • Kim, Sang-Koog;Kortright, J.B.;Shin, Sung-Chul
    • Journal of Magnetics
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    • 제5권3호
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    • pp.76-80
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    • 2000
  • Soft x-ray standing waves produced by a multilayer interference substrate add depth-sensitivity to magnetic circular dichroism to resolve changes in Co magnetism across a 10${\AA}$ distance from the Co center to the Co-Pd interface of a Pd/Co/Pd trilayer having in-plane magnetization. Large enhancements of in-plane orbital and spin magnetic moments, as well as the number of d holes, are strongly localized in a thin interface layer. These results provide new insight into the phenomenon of magnetic anisotropy at buried interfaces, and suggest a broad applicability of such standing wave measurements to interface magnetism studies.

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Modified Magnetism at Buried Co/Pd Interface: Depth-Resolved Magnetic Circular Dichroism Study using Soft X-ray Standing Waves

  • Kim, Sang-Koog;J. B. Kortright
    • 한국자기학회:학술대회 개요집
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    • 한국자기학회 2000년도 International Symposium on Magnetics The 2000 Fall Conference
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    • pp.207-216
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    • 2000
  • Soft x-ray standing waves produced by a multilayer interference substrate add depth-sensitivity to magnetic circular dichroism to resolve changes in Co magnetism across a 10 ${\AA}$ distance from the Co center to the Co-Pd interface of a Pd/Co/Pd trilayer having in-plane magnetization. Large enhancements of in-plane orbital and spin magnetic moments, as well as the number of d holes, are strongly localized in thin interface layer. These results provide new insight into the phenomenon of magnetic anisotropy at buried interfaces, and suggest a broad applicability of such standing wave measurements to interface magnetism studies.

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[Pd/Co]5/FeMn 막에서의 바닥층과 삽입층에 의한 교환바이어스수직자기이방성 (Exchange Bias Perpendicular Magnetic Anisotropy by Buffer Layer and Inserted Layer in [Pd/Co]5/FeMn Multilayer)

  • 주호완;안진희;이미선;김보근;최상대;이기암
    • 한국자기학회지
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    • 제14권5호
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    • pp.192-195
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    • 2004
  • 본 연구는 [Pd(0.8 nm)/Co(0.8 nm)]$_{5}$FeMn(15 nm)구조의 다층박막을 dc마그네트론 스퍼터링 시스템을 이용하여 교환결합된 수직자기이방성에 대한 자기적 특성을 조사하였다. [Pd/Co]다층막과 FeMn 층 사이에 Pd층을 얇게 삽입함으로서 교환바이어스 세기(exchange biasing field : H$_{ex}$)가 127 Oe에서 145 Oe로 개선된 길과를 얻었다. 하지만 열적안정성 실험 결과 삽입층이 삽입 된 경우 삽입되지 않은 경우 보다 약 5$0^{\circ}C$낮은 20$0^{\circ}C$ 에서부터 감소하는 결과를 얻었다. 바닥층 물질에 따른 H$_{ex}$와 보자력 (coercivity : H$_{c}$)의 변화를 조사한 결과, H$_{ex}$는 바닥층이 Ta그리고 Pd인 경우, 각각 최대 127Oe, 169Oe를 얻었다. 반면, H$_{c}$는 바닥층이 Ta그리고 Pd층인 경우, 각각 최대 203 Oe, 453 Oe를 얻었다.

이온빔 스퍼터링법에 의한 다층막의 표면특성변화 (The surface propery change of multi-layer thin film on ceramic substrate by ion beam sputtering)

  • 이찬영;이재상
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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    • pp.259-259
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    • 2008
  • The LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramic) technology meets the requirements for high quality microelectronic devices and microsystems application due to a very good electrical and mechanical properties, high reliability and stability as well as possibility of making integrated three dimensional microstructures. The wet process, which has been applied to the etching of the metallic thin film on the ceramic substrate, has multi process steps such as lithography and development and uses very toxic chemicals arising the environmental problems. The other side, Plasma technology like ion beam sputtering is clean process including surface cleaning and treatment, sputtering and etching of semiconductor devices, and environmental cleanup. In this study, metallic multilayer pattern was fabricated by the ion beam etching of Ti/Pd/Cu without the lithography. In the experiment, Alumina and LTCC were used as the substrate and Ti/Pd/Cu metallic multilayer was deposited by the DC-magnetron sputtering system. After the formation of Cu/Ni/Au multilayer pattern made by the photolithography and electroplating process, the Ti/Pd/Cu multilayer was dry-etched by using the low energy-high current ion-beam etching process. Because the electroplated Au layer was the masking barrier of the etching of Ti/Pd/Cu multilayer, the additional lithography was not necessary for the etching process. Xenon ion beam which having the high sputtering yield was irradiated and was used with various ion energy and current. The metallic pattern after the etching was optically examined and analyzed. The rate and phenomenon of the etching on each metallic layer were investigated with the diverse process condition such as ion-beam acceleration energy, current density, and etching time.

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Co/Pd 및 Co/Pt 수직자가기기록매체에 있어서 바닥층의 스퍼터링 압력과 M-H 거동의 관계 (Relationship between Sputtering Pressure of Underlayer and M-H Behavior in Co/Pd and Co/Pt Perpendicular Magnetic Recording Media)

  • 오훈상;이병일;주승기
    • 한국자기학회지
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    • 제6권4호
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    • pp.235-241
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    • 1996
  • 수직자기 기록매체를 위해 스퍼터링법으로 Co/Pd 및 Co/Pt 다층막을 형성하였으며 Pd 및 Pt 바닥층의 증착 압력이 다층막의 자화거동 및 보자력에 미치는 영향에 대해 연구하였다. Co/Pd 다층막의 경우 보자력이 바닥층의 증착 압력에 매우 민감하여 바닥층 증착압력만을 조절함으로써 보자력을 크게 증가시킬 수 있었으나 Co/Pt 경우 바닥층의 증착압력 조절에 의한 보자력 증대효과는 미미하였다. 바닥층의 종류 및 증착압력에 따른 다층막의 보자력 변화를 바닥층의 표면 거칠기 및 다층막 증착착시의 계면상태 변화의 측면에서 설명할 수 있었으며 이는 바닥층의 증착압력의 증가에 따른 다층막의 수직이방성 에너지 감소 및 자화반전 기구의 변화와도 연관시킬 수 있었다. 다층막의 Kerr 회전각은 바닥층의 종류 및 증착압력에는 거의 의존하지 않는 것으로 나타났다.

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