Jo, Seo-Hyeon;Nam, Sung-Pil;Lee, Sung-Gap;Lee, Seung-Hwan;Lee, Young-Hie;Kim, Young-Gon
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.12
no.5
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pp.193-196
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2011
Lead zirconate titanate (PZT)/ bismuth ferrite (BFO) multilayer thin films have been fabricated by the spin-coating method on Pt(200 nm)/Ti(10 nm)/$SiO_2$(100 nm)/p-Si(100) substrates using $BiFeO_3$ and $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ metal alkoxide solutions. The PZT/BFO multilayer thin films show a uniform and void-free grain structure, and the grain size is smaller than that of PZT single films. The reason for this is assumed to be that the lower BFO layers play an important role as a nucleation site or seed layer for the formation of homogeneous and uniform upper PZT layers. The dielectric constant and dielectric losses decreased with increasing number of coatings, and the six-layer PZT/BFO thin film has good properties of 162 (dielectric constant) and 0.017 (dielectric losses) at 1 kHz. The remnant polarization and coercive field of three-layer PZT/BFO thin films were 13.86 ${\mu}C/cm^2$ and 37 kV/cm respectively.
Lead zirconate titanate(PZT) powders and thin films were prepared from an alkoxide-based solution by sol-gel method. Gelation of synthesized complex solutions, pyrolysis and crystallization behaviors of the dried powder were studied in accordance with a water content and a catalyst. PZT thin films were formed by spin-casting method on silicon and platinum substrates, and characterized. Ester produced from the reactions was completely removed when drying of the gel was finished. Pyrolysis property of the dried PZT gels were changed in order water content, class of catalyst, and quantity of catalyst. Crystalline Pb phase was transiently formed near 250$^{\circ}C$. Basic catalyst is good additive for a formation of perovskite phase in the films, and acidic catalyst for a densified film structure. By the analysis of RBS, Pb element in the PZT films were diffused into silicon substrate, and the pores, may be produced due to local densification around some grains in the films, make an origin of fault in microstructure when holding time goes to be longer at 700$^{\circ}C$.
Seo, Byung-Jun;Moon, Byung-Kee;Kim, Kang-Eon;Chung, Su-Tae
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2004.07b
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pp.916-919
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2004
This paper studied about the (100) orientation of PZT thin films coated on the LNO electrode using a different thermal annealing. The thermal annealing method is divided into two things. The one is the method transferring heat to only the lower substrate and another is transferring heat to all directions. Orientation factor of PZT in the method of transferring heat to only the lower substrate was F=99% in the thermal annealing of the LNO. Orientation factor of PZT was F=67% in the method of transferring heat to all directions.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2004.04b
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pp.13-17
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2004
The PZT thin films are well-known material that has been widely studied for ferroelectric random access memory (FRAM). We etched the PZT thin films by $CF_4/(Cl_2+Ar)$ plasma and investigated improvement in etching damage by $O_2$ annealing. PZT thin films were etched for 1 min in an ICP using a gas mixture of $Cl_2$(80%)/Ar (20%) with 30% $CF_4$ addition. The etching conditions were fixed at a substrate temperature of $30^{\circ}C$, an rf power of 700 W, a dc-bias voltage of -200 V and a chamber pressure of 2 Pa. To improve the ferroelectric properties of PZT thin films after etching, the samples were annealed for 10 min at various temperatures in $O_2$ atmosphere. After $O_2$ annealing, the remanent polarization, fatigue, and the leakage current were gradually recovered to the characteristics of the as-deposited film, according as the temperature increased.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1999.11a
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pp.224-227
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1999
Ferroelectric Pb(Zr$\sub$0.52/Ti$\sub$0.48/)O$_3$ thin films were fabricated by pulsed laser deposition, mainly varying process conditions such as substrate temperature, oxygen pressure, and laser energy, PZT films annealed at more than 600$^{\circ}C$ were crystallized into pure perovskite phases regardless of deposition temperatures. Lower deposition temperature of 400$^{\circ}C$ accompanied with post-annealing at 650$^{\circ}C$ resulted in denser microstructures with extremely small grains compated to those of thin films annealed at higher deposition temperatures. Hysteresis curves of thin film with small grains exhibitied good squareness and low leakage characteristics.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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v.23
