• Title/Summary/Keyword: Organic Light Emitting Diode

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Atmospheric Pressure Plasma를 이용한 Oxide Thin Film Transistor의 특성 개선 연구

  • Mun, Mu-Gyeom;Kim, Ga-Yeong;Yeom, Geun-Yeong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.02a
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    • pp.582-582
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    • 2013
  • Oxide TFT (thin film transistor) active channel layer에 대한 저온 열처리 공정은 투명하고 flexibility을 기반으로하는 display 산업과 AMOLED (active matrix organic light emitting diode) 분야 등 다양한 분야에서 필요로 하는 기술로서 많은 연구가 이루어지고 있다. 과거 active layer는 ALD (atomic layer deposition), CVD (chemical vapor deposition), pulse laser deposition, radio frequency-dc (RF-dc) magnetron sputtering 등과 같은 고가의 진공 장비를 이용하여 증착 되어져 왔으나 현재에는 진공 장비 없이 spin-coating 후 열처리 하는 저가의 공정이 주로 연구되어 지고 있다. Flexible 기판들은 일반적인 OTFT (oxide thin films Transistor)에 적용되는 열처리 온도로 공정 진행시 열에 의한 기판의 손상이 발생한다. Flexible substrate의 열에 의한 기판 손상을 막기 위해 저온 열처리 공정이 연구되고 있지만 기존 열처리와 비교하여 소자의 특성 저하가 동반 되었다. 본 연구에서는 Si 기판위에 SiO2 (100)를 절연층으로 증착하고 그 위에 IZO (indium zinc oxide) solution을 spin-coating 한뒤 $250^{\circ}C$ 이하의 온도에서 열처리하였다. 저온 공정으로 인하여 소자의 특성 저하가 동반 되었으므로 소자의 저하된 특성 복원하고자 post-treatment로 고가의 진공장비가 필요 없고 roll-to roll system 적용이 수월한 remote-type의 APP (atmospheric pressure plasma) 처리를 하였다. Post-treatment로 APP를 이용하여 $250^{\circ}C$ 이하에서 소자에 적용 가능한 on/off ratio를 얻을 수 있었다.

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Aerosol Synthesis of Gd2O3:Eu/Bi Nanophosphor for Preparation of Photofunctional Pearl Pigment as Security Material

  • Jung, Kyeong Youl;Han, Jang Hoon;Kim, Dae Sung;Choi, Byung-Ki;Kang, Wkang-Jung
    • Journal of the Korean Ceramic Society
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    • v.55 no.5
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    • pp.461-472
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    • 2018
  • $Gd_2O_3:Eu/Bi$ nanoparticles were synthesized via spray pyrolysis and applied for the preparation of a luminescent pearl pigment as an anti-counterfeiting material. The luminescence properties were optimized by changing the $Eu^{3+}$ and $Bi^{3+}$ concentration. Ethylene glycol was used as an organic additive to prepare the $Gd_2O_3:Eu/Bi$ nanoparticles. The highest emission intensity was achieved when the total dopant content was 10.0 at.% and the mole fraction of Bi was 0.1. The concentration quenching was mainly due to dipole-dipole interactions between the same activators, and the critical distances were 9.0 and $19.6{\AA}$ for $Eu^{3+}$ and $Bi^{3+}$, respectively. The prepared $Gd_2O_3:Eu/Bi$ powder exhibited an average size of approximately 82.5 nm and a narrow size distribution. Finally, the $Gd_2O_3:Eu/Bi$ nanophosphor coated on the surface of the pearl pigment was confirmed to have good red emission under irradiation from a portable ultraviolet light-emitting diode lamp (365 nm).

