• 제목/요약/키워드: O/M ratio

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저 산화제유속 구간에서의 HDPE 및 Paraffin 연료의 연료농후가스 O/F비 특성 (Fuel Rich Gas O/F Ratio Characteristics of HDPE and Paraffin Fuel in Low Range of the Oxidizer Mass Flux)

  • 한승주;류성훈;김진곤;강태곤;문희장;김준형;고승원
    • 한국추진공학회지
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    • 제20권6호
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    • pp.54-60
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    • 2016
  • 본 연구에서는 하이브리드 추진시스템의 덕티드 로켓용 가스발생기 적용을 위하여 낮은 산화제 유속 범위에서 HDPE multi-port(7port) 그레인 및 파라핀 그레인을 이용한 연소 시험을 수행하였다. 파라핀 연료의 경우 일반적인 덕티드 로켓용 가스발생기의 O/F비 작동조건인 0.3~0.8의 범위를 충족시켜 덕티드 로켓용 가스발생기로서의 적용가능성을 확인하였다. 산화제 유속 $35kg/m^2s$ 이하의 구간에서 산화제유속에 따른 O/F비의 변화가 일어나지 않는 구간이 존재함을 확인함으로써 VFDR 가스발생기로서의 적용가능성 또한 확인할 수 있었다.

실리카 광도파로용 SiON 후막 특성에서 RF Power와 $SiH_4$/($N_2$O+$N_2$) Ratio가 미치는 영향 (The Effect of RF Power and $SiH_4$/($N_2$O+$N_2$) Ratio in Properties of SiON Thick Film for Silica Optical Waveguide)

  • 김용탁;조성민;서용곤;임영민;윤대호
    • 한국세라믹학회지
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    • 제38권12호
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    • pp.1150-1154
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    • 2001
  • 플라즈마 화학기상증착(PECVD)법을 이용하여 실리카 광도파막의 코어로 이용되는 규소질산화막(SiON)을 Si 웨이퍼 위에 SiH$_4$,$N_2$O, $N_2$가스를 혼합하여 저온(32$0^{\circ}C$)에서 증착하였다. Prism coupler 측정을 통해 SiON 굴절률 1.4663~1.5496을 얻었으며, SiH$_4$/($N_2$O+$N_2$) 유량비와 rf power가 각각 0.33과 150W에서 8.67$mu extrm{m}$/h의 증착률을 나타내었다. 또한 SiH$_4$/($N_2$O+$N_2$) 유량비가 감소함에 따라 SiON막의 roughness는 41~6$\AA$까지 감소하였다.

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대안기계 스케쥴링 문제에 대한 라운딩 알고리듬 (A rounding algorithm for alternate machine scheduling)

  • 황학진
    • 경영과학
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    • 제24권2호
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    • pp.33-42
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    • 2007
  • In this paper we consider an alternate m machine scheduling problem in which each job having at most two eligible machines should be assigned with the objective of makespan minimization. For this problem. we propose a $O(m2^m)$ time rounding algorithm with performance ratio at most 1.5. For a little general problem where each job can be processed in at most three machines, we prove that a polynomial time algorithm does not exist with performance ratio less than 1.5.

Synergistically Enhanced Oxygen Evolution Catalysis with Surface Modified Halloysite Nanotube

