• 제목/요약/키워드: PMMA 판

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고효율 백라이트 유닛을 위한 PMMA에서의 산란전산모사 (Simulation of scattering in PMMA for high-efficiency backlight unit)

  • 오영식;정주영;박준철;김경찬;하기룡;강신원
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2000년도 제11회 정기총회 및 00년 동계학술발표회 논문집
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    • pp.134-135
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    • 2000
  • LCD의 전력소모중 약 70%를 차지하는 부분이 백라이트 유닛이다. 전세계적으로 저전력, 고화질, 대면적의 LCD 디스플레이를 개발하기 위한 연구가 활발히 진행중이다. 주로 백라이트 유닛을 구성하는 입사광학계와 도광체 및 프리즘 필름 등을 기존 제작공정 내에서 개선하는 것에 연구 개발의 초점이 맞추어져 있다. 본 연구는 기존의 개선 방법에서 벗어나 도광판의 형태와 산란입자의 크기에 따른 산란정도를 조절하여 기존의 도광판보다 더 나은 산란효율을 얻고자 한다. 이를 위해 투명도와 경도가 우수한 PMMA(polymethyl methacrylate)에 다양한 산란자를 투입하여 도광판을 제작한다. 도광판의 실제 제작 이전에 고효율 도광판속에서의 정확한 산란전산모사를 필수적으로 선행하여야 한다. 따라서 광산란 측정장치를 제작하여 산란자의 종류에 따른 원통형 도광체에서 측정한 산란강도와 산란전산모사에서의 결과를 비교 분석하여 저전력, 고화질, 대면적의 백라이트 유닛을 개발하기 위한 기초 자료로 사용하고자 한다. (중략)

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단공 (端孔) V-노치가 있는 PMMA 판의 파괴기준에 관한 연구 (A Study on Fracture Criterion of PMMA Plates Having a V-Notch with an End Hole)

  • 추원철;조상봉;윤존도
    • 한국정밀공학회지
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    • 제33권10호
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    • pp.865-873
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    • 2016
  • The aim of this study was to examine the validity of fracture criterion for PMMA plates that have a V-notch with an end hole. The predicted stress intensity factors and crack initiation angles by the fracture criterion based on the maximum circumferential stress and the novozhilov's criteria were compared with the experimental results. By increasing the radius of end hole, the differences of predicted stress intensity factors and experimental results increased, possibly due to the plastic zone size. The results indicated that when the radius of end hole is < 1 mm, the fracture criterion would be useful.

다양한 두께의 부가 여과판을 적용한 X-선 영상에서의 Total Variation 알고리즘 적용 : GATE 시뮬레이션 연구 (Application of Total Variation Algorithm in X-ray Phantom Image with Various Added Filter Thickness : GATE Simulation Study)

  • 박태일;장수종;이영진
    • 한국방사선학회논문지
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    • 제13권5호
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    • pp.773-778
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    • 2019
  • X-선을 이용한 영상은 진단에 필수적인 요소지만 영상에서의 noise발생이 불가피하다. 이를 보완하기 위해 환자의 피폭선량은 낮추면서 영상의 질은 높여주는 total variation (TV) 알고리즘이 제시되었다. 본 연구의 목적은 시뮬레이션을 통해 부가 여과판의 두께에 따라 방사선 영상 촬영 시 영상의 화질에 미치는 영향을 확인하고, TV 알고리즘의 유용성을 평가하는 것이다. 부가 여과판의 두께변화에 따른 각 알고리즘 적용 시 Geant4 Application for Tomographic Emission (GATE) 시뮬레이션 영상을 이용하여 Polymethylmethacrylate(PMMA) 팬텀의 실제 크기, 모양과 재질을 동일하게 하고 대조도 대 잡음비 (contrast to noise ratio, CNR)과 변동계수 (coefficient of variation, COV)값을 비교하였으며 그 결과 TV 알고리즘 적용 시 CNR 값이 가장 높고 COV 값이 가장 낮다는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 모든 알고리즘에서 0 mmAl을 사용할 경우 가장 우수한 CNR과 COV값을 얻을 수 있었다.

PMMA 기판 위에 형성된 나노미터크기의 회절격자 패턴의 도광판에의 응용해석 (Analysis of PMMA LGP with the shape of nano-patterned stripe)

  • 정재훈;김경래;신원진;홍진수;이병욱;이태성;이종하;이근우;김창교
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2007년도 Techno-Fair 및 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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    • pp.248-249
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    • 2007
  • 나노미터 크기의 회절격자 패턴이 형성된 도광판을 설계하기 위한 전산모사를 수행한다. 광원은 LED 4개를 사용하였으며 PMMA 도광판 재질의 파장에 따른 빛의 흡수 현상을 고려하였다. 도광판 위치에 따른 투과광선의 세기 분포, 투과광선의 투과각도 분포 및 편광에 따라 투과광선의 세기가 어떻게 달라지는지 살펴보았다.

