• Title/Summary/Keyword: O2O특성

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The Cathodoluminance Properties of ${Y_2}{SiO_5}:Ce$ Blue Phosphor with Surface Coatings (${Y_2}{SiO_5}:Ce$ 청색 형광체의 표면 코팅에 따른 음극선 발광특성)

  • Kim, Seong-U;Lee, Im-Ryeol
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.10 no.8
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    • pp.558-563
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    • 2000
  • $Y_2SiO_5:Ce$ phosphor was coated with $In_2O_3$, $Al_2O_3$ and $SiO_2$ and then their cathodoluminance(CL)proper-ties required in field emission display were investigated. It was found that luminance efficiency and aging p개perty of $Y_2SiO_5:Ce$ phosphor was decreased with $In_2O_3$coating. For the case of coating, the luminance intensity was in blue phosphor was dramatically increased with $SiO_2$ coating. And also the aging property of $Y_2SiO_5:Ce$ Phosphor coated with $SiO_2$ was significantly improved compared to non-coated sample.

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Doped TiO2와 coupled TiO2 제조 및 다양한 광원하의 유기물 분해 특성 평가

  • Lee, Gyu-Sang;Mun, Ji-Yeon;Kim, Seon-Min
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.227.1-227.1
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    • 2015
  • 산업이 발달하면서 다양한 화학물질이 배출되고 이로 인하여 환경이 오염되고 있으며, 특히, 대부분의 유기 화합물은 대기오염에 많은 영향을 주는 물질로 알려져 있다. 최근 유기 화합물을 제거하기 위해서 UV와 가시광에서 반응하는 광촉매 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는 밴드갭에 변화를 주는 doped $TiO_2$와 가시광에서 반응하는 조촉매를 이용하여 광촉매의 특성을 향상시키는 coupled $TiO_2$를 제조하였다. Doped $TiO_2$를 제조하기 위해서 비금속 물질인 질소(nitrogen)을 사용하였고, coupled $TiO_2$는 graphine oxide(GO)를 환원하여 $TiO_2$-RGO 촉매를 제조하였다. N-$TiO_2$$TiO_2$-RGO의 광학 특성을 평가하기 위해서 UV/Vis 분광광도계를 사용하였다. Methylene blue(MB)와 methyl orange(MO)가 분해되는 반응을 통해서 N-$TiO_2$$TiO_2$-RGO의 광촉매 특성을 평가하였다. 또한, MB와 MO 분해 테스트에 395 nm long pass filter를 이용하여 가시광에서의 광촉매 활성을 평가하였다.

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Thin Film Transistor Characteristics with ZnO Channel Grown by RF Magnetron Sputtering (RF Magnetron Sputtering으로 증착된 ZnO의 증착 특성과 이를 이용한 Thin Film Transistor특성)

  • Kim, Young-Woong;Choi, Duck-Kyun
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.14 no.3
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    • pp.15-20
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    • 2007
  • Low temperature processed ZnO-TFTs on glass below $270^{\circ}C$ for plastic substrate applications were fabricated and their electrical properties were investigated. Films in ZnO-TFTs with bottom gate configuration were made by RF magnetron sputtering system except for $SiO_2$ gate oxide deposited by ICP-CVD. ZnO channel films were grown on glass with various Ar and $O_2$ flow ratios. All of the fabricated ZnO-TFTs showed perfectly the enhancement mode operation, a high optical transmittance of above 80% in visible ranges of the spectrum. In the ZnO-TFTs with pure Ar process, the field effect mobility, threshold voltage, and on/off ratio were measured to be $1.2\;cm^2/Vs$, 8.5 V, and $5{\times}10^5$, respectively. These characteristic values are much higher than those of the ZnO-TFTs of which ZnO channel layers were processed with additional $O_2$ gas. In addition, ZnO-TFT with pure Af process showed smaller swing voltage of 1.86v/decade compared to those with $Ar+O_2$ process.