  • Hyeongwon Jeong;Bharat Sharma;Jae-ha Myung
    • Journal of Electrochemical Science and Technology
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    • 제14권1호
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    • pp.96-104
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    • 2023
  • Synergistically increased oxygen evolution reaction (OER) of manganese oxide (MnO2) catalyst is introduced with surface-modified halloysite nanotube (Fe3O4-HNTs) structure. The flake shaped MnO2 catalyst is attached on the nanotube template (Fe3O4-HNTs) by series of wet chemical and hydrothermal method. The strong interaction between MnO2 and Fe3O4-HNTs maximized active surface area and inter-connectivity for festinate charge transfer reaction for OER. The synergistical effect between Fe3O4 layer and MnO2 catalyst enhance the Mn3+/Mn4+ ratio by partial replacement of Mn ions with Fe. The relatively increased Mn3+/Mn4+ ratio on MnO2@FHNTs induced 𝜎* orbital (eg) occupation close to single electron, improving the OER performances. The MnO2@FHNTs catalyst exhibited the reduced overpotential of 0.42 V (E vs. RHE) at 10 mA/cm2 and Tafel slope of (99 mV/dec), compared with that of MnO2 with unmodified HNTs (0.65 V, 219 mV/dec) and pristine MnO2 (0.53 V, 205 mV/dec). The present study provides simple and innovative method to fabricate nano fiberized OER catalyst for a broad application of energy conversion and storage systems.

고밀도 플라즈마에 의한 $Y_2O_3$ 박막의 식각 메커니즘 연구 (Etch Mechanism of $Y_2O_3$ Thin Films in High Density Plasma)

  • 김영찬;김창일;장의구
    • 한국항해항만학회:학술대회논문집
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    • 한국항해항만학회 2000년도 추계학술대회논문집
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    • pp.25.1-28
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    • 2000
  • In this study, $Y_2O_3$ thin films were etched with inductively coupled plasma (ICP). The etch rate of $Y_2O_3$ , and the selectivity of $Y_2O_3$ to YMnO$_3$were investigated by varying $Cl_2$/($Cl_2$+Ar) gas mixing ratio. The maximum etch rate of $Y_2O_3$ , and the selectivity of $Y_2O_3$ to YMnO$_3$ were 302/min, and 2.4 at $Cl_2$/($Cl_2$+Ar) gas mixing ratio of 0.2 repetitively. In x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis, $Y_2O_3$ thin film was dominantly etched by Ar ion bombardment, and was assisted by chemical reaction of Cl radical. These results were confirmed by secondary ion mass spectroscopy(SIMS) analysis. YCl, and $YC_3$ existed at 126.03 a.m.u, and 192.3 a.m.u, respectively.

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고밀도 플라즈마에 의한 $Y_{2}O_{3}$박막의 식각 메커니즘 연구 (Etch Mechanism of $Y_{2}O_{3}$ Thin Films in High Density Plasma)

  • 김영찬;김창일;장의구
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2000년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.25-28
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    • 2000
  • In this study, $Y_2$O$_3$ thin films were etched with inductively coupled plasma (ICP). The etch rate of $Y_2$O$_3$, and the selectivity of $Y_2$O$_3$ to YMnO$_3$ were investigated by varying Cl$_2$/(Cl$_2$+Ar) gas mixing ratio. The maximum etch rate of $Y_2$O$_3$, and the selectivity Of $Y_2$O$_3$ to YMnO$_3$ were 302/min, and 2.4 at Cl$_2$/(Cl$_2$+Ar) gas mixing ratio of 0.2 repectively. In x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis, $Y_2$O$_3$ thin film was dominantly etched by Ar ion bombardment, and was assisted by chemical reaction of Cl radical. These results were confirmed by secondary ion mass spectroscopy(SIMS) analysis. YCI, and YCl$_3$ existed at 126.03 a.m.u, and 192.3 a.m.u, respectively

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Influence of gas mixture ratio on the secondary electron emission coefficient ($\gamma$) fo MgO single crystals and MgO protective layer in AC PDP

  • Lim, Jae-Yong;Jung, J.M.;Choi, M.C.;Ahn, J.C.;Cho, T.S.;Kim, T.Y.;Kim, S.S.;Jung, M.W.;Choi, S.H.;Kim, S.B.;Ko, J.J.;Kim, D.I.;Lee, C.W.;Seo, Y.;Cho, G.S.;Kang, S.O.
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2000년도 춘계학술대회 논문집 디스플레이 광소자 분야
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    • pp.145-147
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    • 2000
  • The secondary electron emission coefficient y of MgO single crystal according to the gas mix-ture ratio of Xe, $N_2$ to Ne have been investigated by $\gamma$-focused ion beam system. It is found that the MgO single crystals of (111) crystallinity has the highest $\gamma$ for operating Ne(Xe) ions ranging from 50eV to 200eV throughout this experiment. And it is found that the $\gamma$ for gas mixtures are much smaller than pure Ne ions.

