• 제목/요약/키워드: Nano imprint Lithography

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나노임프린트를 이용한 바이오칩용 나노 패턴 제작 (Fabrication of Nanopatterns for Biochip by Nanoimprint Lithography)

  • 최호길;김순중;오병근;최정우
    • KSBB Journal
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    • 제22권6호
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    • pp.433-437
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    • 2007

  • 본 연구에서는 나노임프린트 리소그래피를 이용하여 500 nm line, 600 nm pore, $1{\mu}m$ pore, $2.5{\mu}m$ pore의 마이크로 수준에서 나노 수준에 이르는 다양한 크기와 모양의 nanopore 형태 패턴을 제작하였다. Thermal imprint 방식과 달리 상온, 저압에서 임프린팅이 가능하며 사용되는 스탬프의 수명을 늘리고 보다 미세하고 복잡한 형태의 패턴을 제작할 수 있는 UV-assisted imprint 방식을 사용하였다. E-beam lithography로 패턴을 각인한 quartz소재의 스탬프를 사용하였으며 스탬프의 재질이 투명하여 UV 조사시 UV curable resin이 경화될 수 있도록 하였다. 또한 스탬프의 표면을 (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane의 monolayer 층으로 미리 코팅하여 임프린트 후 스탬프와 기판과의 releasing을 쉽게함과 동시에 패턴의 일부가 스탬프에 묻어 나와 전사된 패턴에 defect가 없도록 하였다. 또한, gold를 미리 증착하여 임프린팅함으로써 lift-off 시에 필요한 hi-layer 층이 필요 없게 되어 산소 플라즈마를 이용한 에칭이 더욱 쉽고 lift-off 공정이 생략될 수 있도록 하였다. 나노임프린트 공정에 있어 가장 큰 문제점은 잔여층의 생성이며 이러한 잔여층을 제거하고자 산소 플라즈마 에칭을 하였다. 에칭공정을 통해 gold의 표면이 완전히 드러났으며 산소 플라즈마를 통해 gold의 표면이 친수성으로 바뀌어 추후 단백질 고정화를 더욱 쉽게 하였다. 그리하여 나노임프린트 기술을 이용해 나노크기의 바이오소자 제작을 가능하게 하였다.

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임프린트 기반 마이크로 광도파로의 변형 특성 연구 (Dimensional Stability of an Imprinted Microoptic Waveguide)

  • 류진화;김창석;정명영
    • 한국정밀공학회지
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    • 제25권11호
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    • pp.100-106
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    • 2008

  • We have studied the characteristic changes of optical device using imprint lithography. An imprinted structure is inherently involved in residual stress due to the temperature and the pressure cycle during fabrication process. A structure with residual stress undergoes stress relaxation, which leads io dimensional change. Therefore, annealing processes was performed to reduce the residual stress of imprinted polymer channel. Reduction of residual stress was confirmed through dimensional change, birefringence, and the mechanical properties. We have fabricated an optical device, and it saw the optical intensity changes within 0.1% for 1 month.

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나노 임프린트 공정을 이용한 결정형 실리콘 태양전지 효율 향상 기술 (Technology for Efficiency Enhancement of Crystalline Si Solar Cell using Nano Imprint Process)

  • 조영태;정윤교
    • 한국기계가공학회지
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    • 제12권5호
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    • pp.30-35
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    • 2013

  • In order to increase cell efficiency in crystalline silicon solar cell, reduction of light reflection is one of the essential problem. Until now silicon wafer was textured by wet etching process which has random patterns along crystal orientation. In this study, high aspect ratio patterns are manufactured by nano imprint process and reflectance could be minimized under 1%. After that, screen printed solar cell was fabricated on the textured wafer and I-V characteristics was measured by solar simulator. Consequently cell efficiency of solar cell fabricated using the wafer textured by nano imprint process increased 1.15% than reference solar cell textured by wet etching. Internal quantum efficiency was increased in the range of IR wave length but decreased in the UV wavelength. In spite of improved result, optimization between nano imprinted pattern and solar cell process should be followed.

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분자동역학기법을 이용한 나노 임프린트 리소그래피 공정에서의 고분자 변형모사 (Deformation of Polymer Resist in NIL Process by Molecular Dynamic Simulation)

  • 우영석;이우일
    • 대한기계학회:학술대회논문집
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    • 대한기계학회 2007년도 춘계학술대회A
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    • pp.337-342
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    • 2007

  • In this study, molecular dynamics simulation of nano imprint lithography in which patterned stamp is pressed onto amorphous polyethylene(PE) surface are performed to study the behaviour of polymer. Force fields including bond, angle, torsion, and Lennard Jones potential are used to describe the inter-molecular and intra-molecular force of PE molecules and stamp, substrate. Periodic boundary condition is used in horizontal direction and canonical NVT ensemble is used to control the system temperature. As the simulation results, the behaviour of polymer is investigated during the imprinting process. The mechanism of polymer deformation is studied by means of inspecting the surface shape, volume, density, atom distribution. Deformation of the polymer resist was found for various of the stamp geometry and the alignment state of the polymer molecules.

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