no.6
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pp.630-635
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2014
This study aims to develop a PZT-driven depth adjustment device with a flexure hinge and to investigate its static/dynamic characteristics. This device will be applied to rapidly and accurately trace a flat surface with slight waviness of up to several hundreds of micrometers in magnitude. One typical example is to cut a film coated on a steel plate. A depth control system composed of PMAC, PZT/PZT amplifier, flexure hinge/knife, and laser displacement sensor is implemented on a desktop three-axis machine and an actual cutting test is conducted on a steel workpiece with a sinusoidal-wavy surface. It is verified that the dynamic characteristics of the device limit the maximum cutting speed and depth precision.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.55
no.12
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pp.549-554
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2006
In this paper we first applied the chemical mechanical polishing (CMP) process to the planarization of ferroelectric film in order to obtain a good planarity between electrode and ferroelectric film. $Pb_{1.1}(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ (shortly PZT) ferroelectric film was fabricated by the sol-gel method. And then, we compared the structural characteristics before and after CMP process of PZT films. Removal rate, WIWNU% and surface roughness have been found to depend on slurry abrasive types and their hardness, especially, surface roughness and planarity were strongly depends on its pH value. A maximum in the removal rate is observed in the silica slurry, in contrast with the minimum removal rate occurs at ceria slurry. We found that the surface roughness of PZT films can be significantly reduced using the CMP technique.
A two-beam polarization (TBP) interfermeter with a reflection configuration for measuring the linear electroptic coefficient is described and investigated experimentally and theoretically. It is shown that a TBP interferometer can be used for measuring the Pockels coefficient of thin film with a strong Fabry-Perot effect. The TBP interferometer technique is used to measure the effective differential linear electro-optic coefficient $re=r_{33}-(n_0/n_0)^3r_{13}$of lead zirconate titanate (PZT) thin film. The results are in agreement with known data.
Park, Young;Chung, Kyu-Won;Yim, Seung-Hyuk;Song, Jun-Tae
Proceedings of the KIEE Conference
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1999.07d
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pp.1986-1988
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1999
Ferroelectric lead zirconate titanate(PZT) thin films were prepared on various bottom electrodes by rf magnetron sputtering methode. The structural phase and surface morphology of the PZT thin films were largely affected by the bottom electrodes. P-E curves of PZT thin films deposited on Pt. $RuO_2$ and Ru/$RuO_2$ bottom electrode showed typical P-E hysteresis loop. The measure values of $P_r,\;E_c$ of the Ru/PZT/Ru/$RuO_2$ capacitor were $16.9{\mu}C/Cm^2$, 140kV/ cm, respectively. The Ru/PZT/Ru/$RuO_2$ capacitors were fatigue free uP to nearly $10^9$ switching cycle but Pt/PZT/Pt capacitor showed 34% degradation uP to $10^9$ switching cycle.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1998.06a
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pp.83-86
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1998
Ferroelectric PZT(40/67)/PZT(60/40)heterolayered thin films were Prepared by the alkoxide-based Sol-Gel method. PZT(40/60) and PZT(60/40) stock solutions were made and spin-coated on the P7Ti/Si02/Si substrate alternately. These PZT(40/60) and PZT(60/40) films were dried at 300$^{\circ}C$ for 30min to remove organic materials and were sintered at 650$^{\circ}C$ for 1 hour to crystalize into a perovskite structure. The coating and heating procedure were repeated 6 times to form heterolayered films. Increasing the number of coating, coercive field was decreased. The relative dielectric constant, loss, remanent polarization and coercive field of the 4-coated PZT heterolayered were 1200, 4.1[%], 30.794[${\mu}$C/㎡] and 147.22[kV/cm], respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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