• Title/Summary/Keyword: MEMS 제조 공정

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Mechanical Property Measurement in Nano Imprint Process (나노 임프린트 공정에서의 기계적 물성 측정)

  • 김재현;이학주;최병익;강재윤;오충석
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.21 no.6
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    • pp.7-14
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    • 2004
  • 나노 임프린트 기술은 기존의 광학적 리소그라피 (optical lithography) 기술보다 저렴한 비용으로 나노 구조물을 대량으로 제조할 수 있을 것으로 기대되고 있는 기술이다. 현재까지 반도체 공정기술의 주류를 이루고 있는 광학적인 리소그라피 기술은, 100nm이상의 CD(Critical Dimension)를 가지는 구조물들을 정밀하게 제조하여, 미소전자공학 (microelectronics) 소자, MEMS/MEMS, 광학소자 등의 제품들을 대량으로 생산하는 데에 널리 활용되고 있다. 반도체 소자의 고집적화 경향에 따라 100 nm 이하의 CD를 가지는 나노 구조물들을 제조할 필요성이 높아지고 있지만, 광학적인 방법으로는 광원의 파장보다 작은 구조물들을 제조하기가 어렵다. 보다 짧은 파장을 가지는 광원을 이용하는 리소그라피 장비가 계속적으로 개발되고 있으나, 그에 따른 장비 비용 및 제조 단가가 기하급수적으로 증가하고 있다.(중략)

A Consideration on the Process Technology and Application of MEMS to prepare for upcoming MEMS-based technological paradigm (MEMS 기반의 새로운 기술적 패러다임에 대비한 공정 기술 분석 및 적용에 대한 고찰)

  • Ko, Yun-Seok
    • The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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    • v.8 no.7
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    • pp.979-986
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    • 2013
  • Recently, in the electric, electronic, robotic, and medical industries, a great attention has been paid to the development of MEMS-based smart devices with a compact size and highly intelligency. The MEMS technology is very effective in designing into a compact size and lightweight by combining into one the complex electrical, mechanical, chemical, and biological features which are required by smart devices, and at the same time, in bulk batch manufacturing. Therefore, this study, to prepare for upcoming new MEMS-based technological paradigm, analyzes MEMS processes and then considers its Applications.

A High Yield Rate MEMS Gyroscope with a Packaged SiOG Process (SiOG 공정을 이용한 고 신뢰성 MEMS 자이로스코프)

  • Lee Moon Chul;Kang Seok Jin;Jung Kyu Dong;Choa Sung-Hoon;Cho Yang Chul
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.12 no.3 s.36
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    • pp.187-196
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    • 2005
  • MEMS devices such as a vibratory gyroscope often suffer from a lower yield rate due to fabrication errors and the external stress. In the decoupled vibratory gyroscope, the main factor that determines the yield rate is the frequency difference between the sensing and driving modes. The gyroscope, fabricated with SOI (Silicon-On-Insulator) wafer and packaged using the anodic bonding, has a large wafer bowing caused by thermal expansion mismatch as well as non-uniform surfaces of the structures caused by the notching effect. These effects result in large distribution in the frequency difference, and thereby a lower yield rate. To improve the yield rate we propose a packaged SiOG (Silicon On Glass) technology. It uses a silicon wafer and two glass wafers to minimize the wafer bowing and a metallic membrane to avoid the notching. In the packaged SiOG gyroscope, the notching effect is eliminated and the warpage of the wafer is greatly reduced. Consequently the frequency difference is more uniformly distributed and its variation is greatly improved. Therefore we can achieve a more robust vibratory MEMS gyroscope with a higher yield rate.

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Synthesis of LiDAR-Detective Black Material via Recycling of Silicon Sludge Generated from Semiconductor Manufacturing Process and Its LiDAR Application (반도체 제조공정에서 발생하는 실리콘 슬러지를 재활용한 라이다 인지형 검은색 소재의 제조 및 응용)

  • Minki Sa;Jiwon Kim;Shin Hyuk Kim;Chang-Min Yoon
    • Journal of the Korea Organic Resources Recycling Association
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    • v.32 no.1
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    • pp.39-47
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    • 2024
  • In this study, LiDAR-detective black material is synthesized by recycling silicon sludge (SS) that is generated from semiconductor manufacturing process, and its recognition is confirmed using two types of LiDAR sensors (MEMS and Rotating LiDAR). In detail, metal impurities on the surface of SS is removed, followed by coating of titanium dioxide (TiO2) and subsequent chemical reduction to obtain SS-derived black TiO2 (SS/bTiO2) material. As-prepared SS/bTiO2 is mixed with transparent paint to prepare hydrophilic black paints and applied to a glass substrate using a spray gun. SS/bTiO2-based paint shows similar blackness (L*=15.7) compared to commercial carbon black-based paint, and remarkable NIR reflectance (26.5R%, 905nm). Furthermore, MEMS and Rotating LiDAR have successfully detected the SS/bTiO2-based paint. This is attributed to the occurrence of high reflection of light at the interface between the black TiO2 and the silicon sludge according to the Fresnel's reflection principle. Hence, the new application field to effectively recycle silicon sludge generated in the semiconductor manufacturing process has been presented.

