• Journal of Korean Neurosurgical Society
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• 제66권4호
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• pp.476-481
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• 2023

Objective : The latest version of the Leksell Gamma Knife Icon^TM allows for mask- and frame-based fixation. Although mask fixation provides fractionated treatment and immobilization using a noninvasive method, it is not free from collision. The authors investigated the collision problem with a modified mask fixation method. Methods : This study presents a case of two meningiomas in the frontal area, where a collision occurs in the occipital area. A modified mask fixation method was introduced to avoid the collision : first, the edges of the head cushion were cut off and polystyrene beads with a diameter of approximately 5 cm were removed. Next, the head cushion was sealed using a stapler. Finally, the head cushion was flattened in the adapter. We compared the shot coordinates, 3-dimensional (3D) error, clearance distance, and vertical depth of the head cushion between the initial and modified mask fixations. Results : When comparing the initial and modified mask fixations, the difference in the shot coordinates was +10.5 mm along the y-axis, the difference in the 3D error was approximately 18 mm, and the difference in clearance was -10.2 mm. The head cushion was approximately 8 mm deeper in the modified mask fixation. Conclusion : Based on these findings, we recommend a modified mask fixation method for gamma knife radiosurgery using ICON with a collision.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문집
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• pp.268-271
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• 2005

Etch resistance of mask layer on silicon substrate modified by AFM-based Tribo-Nanolithography (TNL) in Aqueous Solution in an aqueous solution was demonstrated. n consists or sequential processes, nano-scratching and wet chemical etching. The simple scratching can form a mask layer on the silicon substrate, which acting as an etching mask. For TNL, a specially designed cantilever with diamond tip, allowing the formation of mask layer on silicon substrate easily by a simple scratching process, has been applied instead of conventional silicon cantilever fur scanning. This study demonstrates how the TNL parameters can affect the etch resistance of mask layer, hence introducing a new process of AFM-based maskless nanolithography in aqueous solution.

• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국정보통신학회 2013년도 춘계학술대회
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• pp.892-894
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• 2013

디지털 영상 처리 기술이 발전함에 따라 에지는 여러 응용 분야에서 활용되고 있다. 기존의 에지검출 방법에는 마스크를 이용한 Sobel, Prewitt, Roberts, Laplacian 연산자 등이 있다. 이러한 기존의 방법은 구현이 간단하나, AWGN(additive white Gaussian noise)이 첨가된 영상에서 에지 검출의 오류가 발생한다. 따라서 이와 같은 기존의 방법의 단점을 보완하기 위하여, 본 논문에서는 변형된 마스크를 이용한 에지 검출 알고리즘을 제안하였으며, 제안한 알고리즘은 AWGN 환경에서 우수한 에지검출 특성을 나타내었다.

• 문화기술의 융합
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• 제4권4호
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• pp.361-366
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• 2018

학습 데이터를 구성하는 각각의 문자들에 대해 서로 다른 글자체들을 픽셀 단위로 더해서 MASK를 만들고, 해당 MASK에 속하는 픽셀값들을 세 영역으로 나눈다. 실험 데이터를 골격 형태로 수정하고, 지역 경계 연산을 사용하여 수정된 실험 데이터의 배경 중에서 문자의 골격에 인접한 배경 영역을 구분하는 경계를 만든다. 수정된 실험 데이터와 MASK들 간의 불일치 정도를 계산해서 최소값을 가지는 MASK를 찾는다. 이 MASK가 해당 실험 데이터에 대해 최종적으로 인식된 학습 데이터 문자로 선택된다. 문자의 골격과 지역 경계 연산을 사용하는 인식법은 주어진 학습 데이터에 새로운 글자체를 추가해서 학습 데이터를 쉽게 확장할 수 있으며, 구현하기가 간단하면서도 높은 문자 인식률을 얻을 수 있다.

• 한국공작기계학회:학술대회논문집
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• 한국공작기계학회 2000년도 춘계학술대회논문집 - 한국공작기계학회
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• pp.127-132
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• 2000

Though the increment of using computer vision system, there are lots of difficulties to measure precisely because of measurement error or distortion phenomenon. Among these reasons, the distortion of edge is dominant reason which is occurred by the blurred image. So, the problem of clear judgment about image focal point is very important. We must fix the discrimination criteria which is collected by image recognition of precise focus. To solve these problems, we compare with make processing methods using image intensity gradient, laplacian, and sum -modified laplacian operator. These experimental results showed modified mask processing method is effective.

• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국정보통신학회 2013년도 추계학술대회
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• pp.265-267
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• 2013

에지는 물체의 여러가지 중요한 정보를 포함하고 있다. 이러한 에지는 많은 분야에서 응용되고 있으며, 기존의 에지 검출 방법에는 마스크를 이용하는 방법 등이 있다. 이러한 기존의 에지 검출 방법들은 구현이 간단하다. 그러나, 고정된 마스크를 이용하므로 복합 잡음 환경에서의 에지 검출 특성은 다소 미흡하다. 따라서 기존의 에지 검출 방법들의 단점을 보완하기 위하여, 본 논문에서는 국부 마스크의 표준편차 및 잡음 제거를 이용한 에지 검출 알고리즘을 제안하였다.

• Nuclear Engineering and Technology
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• 제53권7호
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• pp.2371-2376
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• 2021

As the γ-ray energy increases, a reconstructed image becomes noisy and blurred due to the penetration of the γ-ray through the coded mask. Therefore, the thickness of the coded mask was increased for high energy regions, resulting in severely decreased the performance of the detection efficiency due to self-collimation by the mask. In order to overcome the limitation, a modified uniformly redundant array γ-ray imaging system using dual anti-mask method was developed, and its performance was compared and evaluated in high-energy radiation region. In the dual anti-mask method, the two shadow images, including the subtraction of background events, can simultaneously contribute to the reconstructed image. Moreover, the reconstructed images using each shadow image were integrated using a hybrid update maximum likelihood expectation maximization (h-MLEM). Using the quantitative evaluation method, the performance of the dual anti-mask method was compared with the previously developed collimation methods. As the shadow image which was subtracted the background events leads to a higher-quality reconstructed image, the reconstructed image of the dual anti-mask method showed high performance among the three collimation methods. Finally, the quantitative evaluation method proves that the performance of the dual anti-mask method was better than that of the previously reconstruction methods.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제18권1호
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• pp.210-216
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• 2014

영상에서 에지는 물체와 물체 사이 또는 배경과 물체 사이에 나타나는 밝기 변화가 급격한 부분이며, 대상의 크기, 위치, 방향, 질감 등의 특징 정보를 포함한다. 에지 검출은 이러한 영상 정보를 획득하는 기술이며, 에지를 검출하기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. 대표적인 기존의 에지 검출 방법은 1차 미분 연산자를 이용한 Sobel, Prewitt, Roberts 및 2차 미분 연산자를 이용한 Laplacian 방법 등이 있다. 이러한 방법들은 salt and pepper 잡음에 훼손된 영상에서 에지 검출 특성이 다소 미흡하다. 따라서 본 논문에서는 국부 마스크의 잡음 밀도에 따라 처리 마스크 크기를 다르게 적용하는 변형된 마스크를 이용한 에지 검출 알고리즘을 제안하였다.

• 한국통신학회논문지
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• 제14권5호
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• pp.561-570
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• 1989

본 논문에서는 Hopfield 신경회로망 모델에 기초한 bipolar 메모리 행렬을 광학적으로 실현하기 위해 수정된 모델에 대한 이론적 분석과 상용 LCTV를 이용한 Hopfield 연상메모리의 광학적 구현에 관하여 논하였다. 특히, 본 논문에서는 신경간의 연결인 메모리마스크를 처음으로 컴퓨터 그래픽과 연결된 LCTV 마스크를 사용하고 수정된 모델에서 시간에 따라 변하는 thresholding 값을 메모리 마스크에 한행을 추가해 광학적으로 얻을 수 있게 함으로서 Hopfield 모델에 기초한 광연산 메모리의 실시간 처리를 실현 하였다.

• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국정보통신학회 2013년도 춘계학술대회
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• pp.404-406
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• 2013

영상 에지는 물체 검출, 물체 인식 등의 여러 분야에서 전처리 과정으로 활용되고 있다. 기존의 에지 검출 방법에는 Sobel, Prewitt, Roberts, Laplacian 연산자 등이 있다. 기존의 에지 검출 방법들은 구현이 간단하나 임펄스 잡음 영역에서 에지 검출 특성이 미흡하다. 따라서 기존의 에지 검출 방법들의 단점을 보완하기 위하여, 본 논문에서는 변형된 마스크를 이용한 에지 검출 알고리즘을 제안하였다.