• 한국재료학회지
• /
• 제7권1호
• /
• pp.33-39
• /
• 1997

ECR PECVD법에 의해 $Pt/Ti/SiO_{2}/Si$ 다층 기판 위에 $480^{\circ}C$에서 순수한 페로브스카이트상의 PLT박막을 증착하였다. PLT 박막 증착전 ECR산소 플라즈마내에서의 $Pb(DPM)_{2}$ pre-flowing처리는 $Pb(DPM)_{2}$의 공급을 안정화시켜주며 박막증착초기에 Pb성분이 풍부한 분위기를 조성해 줌으로써 페로브스카이트 핵생성을 용이하게 하여 PLT박막 특성을 향상시켰다. Ti-source 유입량을 변화시킬 때 PLT박막의 증착특성, 조성, 결정상 그리고 전기적 특성을 관찰하였다. PLT박막은(100)으로 우선 배향되었으며 화학양론비가 잘 맞는 경우 높은 페로브스카이트 X-선 회절강도와 높은 유전율을 나타내었다.

• 한국재료학회지
• /
• 제8권12호
• /
• pp.1152-1157
• /
• 1998

금속 타겟들을 이용한 반응성 스퍼터링법으로 $460~540^{\circ}C$범위에서 $Pt/Ti/SiO_2$/Si 기판위에 PZT 박막을 증착하였다. Perovskite상의 핵형성을 위해 Pb 휘발이 적은 저온($480^{\circ}C$)에서 짧은 시간 동안 PZT 박막을 증착한 후 Pb가 PBT 박막내에 과잉으로 함유되는 것을 억제하기 위하여 증착 온도를 증가시켜 박막을 증착하는 2단계 증착법을 사용한 결과 54$0^{\circ}C$의 고온에서도 perovskite 단일상과 화학양론비에 가까운 조성을 얻을 수 있었다. 2단계 증착법으로 제조된 PZT 박막은 우수한 전기적 특성을 나타내었으며 후속 RTA 처리로 더욱 특성을 향상시킬 수 있었는데 $17\mu$C/$\textrm{cm}^2$의 잔류분극, 45kv/cm의 coercive field, 그러고 -500kv/cm의 높은 전기장에서도 $10^{-4}$ A/$\textrm{cm}^2$의 양호한 누설전류 특성을 나타내었다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
• /
• 대한전기학회 1996년도 추계학술대회 논문집 학회본부
• /
• pp.245-247
• /
• 1996

The ferroelectric $Pb(Zr_xTi_{1-x})O_3$ (20/80, 80/20) heterolayered thin films were fabricated from an alkoxide-based by Sol-Gel method. The PZT(20/80) and PZT(80/20) stock solution were made and spin-coated on the Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrate by turns. Each layers were baked to remove the organic materials at 300[$^{\circ}C$] for 30[min]. and sintered at 650[$^{\circ}C$] for 1[hr]. This procedure was repeated 5 times. At this time the thickness of thin films were about 4000[$\AA$]. Relative dielectric constant and remanent polarization of the PZT heterolayered thin films were 1200, 27.10 [${\mu}C/cm^2$], respectively.

• 한국정보과학회논문지:정보통신
• /
• 제30권1호
• /
• pp.117-125
• /
• 2003

기존의 IP4 문제점을 극복하기 위해 IETF (Internet Engineering Task Force)에서 제안하고 있는 IPv6 (IP version 6)는 초기 도입단계에서 IPv4와의 호환성을 위해 다양한 트랜지션 메커니즘이 필요하다. 이러한 트랜지션 메커니즘은 크게 터널링과 변환기를 이용한 메커니즘으로 구분될 수 있다. 본 논문은 변환기를 이용한 트랜지션 메커니즘 구현을 위해 기존의 NAT (Network Address Translation) 기법과 유사한 NAT PT (NAT Protocol Translation) 표준을 기반으로 변환에 필요한 요소 기술들을 분석하였다. 그리고 global IPv4 주소의 효율적인 환용을 위해서 포트를 이용한 확장 알고리즘을 설계하여 제시하였다. 또한 표준에서 언급되지 않은 매핑 테이블 관리 및 타이머 선정, 그리고 구현에 필요한 세부 기술들을 분석하여 설명하였다. 본 논문에서 제시한 모델은 양방항 세션의 NAT-PT 방식과 기존의 포트변환 방식을 혼용한 방식이다. 제안된 방식은 IPv4 주소를 필요로 하는 모든 호스트에 IPv4 주소를 할당하지 않고 단일 임시 IPv4 주소와 포트를 할당하기 때문에 IPv4 주소가 효율적으로 운영할 수 있는 장점을 갖는다.

