MESFETs of the Ti/Au and Ti/Pd/Au gate were fabricated on n-type GaAs. Interdiffusion at Schottky interfaces, Schottky contact properties, and MESFET characteristics with heat treatment were investigated. Ti of Ti/Au contact and Pd of Ti/Pd/Au contact acted as a barrier metal against interdiffusion of Au at >$220^{\circ}C$. Pd of Ti/Pd/Au contact acted as a barrier metal even at >$360^{\circ}C$, however, Ti of Ti/Au contact promoted interdiffusion of Au instead of role of barrier metal. As the heat treatment temperature increases, in the case of both contact, saturated drain current and pinch off voltage decreased, open channel resistance increased, and degree of parameter variation in Ti/Au gate was higher than in Ti/Pd/Au gate at >$360^{\circ}C$ Schottky barrier height of Ti/Au and Ti/Pd/Au contacts was 0.69eV and 0.68eV in the as-deposited state, respectively, and Fermi level was pinned in the vicinity of 1/2Eg. As the heat treatment temperature increases, barrier height of Ti/Pd/Au contact increased, however, decreased at >$360^{\circ}C$ in the case of Ti/Au contact. Ideality factor of Ti/Au contact was nearly constant regardless of heat treatment, however, increased at >$360^{\circ}C$ in the case of Ti/Au contact. From the results above, Ti/Pd/Au was stable gate metal than Ti/Au.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.23
no.7
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pp.571-574
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2010
Surface recombination loss should be reduced for high efficiency of solar cells. To reduce this loss, the BSF (back surface field) is used. The BSF on the back of the p-type wafer forms a p+layer, which prevents the activity of electrons of the p-area for the rear recombination. As a result, the leakage current is reduced and the rear-contact has a good Ohmic contact. Therefore, the open-circuit-voltage (Voc) and fill factor (FF) of solar cells are increased. This paper investigates the formation of the rear contact process by comparing aluminum-paste (Al-paste) with pure aluminum-metal(99.9%). Under the vacuum evaporation process, pure aluminum-metal(99.9%) provides high conductivity and low contact resistance of $4.2\;m{\Omega}cm$, but It is difficult to apply the standard industrial process to it because high vacuum is needed, and it's more expensive than the commercial equipment. On the other hand, using the Al-paste process by screen printing is simple for the formation of metal contact, and it is possible to produce the standard industrial process. However, Al-paste used in screen printing is lower than the conductivity of pure aluminum-metal(99.9) because of its mass glass frit. In this study, contact resistances were measured by a 4-point probe. The contact resistance of pure aluminum-metal was $4.2\;m{\Omega}cm$ and that of Al-paste was $35.69\;m{\Omega}cm$. Then the rear contact was analyzed by scanning electron microscope (SEM).
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.382.1-382.1
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2014
Graphene field-effect transistors (GFET) is one of candidates for future high speed electronic devices since graphene has unique electronic properties such as high Fermi velocity (vf=10^6 m/s) and carrier mobility ($15,000cm^2/V{\cdot}s$) [1]. Although the contact property between graphene and metals is a crucial element to design high performance electronic devices, it has not been clearly identified. Therefore, we need to understand characteristics of graphene/metal contact in the GFET. Recently, it is theoretically known that graphene on metal can be doped by presence of interface dipole layer induced by charge transfer [2]. It notes that doping type of graphene under metal is determined by difference of work function between graphene and metal. In this study, we present the GFET fabricated by contact metals having high work function (Pt, Ni) for p-doping and low work function (Ta, Cr) for n-doping. The results show that asymmetric conductance depends on work function of metal because the interfacial dipole is locally formed between metal electrodes and graphene. It induces p-n-p or n-p-n junction in the channel of the GFET when gate bias is applied. In addition, we confirm that charge transfer regions are differently affected by gate electric field along gate length.
The turn-to-turn contact resistance of 2G high temperature superconducting (HTS) coils with metal insulation (MI) is closely related to the stability of the coils, current charging rate and delay time [1]. MI coils were fabricated using five kinds of metal tapes such as aluminum (Al) tape, brass tape, stainless steel (SS) tape, copper (Cu)-plated tape and one-sided Cu-plated SS tape. The turn-to-turn contact surface resistances of co-winding model coils using Al tape, brass tape, and SS tape were 342.6, 343.6 and $724.8{\mu}{\Omega}{\cdot}cm^2$, respectively. The turn-to-turn contact resistance of the model coil using the one-sided Cu-plated SS tape was $ 248.8{\mu}{\Omega}{\cdot}cm^2$, which was lower than that of Al and brass tape. Al or brass tape can be used to reduce contact resistance and improve the stability of the coil. Considering strength, SS tape is recommended. For strength and low contact resistance, SS tape with copper plating on one side can be used.
