• 제목/요약/키워드: Metal line pattern

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직각 링과 용량성 결합된 마이크로스트립 패치 구조의 새로운 2차원 메타 재질 구조 CRLH 0차 공진 안테나의 설계 (Design of a Novel 2D-Metamaterial CRLH ZOR Antenna with a Microstrip Patch Capacitively Coupled to a Rectangular Ring)

  • 장건호;강승택
    • 한국전자파학회논문지
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    • 제21권2호
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    • pp.143-151
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    • 2010
  • 본 논문에서는 Metamaterial CRLH 구조 기반의 0차 공진현상이 발생되는 새로운 직각 패치 안테나가 제안된다. 일반 마이크로스트립 패치 구조의 기본 공진 모드인 반파장 공진이나 반파장 공진의 양의 정수배가 아닌 구조 전체에 전계가 같은 위상을 갖게 하면서, 기존에 발표된 다수의 금속 쎌들이 일렬 연결된 1차원 0차 공진 안테나의 구조와 달리 금속 패치 주위에 하나의 용량성 결합 직각 링만을 부착하는 구조를 제안하는 것이다. 2.4 GHz에서 0차 공진 특성을 갖도록 설계된 등가회로에 따른 물리 구조의 치수들이 입력된 3차원 전자장 분석기에서 안테나의 성능에 대한 모의시험을 수행한다. 설계 결과 2.4 GHz에서 공진점을, 그리고 이득과 효율은 각각 5 dB와 98%를 얻었다. 또한 본 논문이 제안하는 안테나가 마이크로스트립 패치 안테나의 장점인 low-profile과 모노폴 안테나의 장점인 전방향 패턴을 동시에 가지는 특징이 논의된다.

Real-Time Spacer Etch-End Point Detection (SE-EPD) for Self-aligned Double Patterning (SADP) Process

  • Han, Ah-Reum;Lee, Ho-Jae;Lee, Jun-Yong;Hong, Sang-Jeen
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.436-437
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    • 2012
  • Double patterning technology (DPT) has been suggested as a promising candidates of the next generation lithography technology in FLASH and DRAM manufacturing in sub-40nm technology node. DPT enables to overcome the physical limitation of optical lithography, and it is expected to be continued as long as e-beam lithography takes place in manufacturing. Several different processes for DPT are currently available in practice, and they are litho-litho-etch (LLE), litho-etch-litho-etch (LELE), litho-freeze-litho-etch (LFLE), and self-aligned double patterning (SADP) [1]. The self-aligned approach is regarded as more suitable for mass production, but it requires precise control of sidewall space etch profile for the exact definition of hard mask layer. In this paper, we propose etch end point detection (EPD) in spacer etching to precisely control sidewall profile in SADP. Conventional etch EPD notify the end point after or on-set of a layer being etched is removed, but the EPD in spacer etch should land-off exactly after surface removal while the spacer is still remained. Precise control of real-time in-situ EPD may help to control the size of spacer to realize desired pattern geometry. To demonstrate the capability of spacer-etch EPD, we fabricated metal line structure on silicon dioxide layer and spacer deposition layer with silicon nitride. While blanket etch of the spacer layer takes place in inductively coupled plasma-reactive ion etching (ICP-RIE), in-situ monitoring of plasma chemistry is performed using optical emission spectroscopy (OES), and the acquired data is stored in a local computer. Through offline analysis of the acquired OES data with respect to etch gas and by-product chemistry, a representative EPD time traces signal is derived. We found that the SE-EPD is useful for precise control of spacer etching in DPT, and we are continuously developing real-time SE-EPD methodology employing cumulative sum (CUSUM) control chart [2].

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잉크젯 프린팅 방식으로 제작된 금속 배선의 선폭 및 오차 개선 (Tolerance Improvement of Metal Pattern Line using Inkjet Printing Technology)