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실리카 다공체에 의한 발광다이오드 백라이트 유닛용 폴리카보네이트계 확산판의 광학 및 열-기계적 물성의 향상 연구 (Improvement of Optical and Thermo-mechanical Properties of Polycarbonate-based Diffusers for LED Backlight Unit by Incorporation of Porous Silica Particles)

  • 김효진;김동원;김성우
    • 폴리머
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    • 제36권6호
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    • pp.761-767
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    • 2012
  • 본 연구에서는 압출 컴파운딩 공정 및 압축 성형 공정을 이용하여 직하형 LED backlight unit(BLU)용 PC계 확산판을 제조하였다. 광 확산제로 무기 실리카 다공체의 적용을 시도하였으며, 제조된 확산판의 광학 및 열적, 기계적 물성의 변화를 조사하였다. 모폴로지 관찰을 통하여 광 확산제가 압출 공정 중 발생된 높은 전단응력에 의하여 PC 매트릭스 상에서 응집 현상 없이 균일하게 분산되었음을 확인하였다. 실리카 다공체를 보조 확산제로 첨가한 경우 확산판의 위치 및 시야각에 따른 휘도 균일도가 순수 아크릴 비드만을 첨가한 경우에 비해 뚜렷하게 향상되었으며, 반면에 절대휘도의 감소 정도는 매우 낮은 것으로 나타났다. 또한 첨가된 실리카 다공체는 확산판의 열 및 기계적 성질의 개선에도 기여하였다.

도광판의 고속 진동절삭 특성에 관한 연구 (Experimental Cutting Performance Evaluation of LGP using Vibration Assisted High Speed Shaping)

  • 강동배;안중환;손성민
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제15권4호
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    • pp.1871-1878
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    • 2014
  • 폴리메틸메타클릴레이트(PMMA)는 광 관련 부품제조에 있어 중요한 재료로 많이 사용되고 있다. 특히 TV, 모니터, 휴대폰 등에 쓰이고 있는 디스플레이의 도광판(Light Guide Panel)에 적용되고 있어 현재까지는 매우 큰 상업적인 수요가 있다. PMMA 도광판의 가공은 일반적으로 고속밀링에 의해 이루어지는데 부품에 대한 높은 정밀도 요구특성에도 불구하고 가공표면의 굴곡, 균열 등에 대한 불량이 적지 않게 발생하고 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여 PMMA 진동을 부가하는 고속선삭의 적용이 시도되었으며 절삭공구에 진동을 부가하기 위한 장치와 최적 조건이 조사되었다. 도광판용 PMMA의 진동절삭은 일반적인 밀링가공법에 비해 절삭력의 현저한 감소, 열변형영역의 축소 등을 유도하였다. 가공면에 있어서는 가공방법이 엔드 밀링에서 단인공구를 사용하는 선삭으로 변경되었음에도 불구하고 진동절삭법에 의해 가공표면의 균일성이 크게 향상되어 가공면의 표준편차 $1.0{\sim}6.0{\mu}m$, 평균거칠기 $0.3{\mu}m$가 달성되었다.

나노 임프린팅 기술에 의한 원기둥형 나노 패턴의 PMMA 도광판 형성 기술 (Technology to Fabricate PMMA Light Guiding Plate with Pillar Type Nano Pattern Using Nano Impinrinting Technology)

  • 이병욱;이태성;이종하;이근우;정재훈;홍진수;김창교
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2007년도 Techno-Fair 및 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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    • pp.156-157
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    • 2007
  • 나노임프린팅 기술을 이용하여 원기둥형 나노 패턴을 갖는 도광판을 제작하였다. 나노 임프린트 공정을 이용하기 위해서는 니켈 스탬퍼가 필요하기 때문에 이를 제작하기 위하여 실리콘 웨이퍼 상에 건식식각을 이용하여 실리콘 몰드를 제작하였다. 제작된 실리콘 몰드를 전주도금을 이용하여 니켈 스탬퍼를 제작하였다. 제작된 니켈 스탬퍼를 사용한 나노임프린트 공정을 통해 원기둥 나노패턴을 갖는 도광판을 제작하였다.

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PC 및 PMMA 수지를 이용한 LED 백라이트용 확산판의 제조 및 특성 연구 (Preparation and Characteristics of PC and PMMA-Based Diffusers for LED Backlight Unit)

  • 김남이;김효진;김동원;조재현;김성우
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제11권1호
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    • pp.21-27
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    • 2012
  • The optical diffuser for direct-lit LED backlight unit was prepared by using extrusion compounding followed by thermoforming process. Poly(methyl methacrylate) (PMMA) with superior optical characteristics and polycarbonate (PC) with good thermal property were used as base resins, and crosslinked polystyrene (PS) and PMMA beads as diffusing agents were incorporated into resin matrix to derive light scattering and diffusing action. In the compounded plate, the diffusing beads were observed to be dispersed uniformly and distinctly in the continuous phase. The inclusion of polymeric beads up to 3 wt% substantially enhanced the optical characteristics such as luminance, luminance uniformity, haze for the diffuser. Two different diffusers of PC and PMMA-based compound with various compositions were compared in terms of measured optical, thermal, and mechanical properties, which would be expected to be utilized for the industrial application of LED backlight unit.

나노 임프린트 리소그래피법에 의한 나노미터급 원기둥 패턴을 갖는 도광판의 제작 공정 개발 (Development of Fabrication Process of Light Guiding Plate with Nanometer-Sized-Cylindrical Pattern Using Nano Imprint Lithography Method)

  • 이병욱;홍진수;김창교
    • 제어로봇시스템학회논문지
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    • 제14권4호
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    • pp.332-335
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    • 2008
  • PMMA light guiding plate with nano pattern was fabricated by nano imprint lithography method. A silicon mold for electroplating of nickel was fabricated by conventional photolithography process. A nickel stamp for nano imprint lithography was fabricated by electroplating process using silicon mold. The nano imprint lithography was performed on PMMA plate at $140^{\circ}C$ under pressure of 20kN. The nano pattern on PMMA plate was investigated using FE-SEM. It is shown that the patterns were well transferred for several steps and the nano imprint lithography method could be applied for fabricating patterns of light guiding plate.