Characteristics and Gas Barrier Properties of Mg-Zn-F Films in Various Ratio of $MgF_2$ to Zn

  • Lee, Sung-Youp;Kim, Do-Eok;Shin, Byong-Wook;Kang, Byoung-Ho;Hong, Seok-Min;Kang, Shin-Won;Lee, Hyeong-Rag
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2009.10a
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    • pp.899-901
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    • 2009
  • The magnesium fluoride ($MgF_2$) has very higher optical transmission than oxide or nitride material applied for gas barrier, so we manufactured Mg-Zn-F films with Mg-Zn-F target mixed in the various ratio of $MgF_2$ to Zn and characterized films' properties. Zn is used to increase packing density of barrier film. Thickness and optical transmission of Mg-Zn-F are 200 nm and over 90 %, respectively. The result of water vapor transmission rate at 38, RH 90 ~ 100% of the Mg-Zn-F film deposited with 4 : 6 ($MgF_2$ : Zn) ratio target reached below $1{\times}10^{-3}g$/($m^2{\cdot}day$), measuring limit of instrument.

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4.1” Transparent QCIF AMOLED Display Driven by High Mobility Bottom Gate a-IGZO Thin-film Transistors

  • Jeong, J.K.;Kim, M.;Jeong, J.H.;Lee, H.J.;Ahn, T.K.;Shin, H.S.;Kang, K.Y.;Park, J.S.;Yang, H,;Chung, H.J.;Mo, Y.G.;Kim, H.D.;Seo, H.
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2007.08a
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    • pp.145-148
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    • 2007
  • The authors report on the fabrication of thin film transistors (TFTs) that use amorphous indium-gallium-zinc oxide (a-IGZO) channel and have the channel length (L) and width (W) patterned by dry etching. To prevent the plasma damage of active channel, a 100-nm-thckness $SiO_{x}$ by PECVD was adopted as an etch-stopper structure. IGZO TFT (W/L=10/50${\mu}m$) fabricated on glass exhibited the high performance mobility of $35.8\;cm^2/Vs$, a subthreshold gate voltage swing of $0.59V/dec$, and $I_{on/off}$ of $4.9{\times}10^6$. In addition, 4.1” transparent QCIF active-matrix organic light-emitting diode display were successfully fabricated, which was driven by a-IGZO TFTs.

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Synthesis and Luminescent Properties of Tetrafluorophenyl Containing Poly(p-phenylenevinylene) Derivatives

  • Ahn, Taek
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • v.16 no.3
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    • pp.162-167
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    • 2015
  • To investigate the effect of fluoro groups substitution on poly(p-phenylenevinylene) derivatives, poly(2,3,5,6- tetrafluoro-p-phenylenevinylene-alt-N-ethylhexyl-3,6-carbazolevinylene), PCTF-PPV, and poly[2,3,5,6-tetrafluoro-p-phenylenevinylene-alt-2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-p-phenylenevinylene], PMTF-PPV, were synthesized by the well-known Wittig condensation polymerization process. To compare the influences of fluoro groups, no fluoro groups containing model polymers, poly(p-phenylenevinylene-alt-N-ethylhexyl-3,6-carbazolevinylene), PCPPPV and poly[p-phenylenevinylene-alt-2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-p-phenylenevinylene], p-PMEH-PPV, were also synthesized. The resulting polymers were completely soluble in common organic solvents and exhibited good thermal stability up to 300℃. The polymers showed UV-visible absorbance and photoluminescence (PL) in the ranges of 259~452 nm and 500~580 nm, respectively. The tetrafluorophenyl containing PCTF-PPV and PMTF-PPV showed relatively red-shifted PL peaks at 521 nm and 580 nm, respectively, compared to that of non-fluoro groups containing polymers (PCP-PPV: 500 nm and p-PMEH-PPV: 539 nm). The single-layer light-emitting diode was fabricated in a configuration of ITO/polymer/Al. Electroluminescene (EL) emissions of PCP-PPV, PCTF-PPV, p-PMEH-PPV and PMTF-PPV were shown at 507, 524, 556, and 616 nm, respectively.