• 센서학회지
• /
• 제17권4호
• /
• pp.281-288
• /
• 2008

Polyacrylonitrile(PAN)/metal oxide(MO) nanocomposite mats with a thickness of 0.12 mm were electrospun by adding 0 to 10 wt% of MO nanoparticles ($Fe_2O_3$, ZnO, $SnO_2$, $Sb_2O_3-SnO_2$) into PAN. Pt electrode was patterned on $Al_2O_3$ substrate by DC sputtering and then the PAN(/MO) mats on the Pt patterned $Al_2O_3$ were electrically wired to investigate the $CO_2$ gas sensing properties. As the MO content rose, the fiber diameter decreased due to the presence of lumps caused by the presence of MOs in the fiber. The PAN/2% ZnO mat revealed a faster response time of 93 s and a relatively short recovery of 54 s with a ${\Delta}R$ of 0.031 M${\Omega}$ at a $CO_2$ concentration of 200 ppm. The difference in sensitivity was not observed significantly for the PAN/MO fiber mats in the $CO_2$ concentration range of 100 to 500 ppm. It can be concluded that an appropriate amount of MO nanoparticles in the PAN backbone leads to improvement of the $CO_2$ gas sensing properties.

• 한국재료학회지
• /
• 제7권3호
• /
• pp.196-202
• /
• 1997

PLT 박막의 증착방법으로 ECR PECVD법을 이용한 경우 $440~500^{\circ}C$의 비교적 낮은 온도에서 순수한 perovskite구조를 가진$(Pb,La)TiO_{3}$박막을 성공적으로 제조하였다. 기판온도 증가에 따라 반응기체 및 산화물(특히 Pb oxkde)의 휘발성이 증대되어 증착속도가 감소하고 (Pb oxide)의 휘발성이 증대되어 증착속도가 감소하고 (Pb+La)/Ti조성비가 감소하였다. $460~480^{\circ}C$의 온도범위에서 증착한 PLT 박막이 화학양론비를 가장 잘 만족하였으며 이때 높은 유전상수와 가장 우수한 누설전류 특성을 나타내었다. $La(DPM)_{3}$ 유입량 증가에 따라 $(Pb, La)TiO_{3}$ 박막의 La 조성이 거의 직선적으로 비례하여 증가하였는데 La/Ti비가 3.0%에서 9.5%까지 증가함에 따라 PLT 박막의 유전 상수는 360부터 650까지 증가하였고 100kV/cm 전기장하에서의 누설전류도 $4{\times}10^{-5}$에서 $4{\times}10_{-8}A/cm^2$로 향상되었다.

• 한국재료학회지
• /
• 제6권9호
• /
• pp.931-936
• /
• 1996

비휘발성 메모리 소자에의 적용을 위한 SrBi2Ta2O9(SBT)박막이 고순도의 Sr, Bi, Ti 금속타겟을 사용하여 Pt/Ti/SiO2/Si 기판 위에 reactive sputtering 법에 의해 증착되었다. 조성의 영향을 평가하기 위하여 Bi 타겟에 인가되는 전원의 변화와 열처리에 따른 C-F(capacitance-frequency), P-E(polarization-electric field), I-V(current-voltage)등의 전기적 특성이 조사되었다. Bi의 양이 증가함에 따라 Bi layer 구조를 나타내는 (105)회절 피크가 증가하였고 $700^{\circ}C$, 산소분위기에서 1시간 동안 열처리후 Sr과 Bi가 심하게 휘발되었으며 박막의 미세구조는 다공질이 되었다. 이러한 이유로 열처리된 박막의 누설 전류 밀도는 증가하였다. 열처리된 시편의 조성은 거의 화학양론비를 이루었으며 4.5$\mu$C/$\textrm{cm}^2$의 Pr값을 갖는 강유전(ferroelectric)특성을 나타내었다.