  • 김용식;서상훈;김태구;박성준;정재우
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2006년도 하계학술대회 논문집 Vol.7
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    • pp.105-105
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    • 2006
  • IT 산업 및 반도체 산업이 발전함에 따라 초소형, 고집적화 시스템의 요구에 대응하기 위해서 고해상도 및 고정밀의 패턴 구현에 관한 많은 연구가 진행되고 있다. 이러한 연구는 각종 산업제품의 PCB(Printed Circuit Board) 및 디스플레이 장치인 PDP(Plasma Display Panel), LCD(Liquid Crystal Display) 등에 적용되어 널리 응용되고 있다. 현재 널리 사용되는 인쇄 회로 기판은 마스킹 후 선택적 에칭 방식을 적용하여 금속 배선을 형성하는 방식을 적용하고 있다. 이러한 방식은 설계가 변경될 경우 마스크를 다시 제작해야 하는 번거로움이 있어 설계 변경이 용이하지 않고 더욱 길어진 생산시간의 증가로 인하여 생산성 및 집적도가 떨어지게 된다. 따라서 최근에는 이러한 한계를 극복하기 위한 방안이 여러 가지 측면에서 시도되고 있으며, 그 중에서도 Inkjet Printing 기술에 대한 관심이 증가하고 있다. 본 연구에서는 Inkjet Printing 방식을 적용하여 금속 배선을 형성하고 선폭과 두께의 오차를 줄여 배선의 Tolerance 를 개선할 수 있는 방안을 제안하였다. Inkjet Printing 방식을 이용한 기존의 금속 배선 형성은 고해상도의 DPI(Dot Per Inch)에서 잉크 액적이 뭉치는 Bulge 현상이 발생되어 원하는 형상 및 배선의 폭을 구현하는데 어려움이 있었다. Bulge 현상은 배선의 불균일성을 야기할 뿐만 아니라 근접한 배선의 간섭에도 영향을 미처 금속 배선의 기능을 할 수 없는 단점을 발생시킨다. 따라서 본 연구에서는 이러한 Bulge 현상을 줄이고 배선간의 간섭을 방지하여 원하는 배선을 용이하게 형성할 수 있는 순차적 인쇄 방식을 적용하였다. 본 연구에서는 노즐직경 35um 의 Inkjet Head 와 나노 Ag 입자 잉크를 사용하여 Glass 표면 위에 배선을 형성하고 배선의 폭과 두께를 측정하였다. 또한 순차적 인쇄 방식을 적용하여 700DPI 이상의 고해상도에서 나타날 수 있는 Bulge 현상이 감소하였음을 관찰하였으며 금속 배선의 Tolerance를 10%내외로 유지할 수 있음을 확인하였다.

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베타전지용 PN 접합 반도체 표면에 도금된 Ni 후막의 특성 (Characteristics of Electroplated Ni Thick Film on the PN Junction Semiconductor for Beta-voltaic Battery)

  • 김진주;엄영랑;박근용;손광재
    • 방사선산업학회지
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    • 제8권3호
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    • pp.141-146
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    • 2014
  • Nickel (Ni) electroplating was implemented by using a metal Ni powder in order to establish a $^{63}Ni$ plating condition on the PN junction semiconductor needed for production of beta-voltaic battery. PN junction semiconductors with a Ni seed layer of 500 and $1000{\AA}$ were coated with Ni at current density from 10 to $50mA\;cm^{-2}$. The surface roughness and average grain size of Ni deposits were investigated by XRD and SEM techniques. The roughness of Ni deposit was increased as the current density was increased, and decreased as the thickness of Ni seed layer was increased. The results showed that the optimum surface shape was obtained at a current density of $10mA\;cm^{-2}$ in seed layer with thickness of $500{\AA}$, $20mA\;cm^{-2}$ of $1000{\AA}$. Also, pure Ni deposit was well coated on a PN junction semiconductor without any oxide forms. Using the line width of (111) in XRD peak, the average grain size of the Ni thick firm was measured. The results showed that the average grain size was increased as the thickness of seed layer was increased.

Eu3+ 이온이 첨가된 란타넘텅스텐산화물의 분광학 특성 (Property of Optical Spectroscopy on the Lanthanum Tungstate doped Eu3+ Ion)