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$La_2O_3/HfO_2$ 나노 층상구조를 이용한 MIM capacitor의 특성 향상

  • O, Il-Gwon;Kim, Min-Gyu;Park, Ju-Sang;Kim, Hyeong-Jun
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2012.05a
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    • pp.82.1-82.1
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    • 2012
  • 란타늄 산화물 ($La_2O_3$) 박막은 하프늄 산화물 ($HfO_2$) 박막보다 높은 유전 상수와 높은 밴드 오프셋으로 인해 dynamic random access memory(DRAM)에서 유전체 재료로써 연구되어 왔다. 그리고 Lanthanum이 도핑된 HfO2이 더 높은 유전 상수와 낮은 누설 전류 밀도를 갖는 다는 사실이 이전에 보고 된 바 있다. 본 연구에서 우리는 ALD를 이용하여, TiN 하부 전극 위에 $La_2O_3$의 위치를 달리하는 $La_2O_3/HfO_2$의 나노 층상조직 구조(두께 10 nm)를 금속 - 절연체 - 금속 (MIM) 구조로 제작 하였다. ALD는 좋은 comformality와 넓은 지역 균일성을 가지며, 원자수준의 두께를 조절할 수 있다는 장점을 갖고 있다. 또한, 다양한 화학 물질들을 이용한 복합적 계층구조를 만들 수 있는 점과 $HfO_2$$La_2O_3$ 계층의 수직 위치를 정확하게 조절할 수 있는 점으로 본 연구에 적합한 증착 방법이다. HfO2 속에 $La_2O_3$ 층을 깊이에 따라 삽입함으로써 $HfO_2$ 계층에 La 도핑의 효과와 더불어 TiN 하부 전극 위의 $La_2O_3$$HfO_2$의 차이점을 확인 하였다. $HfO_2$$250^{\circ}C$에서 TDMAH와 물을 사용하여, $La_2O_3$은 동일한 온도에서 $La(iPrCp)_3$와 물을 사용하여 제작되었다. 화학적 구성 및 binding 구조는 X선 광전자 분광법 (XPS)을 통해 분석하였다. 전기적 특성(유전 상수 및 누설 전류)은 Capacitance-Voltage (CV)와 Current-Voltage (IV) 측정으로 확인하였다. 결과적으로, $La_2O_3$ 또는 $HfO_2$을 한 종류만 사용한 절연층의 전기적 특성보다, $La_2O_3/HfO_2$의 나노 층상조직 구조가 더 나은 특성 (누설 전류 밀도 : $5.5{\times}10^{-7}\;A/cm^2$ @-1MV/cm, EOT : 14.6)을 갖는다는 것을 확인했고, 더불어 $La_2O_3$의 흡습 성질로 인한 화학 구조와 전기적 특성의 일부 차이를 확인하였다. 본 연구에서는 $HfO_2$ 속에 $La_2O_3$층이 TiN 하부 전극 바로 위에 위치할 때, 즉, 공기 중에 노출되지 않은 $La_2O_3/HfO_2$ 구조에서 가장 좋은 특성의 MIM capacitor를 얻을 수 있었다.

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A Study on the Characteristics of Semiconductor Oxides with V2O5 (V2O5가 첨가된 반도체 산화물의 특성개선연구)

  • Lee, Don-Kyu
    • Journal of IKEEE
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    • v.22 no.4
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    • pp.965-969
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    • 2018
  • In the dye-sensitized solar cell, the semiconductor oxide plays an important role in the generation and transport of electrons, and thus extensive research on this has been continuously carried out. In this study, the characteristics of dye-sensitized solar cell are studied by fabricating semiconductor oxide doped with $V_2O_5$. The $TiO_2$ paste with $V_2O_5$ is prepared by the screen printing method of the sol - gel process and the surface and electrical properties are measured. The addition of $V_2O_5$ increased grain size and improved the open circuit voltage, short circuit current, charge factor and conversion efficiency of the dye sensitized solar cell.

Humidity Characteristics of $SnO_2/TiO_2$ Thick Film Devices ($SnO_2/TiO_2$후막소자의 감습특성)

  • Park, Hyo-Deok;Lee, Deok-Dong
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.2 no.3
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    • pp.163-171
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    • 1992
  • The $SnO_2/TiO_2$ thick film type humidity sensing devices containing 5 to 50 wt% $TiO_2$ have been fabricated by a typical screen printing technique. The surface crystal structure and microstructure were investigated by XRD, SEM and FTIR analyses. And the measurement of sensing characteristics of the thick film devices have been carried out. The crystalline phase of the thick flus were mainly identified as $(SnO_2){\cdot}6T$ crystal structure with XRD analysis, and the thick films sintered at $1300^{\circ}C$ showed an average particle size of $2.0{\mu}m$. The $SnO_2/TiO_2$ device sintered at $1300^{\circ}C$ containing 10 wt% $TiO_2$ showed high sensitivity to humidity in the range of R.H. 20-90%.

