Magnetic properties and crystallographic structure of e-beam evaporated Co/Cr and Co/Mo multilayer thin films were investigated using VSM and XRD. Co/Cr and Co/Mo multilayer thin films are confirmed as an alternating layered structure. The structure of films with thicker Co layers than Cr and Mo layers are found to be a hcp structure with the c-axis perpendicular to the film plane. The direction of the film plane is the easy magnetization one. There is a no significant difference in shape of hysteresis loops between Co/Cr and Co/Mo multilayer films. It is found that Mo layer is more effective than Cr for preparing Co layer with c-axis normal to the film plane.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.50
no.12
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pp.607-613
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2001
Molybdenum thin films were deposited on the soda lime glass(SLG) substrates by direct-current planar magnetron sputtering, with a sputtering power density of $4.44W/cm^2$. The working pressure was varied from 0.5 mtorr to 20 mtorr to gain a better understanding of the effect of sputtering pressure on the morphology and microstructure of the Mo film. Thin films of $CU(InGa)Se_2$ (CIGS) were deposited on the Mo-coated glass by three stage co-evaporation process. The highest efficiency device was obtained at the maximum value of the tensive stress. The morphology of Mo-coated films were examined by using scanning electron microscopy The film's microstructure, such as the preferred orientation, the full width at half-maximum(FWHM), and the residual intrinsic stress were examined by X-ray diffraction.
The effect of sputtering conditions on magnetic properties of CoCrMo/Cr magnetic thin film was investigated. Substrate temperature were controlled from R. T to $250^{\circ}C$. The thickness changes of Cr underlayer and CoCrMo magnetic layer were in the range of $1000-2500\AA$ and $300-800\AA$, respectively. Grain size was found to be decreased with increasing magnetic layer thickness(from $500\AA$ to $800\AA$). CoCrMo magnetic layer microstructure showed relatively small dependence on Cr underlayer thickness, substrate temperature. Coercivity increased with increasing Cr underlayer, magnetic layer thickness and substrate temperature. CoCrMo/Cr thin film showed a coercivity of 880 Oe in $700\AA$ magnetic layer thickness and $1000\AA$ Cr underalyer thickness.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.321-322
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2007
In order to increase the cost effectiveness of solar cells, module production should be treated more comprehensively. Back contact cells offer distinct advantage in the interconnection of cells to modules. Thereby Mo thin film were prepared in order to clarify optimum conditions for growth of the thin film depending upon process, and then by changing a number of deposition conditions and substrate temperature conditions variously, structural and electrical characteristics were measured. For the manufacture of the Mo were vapor-deposited in the named order. Among them, Mo were vapor-deposited by using the sputtering method in consideration of their adhesive force to the substrate, and the DC power was controlled so that the composition of Mo, while the surface temperature having an effect on the quality of the thin film was changed from R.T$[^{\circ}C]$ to $200[^{\circ}C]$ at intervals of $50[^{\circ}C]$. Micro-structural studies were carried out by XRD (D/MAX-1200, Rigaku Co.) and SEM (JSM-5400, Jeol Co.). Electrical properties were measured by CMT-SR3000 Measurement System.
Kim, Hyo-Jung;Kang, Sin-Bi;Na, Seok-In;Kim, Han-Ki
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.343-343
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2014
We reported on the electrical, optical, structural and morphological properties fabricated by co-sputtering for use as an anode for organic solar cells (OSCs). By adjusting RF and DC power of $MoO_3$ and IZO targets during co-sputtering, we fabricated the $MoO_3$-IZO electrode with graded content of the $MoO_3$ on the IZO films. At optimized $MoO_3$ thickness of 20 nm, the $MoO_3$ graded IZO electrode showed a higher mobility ($33cm^2/V-Sec$) than directly deposited $MoO_3$ on IZO film ($26cm^2/V-Sec$). At visible range (400nm~800nm), optical transmittance of the $MoO_3$ graded IZO electrode is higher than that of directly deposited $MoO_3$ on IZO film. High mobility of $MoO_3$ graded on IZO is attributed to less interface scattering between $MoO_3$ and IZO. To investigate the feasibility of $MoO_3$ graded IZO films, we fabricated conventional P3HT:PCBM based OSCs with $MoO_3$ graded IZO as a function of MoO3 thickness. The OSC fabricated on the $MoO_3$ graded IZO anode showed a fill factor of 66.53%, a short circuit current of $8.121mA/cm^2$, an open circuit voltage of 0.592 V, and a power conversion efficiency of 3.2% comparable to OSC fabricated on ITO anode and higher than directly deposited $MoO_3$ on IZO film. We suggested possible mechanism to explain the high performance of OSCs with a $MoO_3$ graded IZO.