A Luminance Compensation Method Using Optical Sensors with Optimized Memory Size for High Image Quality AMOLED Displays

  • Oh, Kyonghwan;Hong, Seong-Kwan;Kwon, Oh-Kyong
    • Journal of the Optical Society of Korea
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    • v.20 no.5
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    • pp.586-592
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    • 2016
  • This paper proposes a luminance compensation method using optical sensors to achieve high luminance uniformity of active matrix organic light-emitting diode (AMOLED) displays. The proposed method compensates for the non-uniformity of luminance by capturing the luminance of entire pixels and extracting the characteristic parameters. Data modulation using the extracted characteristic parameters is performed to improve luminance uniformity. In addition, memory size is optimized by selecting an optimal bit depth of the extracted characteristic parameters according to the trade-off between the required memory size and luminance uniformity. To verify the proposed compensation method with the optimized memory size, a 40-inch 1920×1080 AMOLED display with a target maximum luminance of 350 cd/m2 is used. The proposed compensation method considering a 4σ range of luminance reduces luminance error from ± 38.64%, ± 36.32%, and ± 43.12% to ± 2.68%, ± 2.64%, and ± 2.76% for red, green, and blue colors, respectively. The optimal bit depth of each characteristic parameter is 6-bit and the total required memory size to achieve high luminance uniformity is 74.6 Mbits.

Hole pattern 형성에 따른 금속/PET sheet의 인장 시 저항변화

  • Choe, Yeong-Jun;Gwon, Na-Hyeon;Jo, Yeong-Rae
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.37.1-37.1
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    • 2009
  • 최근 휘어짐이 가능한 flexible display의 개발이 활발히 진행됨에 따라 OLED(organic light emitting diode)의 발전 가능성은 커지고 있다. 하지만 cathode 재료인 Cr, Al등은 tensile 또는 bending에 취약하다. 따라서 본 연구에서는, 인장시험용 아령모형의 PET($125\;{\mu}m$) 필름에 Al, Cr, Cr+Al을 각각 코팅하고 부분적으로 hole을 patterning함으로써 인장 시 미소크랙의 발생을 감소시켜 전기저항(R) 변화를 최소화하는 패턴형상을 design하고 세 가지 금속의 전기저항 변화를 통해 좀 더 우수한 flexible display용 금속을 찾는데 그 목적이 있다. 전극에 형성된 미세패턴의 영향과 패턴 된 hole size에 따른 전기저항의 변화를 알아보기 위해 hole size는 $50\;{\mu}m$, $30\;{\mu}m$, $10\;{\mu}m$로 제작하였고 각각의 금속막에 patterning하였다. 제작된 시편을 인장시험 장치에 설치 후 2mm/min의 속도로 인장응력을 가하면서 Load의 증가에 따른 금속막의 전기저항($\bigtriangleup$R)을 동시동작으로 측정하였다. 실험결과 인장시험 시 저항변화는 Cr이 짧은 시간에 가장 급격하게 변하였으며 다음으로 Cr+Al, Al순 이였다. 또한, hole size의 크기에 따른 전기저항의 변화는 $50\;{\mu}m$ size의 hole을 pattern한 시편이 가장 안정한 저항 변화를 보였다.