  • 서효진;박철우
    • 한국방사선학회논문지
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    • 제9권1호
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    • pp.39-45
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    • 2015
  • 본 연구는 고상법으로 형광체를 합성하였다. 모체 물질은 $La_2W_3O_{12}$에 활성제로 $Eu^{3+}$이온을 첨가하여 활성제 조성변화에 따른 XRD 분석과 여기 및 방출 스펙트럼 및 온도에 따른 형광 스펙트럼 분석과 수명시간을 측정하였다. $La_2W_3O_{12}:Eu^{3+}$의 1 mol%의 XRD 스펙트럼은 ICSD 카드 (78180)에 보고된 데이터 스펙트럼과 비교하였을 때 XRD 스펙트럼이 잘 일치함을 확인 하였다. $La_2W_3O_{12}$ 형광체에 활성제로 $Eu^{3+}$이온 1 mol%를 첨가한 여기 스펙트럼에서는 286 nm 근처에서 286 nm 넓은 전하전달밴드가 관찰된다. 이 전하전달밴드는 $WO_4$그룹과 $Eu^{3+}$이온의 전하 전달 밴드이며 $O^{2-}-W^{6+}$, $O^{2-}-Eu^{3+}$의 ligand-to-metal 전하 전달 흡수가 이루어진다. 350~500 nm 영역에서는 $Eu^{3+}$의 f-f 전이에 의한 피크가 나타났다. 여기 스펙트럼에서 $Eu^{3+}$$^7F_0{\rightarrow}{^5D_4},{^5D_4},{^5L_6},{^5G_4},{^5D_3},{^5D_2}$ 전이에 해당한다. 방출 스펙트럼은 280, 395 nm로 각각 여기한 결과 $Eu^{3+}$이온의 $^5D_0{\rightarrow}^7F_2$(618nm)에서 강한 피크가 보였다. 희토류 이온이 도핑 되지 않은 $La_2W_3O_{12}$ 형광체를 266 nm로 여기하여 온도에 변화 따른 방출 스펙트럼은 저온에서 상온으로 갈수록 형광의 세기가 약하게 나타났다. 온도에 따른 수명시간은 7 K($114{\mu}s$), 100 K($94{\mu}s$), 200 K($10{\mu}s$), 300 K($0.5{\mu}s$)로 나타났다.

Ceromer crown의 교합면 두께에 따른 압축 파절 강도의 비교 (The compressive fracture strength of ceromer crown by the difference of occlusal thickness)

  • 김지연;박하옥;양홍서
    • 구강회복응용과학지
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    • 제18권3호
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    • pp.205-215
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    • 2002
  • This study investigated the compressive fracture strength of Targis ceromer crown by the difference of occlusal thickness on a maxillary first premolar. Control group was a castable IPS-Empress all-ceramic crown with occlusal thickness of 1.5 mm constructed by layered technique. Experimental groups were Targis crowns having different occlusal thicknesses of 1.0 mm, 1.5 mm, 2.0 mm, 2.5 mm, respectively. The classification of Targis group is T10, T15, T20, T25 and T15N (for no-thermocycling and occlusal thickness of 1.5mm). Ten samples were tested per each group. Except occlusal thickness, all dimension of metal die is same with axial inclination of $10^{\circ}$and marginal width 0.8mm chamfer. All crowns were cemented with Panavia F and thermocycled 1,000 times between $5^{\circ}$ and $55^{\circ}$ water bath with 10 sec dwelling time and 10 sec resting time. The compressive fracture strength was measured by universal testing machine. The results were as follows : 1. Fracture strength was increased as the occlusal thickness increased : compressive fracture strength of Group T10, T15, T20, T25 was $66.65{\pm}4.88kgf$, $75.04{\pm}3.01kgf$, $87.07{\pm}7.06kgf$ and $105.03{\pm}10.56kgf$, respectively. 2. When comparing material, Targis crown had higher fracture strength than IPS-Empress crown : the mean compressive strength of group T15 was $75.04{\pm}3.01kgf$ and the value of group Control was $37.66{\pm}4.28kgf$. 3. Fracture strength was decreased by thermocycling : the compressive fracture strength of T15 was $75.04{\pm}3.01kgf$, which is lower than $90.69{\pm}6.88kgf$ of group T15N. 4. The fracture line of crowns began at the loading point and extended along long axis of tooth. IPS-Empress showed adhesive failure pattern whereas Targis had adhesive and cohesive failure. In the SEM view, stress was distributed radially from loading point and the crack line was more prominent on Targis crown.

Superimposed Rubber Pattern법에 의한 성인 정상 및 비정상 교합자의 교합 양상에 관한 연구 (A STUDY OF THE NORMAL & ABNORMAL OCCULSAL PATERNS IN ADULTS USING THE SUPERIMPOSED RUBBER PATTERN METHOD)

