한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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pp.379-382
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2006
In this study, an attempt was made to form magnesium oxide layer via aqueous solution route of salt precipitation process. A layer with flake morphology was formed from the process and various dopants were added during the forming process. The films formed were characterized using SEM, XRD, and cathodoluminescence measurement. In addition, the discharge characteristics were evaluated using panel tests. The results indicate that MgO film can be formed via the aqueous solution process successfully, of which characteristics are comparable to those of MgO film formed by e-beam evaporation process.
한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
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pp.1376-1379
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2007
The effects of the MgO fabrication process on the properties of AC-PDPs were examined. MgO films were deposited by e-beam evaporation with various substrate temperatures and oxygen flow rates. MgO films were analyzed by XRD, CL and ellipsometer. Panel properties such as luminance, efficiency, discharge voltage and discharge delay time were measured with test panels. MgO films with higher temperature, smaller oxygen flow rate showed shorter discharge delay time. Also they showed smaller XRD peak intensity. These results revealed that the discharge delay time was strongly influenced by temperature and oxygen flow rate of the MgO fabrication process.
The performance of ac plasma display panels (PDP) is influenced strongly by the surface glow discharge characteristics on the MgO thin films. This paper deals with the surface glow discharge characteristics and some physical properties of MgO thin films prepared by reactive RF planar unbalanced magnetron sputtering in connection with ac PDP. The samples prepared with dc bias voltage of -10V showed lower discharge voltage and lower erosion rate byion bombardment than those samples prepared by conventional magnetron sputtering or E-beam evaporation. The main factor that improves the discharge characteristics by bias voltage is considered to be due to the morphology changes or crystal structure of the MgO thin film by ion bombardement during deposition process.
PDP는 LCD, OLED등과 같은 FPD(Flat Panel Display)들과는 차별화된 우수성을 가지고 있다. 따라서 본 논문에서는 AC-PDP에서의 MgO박막의 material property를 향상시키기 위하여 MgO pellet에 미소량의 Ca를 첨가하였으며 이에 따른 MgO박막을 통해 Ca의 첨가에 따른 효과를 분석하였다. MgO박막은 e-beam evaporation 방법을 사용하였으며 4인치 테스트 패널을 만들어서 방전개시전압, 방전유지전압, 어드레싱지터를 측정하였으며 방전효율은 Ca가 0.025%, 0.035%, 0.042%가 첨가 되었을 때 각각 비교하였으며, 0.035%가 첨가 되었을 때가 가장 좋은 효율을 가진다.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제11권4호
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pp.186-189
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2010
Nano-sized MgO single crystal powders have recently been reported to emit ultraviolet by stimulation of electrons in a vacuum. In this study, nanocrystalline MgO powders were applied to a xenon plasma flat fluorescent lamp (FFL) for a liquid crystal display backlight to improve its emission efficiency through the extra ultraviolet from the nano-MgO crystals. For comparison, a MgO nano-thin film was applied directly on the phosphors inside a lamp panel through e-beam evaporation. Adding MgO nano-crystal powders to the phosphors improved the luminance and efficiency of FFLs by around 20% and MgO nano-crystal coverage of 40% of the phosphor provided the best FFL emission characteristics; however, application of MgO thin film to the phosphors degraded the emission characteristics, even compared to FFLs without MgO. This was due to insufficient ultraviolet stimulation of the phosphors and the crystallinity and low secondary electron coefficient of the MgO.
한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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pp.687-690
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2009
It has been recently reported that nano-sized MgO single crystal powders emit ultraviolet by stimulation of electrons under vacuum condition. Therefore, in this study, nano-crystalline MgO powders were applied to a xenon plasma flat fluorescent lamp for LCD backlight to improve emission efficiency of the lamp by help of extra ultraviolet from nano-MgO. For comparison with nano-crystalline MgO powders, MgO nano-thin film was applied directly on phosphors inside a lamp panel through e-beam evaporation The luminance and efficiency of FFL with an addition of MgO nano-crystal powders on phosphors were improved by around 20%. Application of MgO thin film to phosphors worsened the emission characteristics of FFLs, even rather than FFL without MgO. The reason came from insufficient stimulation of phosphors by UV, crystallinity of MgO, and low secondary electron coefficient.
Optical and electrical properties of MgO-CaO films as a protective layer for AC plasma display panel were studied. When the [(CaO/(MgO+CaO)] ratio of evaporation starting materials was optimum composition, 0.1, firing voltage and memory margin of the film were 176V and 0.5, respectively. When [CaO/(CaO+MgO)] was 0, 0.1 and 0.2, memory margin was 0.39, 0.5 and 0.41, respectively, and surface roughness of films was $27.7\AA$, $21.1\AA$ and $40.3\AA$, respectively. It was thought that memory margin had a reverse-relation with surface roughness. The density of film was calculated by measuring the refractive index of film. The density of MgO film was 3.21g/㎤ and the density of film, when [CaO/(CaO+MgO)] was 0.1, was 3.632g/㎤. The mixture of MgO-CaO films showed a good transmittance property in the visual range.
한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.628-631
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2002
$Al_2O_3$ capping layer and MgO protective layer were deposited by electron beam evaporation method using single crystal source. Thickness of the capping layer, $Al_2O_3$, was varied from 5 nm to 10 nm. Surface morphology was observed by SEM and AFM before and after hydration. And microstructure of deposited $Al_2O_3$ layer and chemical shift of electron binding energy were also observed by high resolution TEM and XPS, respectively, after hydration. From these results, it was found that Mg atoms diffused into $Al_2O_3$ layer, reacted with moisture and formed $Mg(OH)_2$ during hydration. As thickness of $Al_2O_3$ increased, extent of hydration increased. $Al_2O_3$ capped MgO thin films and uncapped MgO thin films were deposited on AC-PDP test panel to characterize discharge properties. Although $Al_2O_3$ has poor discharge properties rather than MgO, because of many hydrated species on the surface of MgO, similar discharge properties were observed.
$Mg_{2-2x}Ti_xO_2$ films were prepared by e-beam evaporation method to be used as possible substitutes for the conventional MgO protective layer. The oxygen content in the films and in turn, the ratio of metal to oxygen gradually increased with increasing the $TiO_2$ content in the starting materials. The pure MgO films exhibited the crystallinity with strong (111) orientation. The $Mg_{2-2x}Ti_xO_2$ films, however, had the crystallinity with (311) preferred orientation. When the $[TiO_2/(MgO+TiO_2)]$ ratios of 0.1 and 0.15 were used, the deposited films exhibited the secondary electron emission yields improved by 50% compared to that of the conventional MgO protective layer, which resulted in reduction in discharge voltage by 12%.
The effects of $Fe_2O_3$ addition on optical and electrical properties of MgO films as a protective layer for AC plasma display panels were investigated. Doped MgO films prepared by the e-beam evaporation have a higher ${\gamma}$ (secondary electron emission coefficient) than pure MgO protective layer. Roughness increased with amount of $Fe_2O_3$ up to 100 ppm and then decreased further addition. These results showed that discharge properties and optical properties of MgO protective layers seemed to be closely related with microstructure factors such as roughness. Good optical and electrical properties of ${\gamma}$ of 0.120, surface roughness of 14.1 nm and optical transmittance of 94.55% were obtained for the MgO + 100 ppm $Fe_2O_3$ protective layer sintered at $1700^{\circ}C$ for 5 hrs.
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