알루미늄의 부식에 있어서 HCI 용액내에 황산을 첨가하는 경우 황산이온의 화학적 흡착에 의한 부식억제 효과가 나타나며, CV (cyclic voltammetry) 실험결과 황산이온은 핏트내부에 보호성 산화피막을 생성함으로서 에치핏트가 핏트내부와 알루미늄 표면에 함께 생성되어 핏트의 밀도가 증가하였다. 알루미늄 교류에칭시에 핏트분포는 황산이온의 농도와 환원전류량에 의하여 크게 영향을 받으며, 환원전류인가시 $0.8mC/cm^2$ 이하의 전하량에서 핏트내부에 생성된 산화피막은 황산이온 농도의 증가에 따라 핏트발생에 대한 저항성이 중가하였으나, $0.8mC/cm^2$ 이상에서는 산화피막내에 국부적인 구조변화가 발생하며 황산이온 농도에 관계없이 산화피막의 파괴가 빠르게 진행되었다.
수소생산을 최적화하기 위하여 Enterobacter cloacae YJ-1을 이용해 생산성에 미치는 탄소원 농도, 질소원 농도, 금속이온 농도, 아미노산 효과로서 회분식 배양을 통하여 실험을 수행하였다. 각종 탄소원의 종류에 따라 수소생산을 검토한 결과 glucose 첨가시에 가장 양호하였다. 따라서 glucose 농도를 변화시켜 수소생산량을 조사한 결과 $2\%$(w/v) 농도에서 최대를 보여 975.4 mL/L를 생산하였다. 각종 질소원 중에서 가장 효과적인 질소원은 yeast extract이었으며, 최대 수소생산량은 $1.5\%$(w/v) 농도에서 1651.5mL/L이었다. 금속이온으로는 $Na_2MoO_4$가 가장 효과적으로 나타나 $0.04\%$(w/v) 농도에서 1753.3 mL/L를 생산하였다. 아미노산은 cystein에서 가장 생산량이 많았으며, 다음은 proline, histidine, alanine 등 순이었다. 회분식 배양의 최적 조건하에 수소를 연속적으로 생산하기 위하여 반연속배양을 행한 결과 $3\%$ (w/v) 농도에서 2215.4 mL/L로 가장 높았다. 생산균주의 대사에 관한 물질을 보다 세밀히 조사하고 연속적인 수소생산을 살펴 산업적인 공정개발도 가능하리라 생각된다.
The barium strontium titannate (BST) thin films were etched in $CF_{4}/Ar$ inductively coupled plasma (ICP). The high etch rate obtained at a $CF_{4}(20%)/Ar(80%)$ and the etch rate in pure argon was twice higher than that in pure $CF_{4}$. This indicated that BST etching is sputter dominant process. It is impossible to avoid plasma-induced damages by the energetic particles in the plasma and the nonvolatile etch products. The plasma damages were evaluated in terms of leakage current density, residues on the etched sample, and the changes of roughness. After the BST thin films exposed in the plasma, the leakage current density and roughness increases. In addition, there are appeared a nonvolatile etch byproductsand from the result of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). After annealing at ${600^{\circ}C}$ for 10 min in $O_{2}$ ambient, the increased leakage current density, roughness and nonvolatile etch byproducts reduced. From the this results, the plasma induced damage recovered by annealing process owing to the relaxation of lattice mismatches by Ar ions and the desorption of metal fluorides in high temperature.
Anthocyanin 색소원(자색고구마, 꽃양배추, 적양배추, 포도, 흑미, 가지, 무화과)의 색가를 조사하고 이들 중 색가가 높은 자색고구마, 꽃양배추, 적양배추 및 포도과피를 선정하여 이들 색소의 안정성에 미치는 금속이온, ascorbic acid, 자외선 및 가열의 영향을 조사하였다. 자색고구마와 포도과피의 색소는 $Mn^{2+}$에 의해 색소의 안정성이 가장 크게 저하되었으며, 적양배추와 꽃양배추 색소는 모두 $Cu^{2+}$이온에 의해 안정성이 가장 크게 저하되었다. Ascorbic acid와 자외선 및 가열은 anthocyanin 색소의 안정성을 저하시켰는데, 그 정도는 색소원에 따라 달랐다. 이들 요인들에 대한 안정성은 자색고구마 색소가 가장 높았으며, 다음으로 꽃양배추, 적양배추 및 포도과피의 색소 순이었다. 색소원에 따라 색소의 안정성이 달라지는 것은 이들 anthocyanin색소를 구성하는 색소성분의 차이에 기인한다.
