• 제목/요약/키워드: Nitrided Pressureless Sintering (NPS)

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질화상압(NPS)법으로 제조한 질화규소의 열충격 저항성 및 내부식성 특성평가 (Thermal Shock and Hot Corrosion Resistance of Si3N4 Fabricated by Nitrided Pressureless Sintering)

  • 곽길호;김철;한인섭;이기성
    • 한국세라믹학회지
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    • 제46권5호
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    • pp.478-483
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    • 2009
  • Thermal shock and hot corrosion resistance of silicon nitride ceramics are investigated in this study. Silicon nitrides are fabricated by nitride pressureless sintering (NPS) process, which process is the continuous process of nitridation reaction of Si metal combined with subsequent pressureless sintering. The results of thermal shock test show it sustains 400MPa of initial strength during test in the designated condition of ${\Delta}T=700{\sim}25^{\circ}C$ up to maximum 4,800 cycles. Hot corrosion tests also reveal that the strength degradation of NPS silicon nitride did not occur at $700^{\circ}C$ with an exposure in Ar, $H_2$, Na and K for 1,275 h.

Nitrided Pressureless Sintering 공정을 이용한 질화규소 세라믹스의 제조 및 특성 (Preparation and Properties of Silicon Nitride Ceramics by Nitrided Pressureless Sintering (NPS) Process)

  • 천승호;한인섭;정용희;서두원;이시우;홍기석;우상국
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권12호
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    • pp.893-899
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    • 2004
  • Nitrided Pressureless Sintering(NPS) 공정에 의한 질화규소 세라믹스의 기계적 특성, 미세구조 및 열적 특성을 세 가지조성을 갖는 $Al_{2}O_3,\;Y_{2}O_3$ 소결조제의 변화에 따라 조사하였다. 또한 각 조성에서 금속 실리콘의 첨가량을 0, 5, 10, 15, 그리고 $20wt\%$로 변화를 주어 실리콘의 첨가효과를 조사하였다. $5wt\%\;Al_{2}O_3,\;5wt\%\;Y_{2}O_3$, 그리고 $5wt\%$ Si 조성에서 질화규소 소결체의 치밀화가 진행되었으며, 4점 꺽임강도와 상대밀도는 각각 500 MPa과 $98\%$를 나타내었다. 또한 상온에서 열팽창계수와 열전도도는 각각 $2.89{\times}10^{-6}/^{\circ}C$$28W/m^{\circ}C$를 나타내었으며, 20,000회의 열충격 싸이클을 반복한 후, 꺽임강도를 측정한 결과, 초기 500MPa의 강도를 유지하고 있었다.

Nitrided Pressureless Sintering에 의해 제조된 Si3N4의 산화거동 (Oxidation Behavior of Si3N4 by the Nitrided Pressureless Sintering)

  • 한인성;천승호;정용희;서두원;이시우;홍기석;우상국
    • 한국세라믹학회지
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    • 제42권1호
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    • pp.62-68
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    • 2005
  • 질화상압동시소결(NPS) 공정에 의해 제조된 기공율이 다른 질화규소 소결체에 대해 $1300^{circ}C$ 순산소 가스분위기에서 산화거동을 조사하였다. 질화규소 세라믹스 표면에 형성된 산화층의 두께는 산화 시간과 온도에 따라 증가되었으며, $1300^{circ}C$에서 100시간 산화시킨 5A5Y5Si와 5A5Y10Si 시편의 산화층 두께는 각각 10$\mu$m와 20$\mu$m이었다. 5A5YSi와 5A5Y10Si 시편의 산화는 각각 215kJ/mol과 104kJ/mol의 활성화 에너지를 갖고 포물선적 거동을 나타내었다. $1300^{circ}C$에서 500시간 산화시킨 후, 5A5Y5Si 시편에 대해 꺾임 강도를 측정한 결과, 초기의 약 500MPa값을 유지하고 있었으며, 반면 5A5Y10Si의 경우에는 초기의 값에서 약 100MPa의 강도저하를 나타내고 있었다.