  • 최대균;이성복;권영혁;최부병
    • 대한치과보철학회지
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    • 제33권3호
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    • pp.467-491
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    • 1995
  • In order to analyze the occlusin of intercuspation with maximun bite force, fifteen healthy adult subjects with the ages 23 to 27 were studied(Group1 ; 5-normal occlusion with Angle's Class1, Group2 ; 5-Angle's Class2 malocclusion, Group3 ; 5-Angle’s Class3 malocclusion). Head Position was fixed with occlusal plane paralleling to horizontal line and occlusal registration r cord was made with polyether rubber impression material(Ramitec, ESPECo. West Germany). After all subject were trained for maximum intercuspation at least 5 times, occlusal registration procedure was repeated for this study. Lower posterior rubber occlusal registration records were sliced with 1mm thickness using precision metal sliding channel(Hitachi Ind. Co., Japan). Gross sectional drawings were traced from occluding view of upper and lower posterior teeth on the rubber slices using digitizer, and superimposed for the determination of each drawing distance(Superimposed Rubber Pattern Method). Based on superimposed rubber pattern drawings, total area of occlusal view, sum of each area of the 5 divided occlusal contact provinces and its ratio, total area and number of occlusal contact area were determined to elucidate occlusal stability in the normal and abnormal occlusion groups. The data were analysed by t-test(p=0.05) to determine statistical significance. The obtained results were as follows : 1. Group1 showed the largest standard area with occlusal view of the lower posterior teeth and Group3 showed the smallest area. There was a significant difference between Group2 and Group3(p=0.025), and Gropu1 was not statistically different for both Group2 and Group3. 2. Means and ratio of the under 2.0mm area(D) and ratio showed $197.49mm^2$, 59.76% in Group1, $188,69mm^2$, 56.10% in Group2, and $174.23mm^2$, 55.76% in Group3. The results that Group1 has the most area/ratio and Group3 has the least area/ratio can be considered Group1 is the most advantageous for masticatory effective area, and Group3 is the least adnantageous. 3. Means and ratio of the under 1.0mm area(C) were $198.96mm^2$, 42.65% in Group1, 123.06$mm^2$, 46.58% in Group2, and $92.24mm^2$, 29.52% in Group3. These data means that Group1 is the most advantageous in terms of masticatory effective area and Group3 is the least. 4. Means and ratio of the under 0.5mm area(B) were $86.68mm^2$, 26.68% in Group1, $62.98mm^2$, 18.71% in Group2, and $36.44mm^2$, 11.66% in Group3. These can also be considered Group1 is the most advantageous for masticatory effective area and occlusal stability. 5. Means and ratio of the under 0.05mm area(A) were $30.92mm^2$, 9.21% in Group1, $14.31mm^2$, 4.25% in Group2, and $7.59mm^2$, 2.43% in Group3. The area ratio of the each subject group was(4.1) : (1.9) : (1)and the data of the under 0.05mm area has the intimate relationship with inter-group and intra-group data/ratio. 6. First molar showed the most occlusal contact points in all subject group and Group1 showed somewhat uniformly distributed occlusal contact point except first premolar. In Group2, all contact point in posterior teeth showed significantly reduced distribution except first molar. Group3 showed evenly distributed contace points in first and second molars.

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4성분계 Cu-Fe-Sn-S의 상관관계에 대한 새로운 데이터 (New data on Phase Relations in the System Cu-Fe-Sn-S)

  • 장영남
    • 한국광물학회지
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    • 제4권1호
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    • pp.43-50
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    • 1991
  • 四成分系 Cu-Fe-Sn-S 시스템의 相關係에 대한 합성실험에서 두 개의 固溶體 타입의 合成相$(Fe, Cu, Sn)_{1+x}S$$Cu_{2-y}Fe_{1+y}SnS_4$가 발견되었으며 이들은 成分四面體 내에서 CuS-FeS-SnS로 표시될 수 있는 reference面의 주위에서 안정한 것으로 밝혀졌다. 煎者는 섬아연석 結晶構造를 갖고 있는 단순황화물 고용체로서 온도함수인 금속과 유황의 비율(9.7-1.0/1.0)에 따라 광범위한 화학적 안정영역을 차지하고 있다. 또산 섬아연석 超格子중에 하나인 테트라헤드라이트 結晶構造를 갖고 있는 후자는 $Cu_2FeSnS_4$-FeS conode를 따라 렌즈型의 안정범위를 갖으나 subsolidus 범위(350${\circ}C$까지) 내에서 相轉移 현상이 없고 835-862${\circ}C$에서 不調和熔融을 한다. 위 두 개의 고용체는 온도변화에 따라 相互溶解度 그리고 관련된 각각의 합성상이 화학조성이 변화하는 소위 Incorporation-type Solid Solution이다. 특히 後者의 경우 섬아연석 subcell을 기본골격으로 하는 超格子의 특징적인 양상을 X-ray 연구에서 찾을 수 있으며 이 패턴을 초격자의 안전성이 높다는 것을 암시해 주고 물리, 화학적 특성이 stoichiometric phase $Cu_2FeSnS_4$와 相異하다.

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