$0.1{\mu}m$ 급 dense 패턴 형성을 위한 사입사 조명 조건과 OPC 보조 패턴 크기의 최적 조건에 관한 연구
(Research on the optimization of off-axis illumination condition and sub-resolution pattern size for the $0.1{\mu}m$ rule dense pattern formation)
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- 한국광학회지
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- 제12권3호
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- pp.190-199
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- 2001