실험에서는 구절초를 꽃, 잎 줄기, 뿌리 등의 부위별로 구분하여 메탄올로 추출하고 추출 수율, 총 폴리페놀 및 총 플라보노이드 함량, DPPH radical 소거능, ABTS radical 소거능, superoxide anion radical 소거능, 아질산염소거능, 철 이온에 대한 킬레이트 효과, 환원력 등을 측정하였다. 추출 수율은 꽃이 가장 높았고 총 폴리페놀 함량은 꽃에서 가장 높게 나타났고 뿌리에서 가장 낮게 나타났다. DPPH radical 소거능과 ABTS radical 소거능은 추출물의 농도가 증가함에 따라 증가하였고 꽃과 잎 줄기가 뿌리보다 높은 소거능을 나타내었다. Superoxide anion radical 소거활성도 추출물의 농도 증가에 따라 증가하여 꽃 부위가 가장 높게 나타났으나 DPPH나 ABTS radical 소거활성보다는 다소 낮은 수치를 보였다. 철 이온에 대한 킬레이트 효과는 추출물의 농도가 증가함에 따라 증가하였고 꽃에서 가장 높게 나타났고 뿌리에서 가장 낮게 나타났다. 환원력은 꽃과 잎 줄기에서 높게 나타났고 뿌리에서 낮게 나타났다. 이상의 결과를 종합하여 보면 총 폴리페놀 함량이 가장 높은 구절초 꽃이 높은 항산화활성을 보였고 그 다음으로 잎 줄기가 활성을 보임으로써 향후 천연 항산화제로서의 개발 가능성이 시시되었다.
Diphenylcarbazide를 흡착시킨 큰 그물구조 수지를 사용하여 컬럼 조작에 의해 0.1M 황산수용액에서 크롬(Ⅵ)이온을 선택적으로 농축하였다. 시료수의 액성과 유속을 조절하여 각종 수지에 대해 크롬(Ⅵ)이온 추출실험을 한 결과 Diaion HP-20이 가장 큰 돌파교환용량을 나타내었다. Diaion HP-20에 대해 크롬(Ⅵ)이온의 돌파점은 흡착된 DPC의 농도에 비례하였으며 크롬(Ⅵ)이온의 농도가 진할 때가 묽을 때 보다 높은 돌파교환용량을 나타냈다. 또한 일반 환경수 속에 공존되기 쉬운 각종 중금속 이온들에 대한 크롬(Ⅵ)이온의 농축에 미치는 영향을 조사한 결과 10ppm 크롬(Ⅵ)이온에 대해 철(Ⅲ)이온을 제외한 모든 금속 이온들은 100배까지 공존하여도 영향을 미치지 않았으며 철(Ⅲ)이온은 10배까지 방해되지 않았다. 크롬(Ⅵ)이온 추출에 이용된 겔 입자는 메탄올로서 쉽고도 효과적으로 재생되므로 반복 사용할 수 있다.
1.000%(w/v)텅스텐 메트릭스 중에 미량불순물로 존재하는 아연, 카드뮴, 납 및 구리의 동시정량을 펄스차이 벗김전압전류법으로 검토하였다. 지지전해질로는 타르타르산(pH=5.00)을 사용하였다. 사전 농축은 -1.2 volt(vs. Ag/AgCl)에서 3분간이면 충분하였다. 1.000%(w/v)텅스텐 매트릭스 중에서 아연, 카드뮴, 납 및 구리 각 원소의 동시 정량이 가능한 직선 범위는 10 ~ 50 ppb였으며, 3${\sigma}$검출한계는 각각 1.25, 1.02, 1.69, 1.02ppb 로 나타났다. 이 결과는 텅스텐 매트릭스하에서 ICP-AES의 검출한계인 8.0, 5.0, 120, 5 ppb 결과와 비교하여 볼때, 본 방법이 보다 우수한 미량분석방법임을 알 수 있다.