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금속이 코팅된 PET필름의 수분침투 특성 평가

  • Choe, Yeong-Jun;Park, Gi-Jeong;Jo, Yeong-Rae
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2009.05a
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    • pp.36.1-36.1
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    • 2009
  • OLED(organic light emitting diode)는 차세대 평판 디스플레이로 전자종이, 입는 디스플레이 등 flexible한 디스플레이로도 주목받고 있다. 하지만, OLED의 가장 큰 단점 중의 하나가 수분과 산소에 매우 민감하다는 것으로 이것은 OLED의 lifetime과 연결된다. 따라서 이에 대한 mechanism의 확립이 필요하다. 따라서 본 연구에서는, flexible한 OLED에 적용되는 금속 코팅막의 적층구조 및 기판의 노출온도에 따른 금속 코팅막의 수분침투 특성에 대해 MOCON의 weight gain test (WGT)를 통해 barrier layer에 대해 평가하고 이에 대한 mechanism을 확립하는데 그 목적이 있다. 금속 코팅막은 OLED의 cathode와 anode 재료로 많이 사용되는 Al과 ITO를 sputter장비를 이용해 single layer와 multi-layer의 두 가지 구조로 PET기판에 증착하였다. 또한, 노출온도에 따른 특성을 알아보고자 bare PET / ITO coated PET(single layer $50{\mu}m$) / Al coated PET(single layer $200{\mu}m$)의 세 가지 시편을 제작하였다. 이 시편을 각각 $25^{\circ}C$, $37.8^{\circ}C$, $50^{\circ}C$의 온도에서 test를 진행하였고 이 과정을 100%RH, 70%RH, 40%RH조건의 수분조건에서 진행하여 각각의 수분조건에서 각각의 온도에 따른 금속 코팅막의 수분침투 특성에 대한 mechanism을 확립하였다. 적층구조에 따른 수분침투 특성 평가 결과 multi-layer가 single layer보다 더 우수한 수분침투의 barrier 특성을 나타냈었다. 그리고 각 온도에 따른 test결과 온도가 증가할수록 barrier의 특성이 나빠짐이 보였다.

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Polarity-Balanced Driving to Reduce $V_{TH}$ Shift in a-Si for Active-Matrix OLEDs (문턱전압 열화를 최소화하는 비정질 실리콘 TFT 유기 EL 용 화소 회로)

  • Lee, Hye-Jin;You, Bong-Hyun;Lee, Jae-Hoon;Nam, Woo-Jin;Han, Min-Koo
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2004.11a
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    • pp.20-22
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    • 2004
  • 유기 EL(Organic Light Emitting diode : OLED)은 자체발광 소자로서 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)에 비해 빠른 응답속도, 넓은 시야각 등의 뛰어난 화질 표현이 가능하다. 구동 박막 트랜지스터(TFT)의 전류가 OLED의 휘도를 결정하므로, 고품질의 영상을 위해 미세한 TFT 전류 조절 능력이 매우 중요하다. 비정질 실리콘(a-Si) TFT는 그레인 구조를 갖는 다결정 실리콘(poly-Si) TFT에 비해 균일한 전기적 특성을 나타내지만, 장시간 구동에 따른 문턱전압의 열화가 발생한다. 본 논문에서는 상기의 문제점을 최소화하기 위하여 positive bias에 의한 열화를 negative bias로 어닐링하는 구동방법을 제안하였다. 본 회로는 2개의 게이트 선택 신호와 6개의 a-Si TFT로 이루어져 있다. 실험 결과를 통해 추출된 소자 parameter를 바탕으로 제안된 회로의 simulation을 수행 및 검증하였다. 본 회로는 a-Si TFT에서 발생하는 문턱전압 열화 등의 신뢰성 문제를 감소시킨다.

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High-performance thin-film transistor with a novel metal oxide channel layer

  • Son, Dae-Ho;Kim, Dae-Hwan;Kim, Jung-Hye;Sung, Shi-Joon;Jung, Eun-Ae;Kang, Jin-Kyu
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.222-222
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    • 2010
  • Transparent semiconductor oxide thin films have been attracting considerable attention as potential channel layers in thin film transistors (TFTs) owing to their several advantageous electrical and optical characteristics such as high mobility, high stability, and transparency. TFTs with ZnO or similar metal oxide semiconductor thin films as the active layer have already been developed for use in active matrix organic light emitting diode (AMOLED). Of late, there have been several reports on TFTs fabricated with InZnO, AlZnSnO, InGaZnO, or other metal oxide semiconductor thin films as the active channel layer. These newly developed TFTs were expected to have better electrical characteristics than ZnO TFTs. In fact, results of these investigations have shown that TFTs with the new multi-component material have excellent electrical properties. In this work, we present TFTs with inverted coplanar geometry and with a novel HfInZnO active layer co-sputtered at room temperature. These TFTs are meant for use in low voltage, battery-operated mobile and flexible devices. Overall, the TFTs showed good performance: the low sub-threshold swing was low and the $I_{on/off}$ ratio was high.

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