High-efficiency silicon solar cells have potential applications on mobile electronics and electrical vehicles. The fabrication processes of the high efficiency cells necessitate com placated fabrication precesses and expensive materials. Ti/Pd/Ag metal contact has been used only for limited area In spite of good stability and low contact resistance because of Its expensive material cost and precesses. Screen printed contact formed by Ag paste causes a low fill factor and a high shading loss of commercial solar cells because of high contact resistance and a low aspect ratio. Low cost Ni/Cu metal contact has been formed by using a low cost electroless and electroplating. Nickel silicide formation at the interface enhances stability and reduces the contact resistance resulting In an energy conversion efficiency of $20.2\%\;on\;0.50{\Omega}cm$ FZ wafer. Tapered contact structure has been applied to large area solar cells with $6.7\times6.7cm^2$ in order to reduce power losses by the front contact The tapered front metal contact Is easily formed by the electroplating technique producing $45cm^2$ solar cells with an efficiency of $21.4\%$ on $21.4\%\;on\;2{\Omega}cm$ FZ wafer.
There are some methods for increasing efficiency of crystalline silicon solar cells. Among them, It is important to reduce the recombination loss of surface for high efficiency. In order to reduce recombination loss is a way to use the BSF(Back Surface Field). The BSF on the back of the p-type wafer forms a p+layer. so, it is prevented to act electrons of the p-area for the rear recombination. As a result, the leakage current is reduced and the rear-contact has a good Ohmic contact. therefore, open-circuit-voltage and Fill factor(FF) of solar cells are increased. This paper investigates the formation of rear contact process comparing Aluminum-paste(Al-paste) with Aluminum-Metal(99.9%). It is shown that the Aluminum-Metal provides high conductivity and low contact resistance of $21.35m{\Omega}cm$ using the Vacuum evaporation process but, it is difficult to apply the standard industrial process because high Vacuum is needed and it costs a tremendous amount more than Al-paste. On the other hand, using the Al-paste process by screen printing is simple for formation of metal contact and it is possible to produce the standard industrial process. however, it is lower than Aluminum-Metal(99.9) of conductivity because of including mass glass frit. In this study, contact resistances were measured by 4-point prove. each of contact resistances is $21.35m{\Omega}cm$ of Aluminum-Metal and $0.69m{\Omega}cm$ of Al-paste. and then rear contact have been analyzed by Scanning Electron Microscopy(SEM).
Proceedings of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers Conference
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1991.06a
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pp.1-30
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1991
The lubrication state between contacting bodies with rolling and sliding under loaded condition is generally understood by the conception shown in Figure 1. When the lubricating oil film formation between facing bodies is good enough to separate these bodies by the hydrodynamic pressure, this state is called by the expression of "hydrodynamic lubrication". The thickness of oil film is so large that the lubricating oil between facing bodies behaves as fluid and metal-to-metal contact between surface roughness asperities on facing bodies does not occur. When the oil film thickness becomes thinner or when the surface roughness height becomes larger, top of surface roughness asperities on facing bodies reaches very near to each other and there the oil or absorbed oil molecules on the surface of facing bodies behave no more as fluid. Partly metal-to-metal contact of surface roughness asperities occurs. Such lubrication state is called by the expression "mixed-lubrication". When the oil film thickness becomes more thinner or surface roughness height becomes larger, metal-tometal contact or contact via absorbed oil molecules dominate at most of the part in contact zone. Such state is called by the expression "boundary lubrication". Schematic representation of these three regimes of lubrication is shown in Figure 1.rication is shown in Figure 1.
Kim, Garam;Kim, Jang Hyun;Park, Euyhwan;Park, Byung-Gook
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.14
no.5
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pp.588-593
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2014
Current crowding problem can worsen the internal quantum efficiency and the negative-voltage ESD of InGaN-based LEDs. In this paper, by using photon emission microscope and thermal emission microscope measurement, we confirmed that the electric field and the current of the InGaN-based LED sample are crowded in specific regions where the distance between p-type metal contact and n-type metal contact is shorter than other regions. To improve this crowding problem of electric field and current, modified metal contact geometry having uniform distance between the two contacts is proposed and verified by a numerical simulation. It is confirmed that the proposed structure shows better current spreading, resulting in higher internal quantum efficiency and reduced reverse leakage current.
The performance of graphene-based electronic devices is critically affected by the quality of the graphene-metal contact. The understanding of graphene-metal is therefore critical for the successful development of graphene-based electronic devices, especially field-effect-transistors. Here, we provide a review of the peculiar properties of graphene-metal contacts, including work function pinning, the charge transport mechanism, the impact of the process on the contract resistance, and other factors.
This paper presents the hardness and friction characteristics of pb-free pin-bush bearing metal, which is manufactured by a centrifugal casting technology. A bronze metal with a high hardness and low friction properties is usually used for Diesel engine pin-bush bearing and high pressure cylinder. Pb-free metal for pin-bush bearings shows a little high hardness of 120 Hv compared with that of a conventional Pb bearing metal of 100~110 Hv. In general, the friction coefficient of pin-bush bearings is affected by a rotating speed and a load for various rubbing contact modes. But a contact load is more influential parameter when the contact rubbing mode transits from a mixed lubrication to a dry friction contact. The experimental result shows that the friction coefficient is more unstable at the dry contact mode compared with that of other two rubbing modes such as oil film contact and mixed friction conditions.
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