PECVD에 의해 제조된 ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$ 박막의 특성 및 전기적 성질 (Characterization and electrical properties of ($Ba_{1-x}Sr_x$)TiO$_3$thin films by PECVD)

• 홍성의;윤순길
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1996년도 재료학회 추계학술발표회
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  • pp.57-57
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  • 1996
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PECVD(Plasma enhanced chemical vapor deposition)방법에 의한 a-C:H 박막의 열처리에 관한 연구 (A study on heat treatment of a-C:H thin films deposited by PECVD)

• 한준희;진억용
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1996년도 재료학회 추계학술발표회
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  • pp.89-89
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  • 1996
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PECVD 기법을 이용한 나노 결정 Si 박막의 제조 및 특성 평가 (Characterization of Nanocrystalline Si Thin Film Prepared by PECVD Methods)

• 심재현;박명범;한규호;조남희
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 2001년도 추계 학술발표강연 및 논문개요집
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  • pp.184-184
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  • 2001
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PECVD법으로 증착한 다이아몬드성 카본 박막의 열처리에 따른 구조변화에 관한 연구 (A Study on the Structural Changes with Heat-treatment conditions of DLC film by PECVD method)

• 김준우;진억용
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1997년도 한국재료학회 추계학술발표회
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  • pp.51-51
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  • 1997
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스핀코팅법으로 Al, Ni을 흡착시킨 PECVD 비정질 실리콘 박막의 저온결정화 거동 (Low Temperature Crystallization of PECVD a-Si Films Adsorbed with Al and Ni by Spin Coating)

• 박상원;최용우;안병태
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1997년도 한국재료학회 추계학술발표회
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  • pp.89-89
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  • 1997
• PDF

Si 함량이 PECVD SiON 박막의 전기적 및 광학적 물성에 미치는 영향 (Effect of Si Content on Electrical and Optical Properties of PECVD Silicon Oxynitride Film)

• 유춘근;구자춘;오수진;김시범;김삼동;김정태
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1999년도 춘계학술발표강연 및 눈문개요집
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  • pp.20-20
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  • 1999
• PDF

PECVD법으로 제조된 B-doped 수소화된 비정질 실리콘카바이드 박막의 물성 (Physical Properties of Boron Doped Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Thin Films Prepared by PECVD)

• 김현철;신혁재;이재신
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1999년도 춘계학술발표강연 및 눈문개요집
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  • pp.31-31
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  • 1999
• PDF

PECVD법으로 증착된 DLC film의 구조변화 연구 (Structural investigation on DLC film deposited by PECVD)

• 송재진;김문협;최진혁;노재승;김인수;김성진
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1999년도 춘계학술발표강연 및 눈문개요집
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  • pp.107-107
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  • 1999
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PECVD법을 이용한 탄소강의 페이스트 보라이딩 (Paste Boriding of Carbon Steel with PECVD Method)

• 이규열;이준용;박인선;이재호;김영환
• • 한국표면공학회:학술대회논문집
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  • 한국표면공학회 1999년도 춘계학술발표회 초록집
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  • pp.50-51
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  • 1999
• PDF

LPCVD, PECVD, ECR Plasma CVD를 이용한 SiN막질의 비교 (Comparision of SiN film properties prepared by LPCVD, PECVD, and ECR Plasma CVD)

• 이태호;이규한;이승윤;정창영;안진호
• • 한국재료학회:학술대회논문집
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  • 한국재료학회 1996년도 재료학회 춘계학술발표회
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  • pp.44-44
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  • 1996
• PDF

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