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고객 파급고장에 타른 M.O.F 비율오차 이상현상에 대한 고찰 (A Study of M.O.F turn-ratio difference from customer's equipment accident)

  • 조성현
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2005년도 제36회 하계학술대회 논문집 A
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    • pp.627-628
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    • 2005
  • 22.9KV-Y 배전선로의 특고압 수전선비에 계량장치로 부설되어 운영중인 계기용변성기 M.O.F(Metering Out Fit)는 계기용변압기와 계기용변류기를 하나의 상자 속에 수납한 것으로 전력량계와 조합시켜서 전려측정의 변성장치로 사용되고 있다. 계량장치의 사용되고 있는 계기용변성기는 고객과 공정거래 확립을 위하여 상시 정해진 비오차 특성을 만족하여야 한다. 그러나 고객구내 수전설비에서 파급고장이 발생시 과전류로 인하여 계기용변성기의 권선에 큰 충격이 가해져 비오차특성에 문제점이 발생하여 이에 따른 현상으로 고찰하고자 한다.

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산화 바나디움, 몰리브데늄, 리티움계 융제법에 의한 합성 Emerald 단결정 육성 (Single crystal growth of synthetic emerald by flux method of Vandadium - Molybdenum - Lithium oxide system)

  • 최의석;김무경;이종민;안영필;서청교;안찬준
    • 한국결정성장학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.44-55
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    • 1996
  • 천연 베릴을 이용하여 $V_20_5$, $Mo0_3$, $Li_2O$계 융제 및 첨가제 조성, 베렬의 용해도 그 리고 결정성장 온도와 같은 결정성창 조건을 제어하여 에메랄드 단결정을 성장시켰다. Flux와 첨가제를 조정하여 저온($1100^{\circ}C$ 이하)에셔 용해성이 높은 과포화 용융체를 만들고 온도 구배 (${\Delta}t 100^{\circ}C$), 열진동 효과 등을 정멀 제어 조정하므로써 고품질의 대형 emerald 단결정을 성장 시킬 수 있었다. 성장된 에메랄드 단결정의 특성은 굴절률 : 1.56 - 1.57, 비중 : 2.65 - 2.67인 6각 주상($c^*m$ : 1000, 1010)의 취록색 투명 단결정이였다.

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$Mn_3O_4$의 합성과 $CO_2$ 분해 및 흡착에 관한 연구 (A Study on the Synthesis of $Mn_3O_4$ and the Decomposition and Adsorption of $CO_2$)

  • 김승호;박영구;고재철
    • 한국가스학회지
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    • 제4권2호
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    • pp.27-32
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    • 2000
  • 본 연구는 염화망간과 수산화나트륨을 이용하여 당량비에 따라 산화망간을 합성하였다. 합성된 산화망간의 결정구조와 비표면적을 측정하였으며, 이산화탄소의 분해 및 흡착에 대하여 연구하였다. 합성된 시료의 결정구조 분석결과 $Mn_3O_4$의 주피크가 나타났으며, 약간의 $MnO_2$$Mn_5O_8$도 관찰되었다. 또한 비표면적은 $13.92m^2/g{\~}32.33m^2/g$으로 측정되었다. 산화망간을 이용하여 $450^{\circ}C$에서 이산화탄소의 분해를 실시하였으며, 당량비 0.75에서 가장 잘 분해되었다. 이산화탄소의 화학흡착량을 측정한 결과 2.885cc/g${\~}$19.628cc/g으로 관찰되었으며, 이산화탄소의 흡착을 위한 최적당량비는 1.00이었다.

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