• 한국산업보건학회지
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• 제10권2호
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• pp.98-108
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• 2000

Controlling the over-exposure of welding fumes is not an easy problem because neither general nor local exhaust ventilation systems could be successfully applied. A jet air supplying welding mask was development to reduce the exposure level of welding fumes. The jet airs tream pushes the welding fumes away from the breathing zone by using the frictional characteristic of jet. Laboratory experiments were conducted to optimize the efficiency of controlling welding fumes. Thereafter, its performance was tested in a laboratory and an industrial field. The efficiencies of reducing the welding fume exposure were about 90% and 80% in a laboratory and an industrial field, respectively. Additionally, it resulted in elimination of heat inside the mask and enhancement of clear visuality.

• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국정보통신학회 2013년도 추계학술대회
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• pp.265-267
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• 2013

에지는 물체의 여러가지 중요한 정보를 포함하고 있다. 이러한 에지는 많은 분야에서 응용되고 있으며, 기존의 에지 검출 방법에는 마스크를 이용하는 방법 등이 있다. 이러한 기존의 에지 검출 방법들은 구현이 간단하다. 그러나, 고정된 마스크를 이용하므로 복합 잡음 환경에서의 에지 검출 특성은 다소 미흡하다. 따라서 기존의 에지 검출 방법들의 단점을 보완하기 위하여, 본 논문에서는 국부 마스크의 표준편차 및 잡음 제거를 이용한 에지 검출 알고리즘을 제안하였다.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제18권8호
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• pp.1973-1980
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• 2014

영상, 차선, 물체 인식 등을 위한 에지 검출은 중요한 영상 처리 방법이며, 이를 위한 기존의 방법에는 Sobel, Prewitt, Roberts, Laplacian, LoG(Laplacian of Gaussian) 등이 있다. 이러한 방법들은 salt & pepper 잡음에 훼손된 영상에서 특성이 미흡하다. 이와 같은 문제점을 개선하기 위하여 본 논문에서는 중심 화소의 인접 화소를 중심으로 국부 마스크를 설정하여, 그것의 중심 화소가 비잡음인 경우 그대로 처리하고 잡음인 경우 추정 마스크를 구한 후, 가중치 마스크를 적용하여 에지를 검출하는 알고리즘을 제안하였다.

• 한국정밀공학회지
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• 제23권3호
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• pp.56-60
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• 2006

A high-resolution shadow mask, or called a nanostencil was fabricated for high resolution lithography. This high-resolution shadowmask was fabricated by a combination or MEMS processes and focused ion beam (FIB) milling. 500 nm thick and $2{\times}2mm$ large membranes wore made on a silicon wafer by micro-fabrication processes of LPCVD, photolithography, ICP etching and bulk silicon etching. A subsequent FIB milling enabled local membrane thinning and aperture making into the thinned silicon nitride membrane. Due to the high resolution of the FIB milling process, nanoscale apertures down to 70 nm could be made into the membrane. By local deposition through the apertures of nanostencil, nanoscale patterns down to 70 nm could be achieved.

• 한국정밀공학회지
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• 제28권2호
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• pp.245-250
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• 2011

A high-resolution shadow mask, a nanostencil, is widely used for high resolution lithography. This high-resolution shadowmask is often fabricated by a combination of MEMS processes and focused ion beam (FIB) milling. In this study, FIB milling on 500-nm-thin SiN membrane was tested and characterized. 500 nm thick and $2{\times}2$ mm large membranes were made on a silicon wafer by micro-fabrication processes of LPCVD, photolithography, ICP etching and bulk silicon etching. A subsequent FIB milling enabled local membrane thinning and aperture making into the thinned silicon nitride membrane. Due to the high resolution of the FIB milling process, nanoscale apertures down to 60 nm could be made into the membrane. The nanostencil could be used for nanoscale patterning by local deposition through the apertures.

