We will improve tools performance without the change of a tools' physical shape, if we process mirror like finishing on the surface of cutting tools. Because cutting tools' shapes are very complex, the general method of polishing can't be polished. So we will apply new method of polishing which is magnetic fluid grinding technique. Magnetic fluid grinding technique can polish complex shape's workpiece by pressing the surface of workpiece with magnetic and abrasive grains in magnetic field. Therefore we developed the polishing equipment to improve the performance of cutting tools and experimented on various polishing conditions to determine the polishing conditions of cutting tools.
This study has been focused on properties of surface technology for large diameter upper electrode using in high density plasma process as like semi-conductor manufacturing process. The experimental studies have been carried out to get mirror surface for upper electrode. For a formation of high surface quality upper electrode, single crystal silicon upper electrode has been mechanical and chemical machining worked. Mechanical machining work of the upper electrode is carried out with varying mesh type using diamond wheel. In case of chemical machining work, upper electrode surface roughness was observed to be strongly dependent upon the etchant. The different surface roughness characteristics were observed according to etchant. The machining result of the surface roughness and surface morphology have been analyzed by use of surface roughness tester, laser microscope and ICP-MS.
The final polishing process is based on slurry, pad, conditioner, equipment. Therefore, the concept of wafer final polishing is also necessary for repeatability of results between polished wafers. In this study, the machining conditions have a pressure, table speed, machining time and slurry ratio. This research investigated the surface characteristics that apply variable machining conditions and response surface methodology was used to obtain more flexible and optimumal condition base on Taguchi method. On the base of estimated response surface curvature from the equation and results of Taguchi method, combined design of experiment was considered to lead to optimumal condition. Finally, polished wafer was obtained mirror like surface.
This paper presents a new cutting method, i.e. diamond cutting, aided by electrolysis, in order to cut ferrous materials with diamond tools. Diamond cutting is widely applied in manufacturing ultraprecision parts such as magnetic disk, polygon mirror, spherical/non-spherical mirror and copier drum, etc. because of the diamond tool edge sharpness. In general, however, diamond cutting cannot be applied to cutting steels, because diamond tools wear excessively in cutting iron based materials like steel due to their high chemical interaction with iron in high temperature. In order to suppress the diffusion of carbon from the diamond tool and to reduce increase of cutting force due to size effect, we attempt to change chemically the compositions of iron based materials using electrolysis in a limited part which will be soon cut. Through experiments under several micro-machining and electrolysis conditions, cutting using electrolysis, compared to conventional cutting, was found to result in a great decrease of the cutting force, a better surface and much less wear tool.
In high speed cutting process, due to the friction between the tool and workpiece, a temperature rise of contacting part is serious. It need to develop cutting tool for overcoming such a poor condition. So now, some studies, the optimization of tool shapes, the fine grains of tool material, multi-layer coating of tools are processing. If mirror finishing on the tool is processed, there is advantage of relation between chip and tool, because of less friction, and also tool's lift would be increased. As a result mirror like finishing is expected efficient enhancement of tool. Generally, it is too difficult to process by a general way for tools of complex shapes, it is required a new method to process such complex shape tools. The magnetic fluid polishing technique can polish the workpiece of complex shape, because the polishing method which polishes as compress the workpiece by the magnetism abrasives to arrange to the linear according to the line of magnetic force. In this paper, We polished the surface of the high speed cutting tool using the magnetic fluid polishing technique, to enhance the performance of the high speed cutting tool.
New type of the base material of the light-emitting diode requires copper wafer in view of heat and electrical conductance. Therefore, polishing process of the substrate level is needed to get a nanometer level of surface roughness as compared with pattern structure of nano-size in the semiconductor industry. In this paper, a series of lapping and polishing technique is shown for the rough and deflected copper substrate of thickness 3mm. Lapping by sand papers tried air cooling method. And two steps of polishing used the diamond abrasives and the $Al_2O_3$ slurry of size 100mm considering the residual scratch. White-light interferometer proved successfully a mirror-like surface roughness of Ra 6nm on the area of $0.56mm{\times}0.42mm$.
The Diamond-Like-Carbon (DLC) coating is a new carbon-based amorphous material. Carbon ions in the plasma are electrically accelerated and collide with the substrate to form a thin film. This film has similar properties to diamonds such as high surface hardness, low coefficient of friction, corrosion resistance and durability that do not react with acids and bases. Also, since there is no thermal deformation, it can be printed at room temperature. and coated on almost all materials such as paper, polymer, ceramics and various metals even aspheric lens it is possible to mirror surface coating with excellent surface roughness. In this paper, we have analyzed the DLC film formed by Filtered Arc Ion Plating (Filtered AIP) process.
In this paper, we show that the growth rate of MBE GaAs epitaxial layer is controlled entirely by the flux density of the Ga beam, impinging on the substrate surface, and is linearly proportional to the Ga effusion cell temperature and the growth time. According to our investigation of the epitaxial layer surfvace through RHEED, AES, SIMS and SEM, if the growth temperature is maintained above 590\ulcorner, the surface crystal structure, flathness and stoichiometry become significantly enhanced, and the epilayer surface has a smooth mirror-like appearance.
Recently, WC-Co have some excellent properities as the material for the mechanical component such as metallic moulding parts, ball dies parts, and punch parts. This paper describes the surface roughness and grinding force caused by experimental study on the surface grinding of WC-Co with ultra-precision like a mirror shape using diamond wheel. Also, some investigations are carried out using WA grinding wheel to increase improved ground surface roughness such as polishing, lapping effect. Some important results obtained here are summarized as follow. 1) Within this experimental grinding condition, we can be obtained $R_{max}.\;2\mu\textrm{m}\;R_a\;0.3\mu\textrm{m}$ whichare the most favourable ground surface roughness using #140 diamond wheel, and improved surface roughness values about 20 .approx. 25% throughout 5 times sparkout grinding 2) The value of surface roughness is Rmax. $0.49\mu\textrm{m},\;R_a\;0.06\mu\textrm{m}$ using #600 diamond wheel. 3) The area of no rack zone is less than $F_{n}$ 0.27N/mm, Ft 0.009N/mm
The small material removal rate of elastic emission machinong (EEM) becomes a serious problem due to using fine powder particles for obtaining finished of high quality. If a cylindrical polyurethane-wheel is used as a tool for accelerating powder particles, the efficiency of machining may be increased through enlarging the machining regionand increasing the surface velocity of the wheel. If these analyicl results are compared with experimental ones, characteristics of EEM using polyurethan-wheel can be clarified. In this study, effects of EEM using cylindrical polyurethane-wheel on the surface roughness and the material removal rate were verified through polishing of the brittle material under various conditions. The high-efficient polishing of silicon wafer has been also carried out using this method.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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