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The Effects of $O_2$ Partial Prewwure on Soft Magnetic Properties of Fe-Hf-O Thin Films (Fe-Hf-O계 박막에서 산소 분압 변화가 박막특성에 미치는 영향)

  • 박진영;김종열;김광윤;한석희;김희중
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.7 no.5
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    • pp.243-248
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    • 1997
  • The effect of $O_2$ partial pressure on microstructure and soft magnetic properties of as-deposited Fe-Hf-O thin film alloys, which are produced by rf magnetron sputtering method in $Ar+O_2$ mixed gas atmosphere, are investigated. Saturation magnetization ($4{\pi}M_s$) of Fe-Hf-O film were decreased with increasing $O_2$ partial pressure, the best soft magnetic properties exhibit at $O_2$ partial pressure of 10%. With further increase of $O_2$ partial pressure, soft magnetic properties decreased continuously. The $Fe_{82}Hf_{3.4}O_{14.6}$ film with $P_{O2}=10%$ exhibits good soft magnetic properties with $4{\pi}M_s=17.7kG$, $H_c=0.7Oe$ and ${\mu}_ {eff}$ (1~100 MHz)=2,500, respectively. The addition of O is effective in grain refinement. In case of $P_{O2}=15%$, it is observed that $Fe_3O_4$ compound is formed and high frequency soft magnetic properties are decrease. The electrical resistvity($\rho$) of Fe-Hf-O film is increased with increasing $O_2$ partial pressure. Electrical resistivity of $Fe_{82}Hf_{3.4}O_{14.6}$ film was 5 times higher than that of the film without oxygen. Thus, it is considered that the good magnetic properties of $Fe_{82}Hf_{3.4}O_{14.6}$ film results from decreasing the $\alpha$-Fe grain size by precipitates (Hf and O), high electrical resistivity.

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The Characterization of Interfaces between ZnO Thin Films and Metal Electrodes (ZnO 박막과 금속전극과의 계면특성조사)

  • 박성순;임원택;이창효
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.7 no.3
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    • pp.201-207
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    • 1998
  • We have investigated about interface characteristics between ZnO thin films and metal electrodes when ZnO and metal electrodes were fabricated as piezoelectric vibrators. At this, ZnO thin films were deposited by rf reactive magnetron sputtering method. After fabricating piezoelectric vibrator of Cr/ZnO/Cr structure with optimum condition, we analyse interface characteristics between ZnO thin films and metal electrodes by I-V measurement. AES depth profile, SEM and C-V measurement. From these measurements we found that ZnO piezoelectric vibrators showed good property when they fabricated as Cr/$SiO_2$/ZnO/Cr structure. And we could confirm these things by driving, and measuring vibration displacement of piezoelectric vibrator with $SiO_2$diffusion barrier.

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Electrical Properties of $TiO_2$ and $Al_2O_3/TiO_2$ Thin Films Deposited by E-beam Evapration (전자빔 증착법에 의한 $TiO_2$ 박막 및 $Al_2O_3/TiO_2$ 박막의 전기적 특성)

  • Ryu, Hyun-Wook;Park, Jin-Seong
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.04b
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    • pp.5-8
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    • 2004
  • 전자빔 증착법 (e-beam evaporation)를 이용하여 $TiO_2$ 박막과 $Al_2O_3/TiO_2$ 이중박막을 제조한 후, $800^{\circ}C$ 공기 중에서 열처리하여, 알루미나 층의 유무에 따른 두 박막의 전기전도 특성과 100 ppm CO 가스에 대한 반응 특성을 고찰하였다. 알루미나 층이 증착되지 않은 순수한 $TiO_2$ 박막의 전기 전도도 (in dry air)는 $100^{\circ}C-500^{\circ}C$ 온도범위에서 온도가 증가함에 따라 증가하였으며 알루미나 층이 증착된 $Al_2O_3/TiO_2$ 이중막보다 높은 전도도를 나타내고 있으나, 약 $300^{\circ}C$이상의 온도에서는 $Al_2O_3/TiO_2$ 이중막의 전기 전도도가 급격히 증가하여 $TiO_2$ 박막의 전기전도도 보다 더 높은 값을 나타내었다. 또한 온도에 따른 CO 가스 감도(sensitivity)는 $TiO_2$ 박막의 경우 $400^{\circ}C$까지는 서서히 증가하여 그 이상의 온도에서 급격히 감소하였으나, $Al_2O_3/TiO_2$ 이중막은 $250^{\circ}C$에서 감도가 급격히 증가하여 최대값을 나타내었으며, $350^{\circ}C$에서 감도가 급격히 감소하는 특성을 나타내었다.

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