Fabrication Method of 3D Feed Horn Shape MEMS Antenna Array Using MRPBI(Mirror Reflected Parallel Beam Illuminator) with Inclined X-Y-Z Stage (MRPBI를 이용한 3D Feed Horn Shape MEMS Antenna Array의 제조)

  • Park, Jong-Yeon;Kim, Kun-Tae;Moon, Sung;Pak, Jung-Ho;Park, Jong-Oh
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2001.07c
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    • pp.1914-1917
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    • 2001
  • 3D Feed Horn Shape MEMS Antenna Array는 적외선 이미지 소자 또는 Tera hertz band 등에서 많은 응용을 할 수 있는 장점을 가진 MEMS 구조체 이다. 하지만 일반적인 MEMS 공정을 이용해서 3D Feed Horn Shape MEMS antenna array를 구현하기는 적합하지 않았다. 본 논문에서는 마스크와 웨이퍼가 일체 된 형태의 경사된 척이 초 저속으로 회전하면서 노광을 할 수 있는 새로운 방식과 미러 반사구조를 이용해서 평행광을 얻을수 있는 노광장치 (MRPBI : Mirror Reflected Parallel Beam Illuminator) System제작방법을 제안하였다. 3D Feed Horn Shape MEMS Antenna의 구조적인 high apect ratio의 특성에 의해서 SU-8과 PMER Negative Photo resist를 이용한 기본적인 실험을 통해 3D 구조체의 구현 가능성을 증명하였다. 또한 Microbolometer의 성능향상을 위한 이론적인 3D MEMS Antenna Model들을 HFSS(High Frequency Structure Simulator)을 이용해서 그 최적구조를 제안하고 3D MEMS Antenna Gain 값을 비교 분석하였다.

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마이크로 머시닝 기술 동향과 MEMS에의 응용

  • 박정호;성영권
    • 전기의세계
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    • v.44 no.5
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    • pp.24-32
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    • 1995
  • 본 고에서는 MEMS제작의 기본이 되는 마이크로 머시닝 기술의 최근 동향과 MEMS에의 적용범위에 대해서 논하였다. MEMS 연구 및 개발에는 여기서 언급한 마이크로 머시닝 기술을 이용한 제조공정 외에도 운동기구의 기계적 해석, 마이크로 센서 및 액튜에이터와 신호처리를 할 수 있는 제어, 계측용 집적 회로와의 결합, assembly를 위한 극미세 구조의 접합기술, 적합한 박막 및 기판의 선정을 위한 재료기술, 극미세 구조 및 표면 등의 계측, 평가 기술과 이들을 위한 이론적인 분석, 설계기법등의 제반기술에 대한 연구가 동시에 필요하다.

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A Study on Bosch etching by Inductive Coupled Plasma (ICP를 이용한 Bosch 식각에 관한 연구)

  • Kim, Jin-Hyun;Ryoo, Kun-Kul;Kim, Jang-Hyun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2003.05e
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    • pp.77-80
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    • 2003
  • MEMS(Micro Electro Mechanical System) 기술에서 실리콘 식각기술의 중요성으로 플라즈마 식각기술의 개발이 꾸준히 진행되고 있다. 이중에서 ICP(Inductive Coupled Plasma)는 기존의 증착장치에 유도결합식 플라즈마를 추가로 발생시켜 증착막의 특성을 획기적으로 개선시키는 가장 최근에 개발된 기술이며, 이용에너지를 증가시키지 않고도 이용밀도를 높이고 이용업자들에 방향성을 가할 수 있는 새로운 플라즈마 기술로, 주로 MEMS 제조공정에 응용되고 있다. 본 연구에서는 STS-ICP $ASE^{HR}$을 이용하여 식각과 증착공정을 반복하여 식각을 하는 Bosch 식각에 관하여 연구하였다 STS-ICP $ASE^{HR}$ 장비의 Platen power, Coil power 및 Process pressure에 다양한 변화를 주어 각 변수에 따른 식각속도를 관찰하였다. 각 공정별 변수를 변화시킨 결과 Platen power 12W, Coil power 500W, 식각/Passivation Cycle 6/7sec 일 경우 식각속도는 $1.2{\mu}m$/min 이었고, Sidewall profile은 $90{\pm}0.7^{\circ}$로 나타나 매우 우수한 결과를 보였다.

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