Friction, wear and corrosion characteristics of various MoS$_2$ bonded film lubricants were investigated to apply them to automotive wheel joints. MoS$_2$ bonded film lubricants were formulated by combinations of several additives and binders, and they were coated onto the pre-treated surfaces of specimens. Friction and wear characteristics were evaluated with Falex pin & vee-block test and LFW-1 block-on-ring test. For the corrosion resistant characteristics of the films, salt solution spray corrosion tests were performed. Results showed that MoS$_2$ bonded films containing both inorganic and organic corrosion-resistant additives yielded a synergy effect on anti-corrosion resistance. Also, binders having the better water-proof and thermal stability showed the lower friction and higher corrosion resistance.
MoS$_{2}$ bonded film was applied to reduction gears, and its lubricating properties were experimentally evaluated in terms of the power transmission efficiency and the frictional noise with a dynamo-typed gear test rig. Tests were performed in both oil lubrication and dry condition where the rotating velocity and loading torque were varied. In dry condition, MoS$_{2}$ bonded films effected the power transmission efficiency to increase about 5%, and the frictional noise level to decrease about 6 dB under the test operating conditions. It well proved that MoS$_{2}$ bonded films were a very effective solid lubricant for reduction gears. In oil lubricating conditions, the frictional properties of the coated gears were mainly governed by the lubricating oil, and lubricating effects of MoS2 bonded films were not evident. The result suggested that lubricating effect of MoS$_{2}$ bonded films would be limited to prevent a damage of reduction gears in the initial run when they were used in oil lubrication conditions.
We investigated the MoS2 thin film layer by thermolytic deposition and applied it to the silicon solar cells. MoS2 thin films were made by two methods of dipping and spin coating of (NH4)2MoS4 precursor solution. We implemented two types of substrates of microtextured and nano-microtextured 6-in. Si pn junction wafers. The fabricated MoS2 thin film layer was analyzed, and solar cells were fabricated by applying the standard silicon solar cell process. The MoS2 thin film layer of sulfur-deficient form was deposited on the n-type emitter layer, and electrons, which are minority carriers, were well transported at the interface and exhibited photovoltaic solar cell characteristics. The cell efficiencies were achieved at 5% for microtextured wafers and 2.56% for nano-microtextured wafers.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.16
no.11
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pp.987-993
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2003
We fabricated thick film monopole antennas using Mo-doped BiNbO$_4$ ceramics and investigated their electrical properties as a function of the Mo-doping concentration. Compared with undoped BiNbO$_4$ ceramics, 10 at.% Mo-doping improved microwave dielectric properties of ceramics by increased sintered density as well as decreased space charge density. Further increase in the Mo-doping concentration caused formation of Bi$_2$MoO$_{6}$ phases, resulting in deterioration of the microwave characteristics. The gain and bandwidth of the ceramic monopole antenna were also greatly affected by the Mo-doping concentration. When Mo-doping concentration was 10 at.%, highest gain of -0.7dBi with lowest bandwidth of 30% at 2.3GHz was obtained.
In recent years, mammography system is changed rapidly from conventional screen-film system to digital system for application to screening and diagnosis. Digital mammography system provides several advantages over screen-film mammography system. According to the information provided by the manufacturer, digital mammography system offers radiation dose reduction in comparison with screen-film mammography system, because of digital detector, particularly direct digital detector has higher x-ray absorption efficiency than screen-film combination or imaging plate(IP). We measured average glandular doses(AGD) in screen-film mammography(SFM) system with slow screen-film combination, computed mammography(CM) system, indirect digital mammography(IDM) system and direct digital mammography(DDM) system using brest tissue-equivalent phantom(glandularity 30%, 50% and 70%). The results were shown as follows : AGD values for DDM system were highest than those for other systems. Although automatic exposure control(AEC) mode was selected, the curve of the AGD values against thickness or glandularity increased significantly for the SFM system with the uniform target/filter(Mo/Mo) combination. Therefore, the AGD values for the high energy examinations were highest in the SFM system, and those for the low energy examinations were highest in the DDM system. But the curve of the AGD values against thickness and glandularity increased gently for CM system with the automatic selection of the target/filter combination (from Mo/Mo to Mo/Rh or from Mo/Rh to Rh/Rh), and the AGD values were lowest. Consequently, the parameters in mammography for each exposure besides detection efficiency play an important role in oder to estimate a patient radiation dose.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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