백금과 로듐 모두 미량으로 존재할 때 펄스 차이 폴라로그래피법으로 동시 정량할 수 있는 용액조건을 확립하였다. 포름알데히드 0.004%(w/v)-히드라진 0.0012$(w/v)-황산 0.75 M의 조건에서 가장 예민한 수소 촉매파를 얻을 수 있었다. 이 조건에서 단일 금속의 검출 한계는 $7.3{\times}10^{-11}\; M\; Pt$ 그리고 $3.2{\times}10^{-11}\; M\; Rh$이었다. 이 농도범위에서 로듐(10배 이상)과 이리듐(100배 이상)만이 백금을 방해하였다. 로듐은 어떠한 여타 백금족 원소(1000배 이상의 백금, 500배의 이리듐 존재하에서도)의 방해도 받지 않았다.
Park, Seung-Chul;Cho, Hang-Rae;Lee, Ji-Hoon;Yang, Ho-Yeon;Yang, O-Bong
Nuclear Engineering and Technology
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제46권6호
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pp.847-856
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2014
Spent resin waste containing a high concentration of $^{14}C$ radionuclide cannot be disposed of directly. A fundamental study on selective $^{14}C$ stripping, especially from the IRN-150 mixed bed resin, was carried out. In single ion-exchange equilibrium isotherm experiments, the ion adsorption capacity of the fresh resin for non-radioactive $HCO_3{^-}$ ion, as the chemical form of $^{14}C$, was evaluated as 11mg-C/g-resin. Adsorption affinity of anions to the resin was derived in order of $NO_3{^-}$ > $HCO_3{^-}{\geq}H_2PO_4{^-}$. Thus the competitive adsorption affinity of $NO_3{^-}$ ion in binary systems appeared far higher than that of $HCO_3{^-}$ or $H_2PO_4{^-}$, and the selective desorption of $HCO_3{^-}$ from the resin was very effective. On one hand, the affinity of $Co^{2+}$ and $Cs^+$ for the resin remained relatively higher than that of other cations in the same stripping solution. Desorption of $Cs^+$ was minimized when the summation of the metal ions in the spent resin and the other cations in solution was near saturation and the pH value was maintained above 4.5. Among the various solutions tested, from the view-point of the simple second waste process, $NH_4H_2PO_4$ solution was preferable for the stripping of $^{14}C$ from the spent resin.
Passive metal forms an interfacial diffuse layer on the surface of passive film by its reaction with $H^+$ or $OH^-$ ions in solution depending on solution pH. There is a critical pH, called pH point of iso-selectivity ($pH_{pis}$) at which the nature of the diffuse layer is changed from the anion-permeable at pH<$pH_{pis}$ to the cation-permeable at pH>$pH_{pis}$. The $pH_{pis}$ for a passivated Fe was determined by examining the effects of pH on the thickness of passive film and on the dissolution reaction occurring on the passive film under a gavanostatic reduction in borate-phosphate buffer solutions at various pH of 7~11. The steady-state thickness of passive film formed on Fe showed the maximum at pH 8.5~9, and further the nature of film dissolution reaction was changed from a reaction producing $Fe^{3+}$ ion at $pH\leq8.5$ to that producing $FeO_2{^-}$ at $pH\geq9$, suggesting that the $pH_{pis}$ of Fe is about pH 8.5~9. In addition, the passive film formed at pH 8.5~9, $pH_{pis}$, was found to be the most protective with the lowest defect density as confirmed by the Mott-Schottky analysis. Pitting potential was decreased with increasing $Cl^-$ concentration at $pH\leq8.5$ due probably to the formation of anion permeable diffuse layer, but it was almost constant at $pH\geq9$ irrespective of $Cl^-$ concentration due primarily to the formation of cation permeable diffuse layer on the film, confirming again that $pH_{pis}$ of Fe is 8.5~9.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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