• 방송공학회논문지
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• 제17권6호
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• pp.1061-1068
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• 2012

본 논문에서는 시간-주파수 영역에서의 이산 마스킹을 이용하여 잡음환경 음성의 음성 명료도를 높이는 방법에 대해 다루고자 한다. 잡음이 섞여 있는 음성신호를 시간-주파수 영역으로 분해하여, 상대적으로 잡음이 많이 섞여 있는 시간-주파수 영역의 신호를 마스크 "0"을 할당하여 제거함으로써 음성명료도를 향상시킬 수 있다. 이러한 이산 마스크를 추정하기 위해서는 각 시간-주파수 영역에서 신호 대 잡음 비를 추정하여 문턱값과 비교해야 하는데, 본 논문에서는 학습 기반의 신호 대 잡음 비 추정방법을 사용하여 문턱값과 비교하여 이산 마스크를 추정한다. 신호 대 잡음 비와 비교하기 위한 문턱값은 모든 주파수 대역에 대해 동일한 값을 이용하는 고정 문턱값 외에도 주파수 대역에 따라 학습 데이터의 분포로부터 최적의 값을 사용하는 최적 문턱값을 제안한다. 제안된 이산 마스크 추정 방법은 잡음 환경 데이터에 적용한 후, 피험자에게 들려주어 음성 명료도를 측정한다.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제21권3호
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• pp.629-635
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• 2017

본 논문에서는 영상에 첨가된 가우시안 잡음과 임펄스 잡음의 영향을 완화하기 위하여 잡음의 종류에 따라 처리하는 비선형 합성 필터를 제안하였다. 잡음 판단을 통해 국부 마스크의 중심화가 가우시안 잡음으로 판단된 경우, 국부 마스크 내의 표본분산을 이용하여 공간 가중치 필터와 화소 변화에 따른 가중치 필터의 가중치를 다르게 적용하여 처리하고, 임펄스 잡음으로 판단된 경우, 국부 마스크의 잡음 밀도에 따라 국부 히스토그램 가중치 필터와 표준 메디안 필터의 가중치를 다르게 적용하여 처리하는 알고리즘을 제안하였다. 그리고 제안한 필터 알고리즘의 성능을 평가하기 위해 PSNR(peak signal to noise ratio)을 사용하여 기존의 방법들과 제안한 필터 알고리즘을 가우시안 잡음, 임펄스 잡음 및 두 잡음이 혼합된 복합잡음 환경에서 각각 비교하였다.

• 한국레이저가공학회지
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• 제15권2호
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• pp.11-14
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• 2012

In this paper, we have made a proposal concerning the beam shaping mask(BSM) using random-array slits to control intensity distribution profile of laser beam and demonstrated its proprieties experimentally. When a lot of slits are set out irregularly, diffraction patterns of light does not appear but granularity patterns as a bundle of fibers appear. Intensity distribution profile is controlled by densities distribution of circular slits arrayed randomly because the number of slits and its area means amount of light energy through BSM. Namely as the number of slits in high intensity area is increased and that in low intensity area decreased, amount of light energy is same over all local parts. So gaussian intensity distribution could be changed to flat-top.

• 대한전자공학회:학술대회논문집
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• 대한전자공학회 2000년도 ITC-CSCC -2
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• pp.851-854
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• 2000

Digital halftoning is a technique to make an equivalent binary image from scanned photo or graphic images. Low pass filtering characteristic of human visual system can be applied to get the effect of spatial averaging of local area consisted of black and white pixels for gray image. The overlapping of black dot decreases brightness and black dot is very sensitive to human visual system in the bright region. In this paper, for gray-level expression, only bright gray region in the color image is considered for blue noise mask (BNM) approach. To solve this problem, BNM with CMY dot is used for the bright region instead of black dot. Dot-on-dot model with single mask causes the problem making much black dot overlap, color distortion. Therefore approach with three masks for C, M and Y each is proposed to decrease pixel overlap and color distortion.

• 대한전자공학회논문지
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• 제24권1호
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• pp.149-158
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• 1987

This paper describes the SEAS which is a 2-dimensional graphic editor for schematic circuit and IC mask layout. This system runs on general purpose computer and Tektronix 4110 series graphic terminal. With this system, user can edit schematic circuits and/or IC mask layout with 2 level hierarchy. This system supports more than 20 kinds of built-in symbol, user definable internal symbols, 60 macros, 16 function keys, 4 level on-screen menu operation and edit-in-place of cell in main drawing. And it provides editing functions such as reflection, rotation, move and copy of one or a group of elements, and modification of polygona geometry etc. To improve the excution speed, we used local memory of graphic terminal. For the portability of the program, the system is written in FORTRAN 77 programming language.