악교정수술에 관한 치료계획은 치료결과에 관한 정확한 예측을 바탕으로 수립되는 것이 바람직하며 이는 심미적인 결과를 얻기 위한 가장 중요한 요소 중에 하나이다. 성인에서 골격성 하악전돌증의 치료는 하악골후퇴술을 이용한 악교정수술법이 주로 이용되는데, 술후 턱끝의 돌출도가 과도하게 감소되어 하악전진이부성형술을 추가로 시행해야 하는 경우 하악골과 턱 부위의 연조직 변화방향이 상이하게 나타나므로 술후 연조직 변화를 정확히 예측하는데 한계가 있다. 본 연구에서는 골격성 하악전돌증을 주소로 악교정수술을 시행한 성인을 대상으로, 상행지시상분할골절단술(BSSRO)만을 시행한 경우(A군) 11명 과 하악전진이부성형술(advancement genioplasty)도 같이 시행한 경우(B군) 9명의 경조직과 연조직 변화의 상관관계를 알아보기 위하여, 수술 8개월 이후에 채득된 측모두부계측방사선사진을 비교하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. E-line에 대하여 상순은 더 돌출되고 하순은 더 후퇴되어 입술의 형태가 개선되었으며, 하악전진이부성형술을 병행한 경우 하순의 돌출도는 더 개선되었다. 2. 두 군 모두에서 상순은 후방이동하고 비순각은 증가하였다. 3. 술후 B점에 대한 연조직 POGs점의 변화율은 A군에서 $84\%$, B군에서 $66\%$로 나타났으며 두 군간에 통계적 유의성이 있었다. 4. 경조직과 계측점의 수직변화량은 A군에서 감소하였다.
교정 치료의 목표를 설정하는 데에 있어서 여성의 아름다운 측모에 관한 정확한 이해는 필수적인 요소이다. 본 연구에서는 치과교정의사 간에 심미안의 차이가 있는지를 조사하고, 치과교정의사에 의해 선호되는 여성의 심미적인 측모를 선정하여, 이들이 facial convexity의 정도에 따라 심미적인 측모를 구성하기 위한 특징적인 양상을 보이는지를 조사하고자 하였다. 먼저 교육적 배경이 다른 5명의 치과교정의사로 하여금 133명의 20대 여성의 측모 사진을 이용하여 선호도에 따라 심미적인 측모를 채점하도록 하였다. 심미적인 측모를 가졌다고 판정된 35명의 측모 두부 방사선 사진의 투사도를 작성하여 연조직 분석을 시행하였고, 이를 facial convexity의 정도에 따라 convex군(G-Sn-Pg${\geq}9^{\circ}$)과 straight 군(G-Sn-Pg<$9^{\circ}$)의 두 subgroup으로 세분화하였다. 심미적인 측모를 선정하는 데에 있어서의 객관성 여부를 조사하기 위하여 5명의 치과교정의사간의 심미안의 차이에 대한 동질성 검정을 시행하였는데 미의 기준이 주관적임에도 불구하고 치과교정의사간에 측모 선호 양상은 통계적으로 유의한 차이가 없었다(p<0.05). 안모 형태의 차이에 따라 세분된 두 subgroup간의 코의 전후 관계를 나타내는 N-Pg-Sn, N-Pg-Pn에서 통계적으로 유의한 차이를 보였고(p<0.05), nasolabial angle, labiomental angle, 그리고 수직적 분석 항목에서 통계적으로 유의한 차이가 없었으며(p<0.05), 상하순 돌출도를 분석한 결과에서 H-angle, Ls to E line, Li to E line, Pg to Sn perp.에서 통계적으로 유의한 차이를 보였으나 Sn-Pg line와 Sn perp. 에서부터의 거리에는 차이가 없었다(p
This paper presents a constrained-based routing (CBR) algorithm called, Dynamic Possible Path per Link (D-PPL) routing algorithm, for MultiProtocol Label Switching (MPLS) networks. In MPLS on-line routing, future traffics are unknown and network resource is limited. Therefore many routing algorithms such as Minimum Hop Algorithm (MHA), Widest Shortest Path (WSP), Dynamic Link Weight (DLW), Minimum Interference Routing Algorithm (MIRA), Profiled-Based Routing (PBR), Possible Path per Link (PPL) and Residual bandwidth integrated - Possible Path per Link (R-PPL) are proposed in order to improve network throughput and reduce rejection probability. MIRA is the first algorithm that introduces interference level avoidance between source-destination node pairs by integrating topology information or address of source-destination node pairs into the routing calculation. From its results, MIRA improves lower rejection probability performance. Nevertheless, MIRA suffer from its high routing complexity which could be considered as NP-Complete problem. In PBR, complexity of on-line routing is reduced comparing to those of MIRA, because link weights are off-line calculated by statistical profile of history traffics. However, because of dynamic of traffic nature, PBR maybe unsuitable for MPLS on-line routing. Also, both PPL and R-PPL routing algorithm we formerly proposed, are algorithms that achieve reduction of interference level among source-destination node pairs, rejection probability and routing complexity. Again, those previously proposed algorithms do not take into account the dynamic nature of traffic load. In fact, future traffics are unknown, but, amount of previous traffic over link can be measured. Therefore, this is the motivation of our proposed algorithm, the D-PPL. The D-PPL algorithm is improved based on the R-PPL routing algorithm by integrating traffic-per-link parameters. The parameters are periodically updated and are dynamically changed depended on current incoming traffic. The D-PPL tries to reserve residual bandwidth to service future request by avoid routing through those high traffic-per-link parameters. We have developed extensive MATLAB simulator to evaluate performance of the D-PPL. From simulation results, the D-PPL improves performance of MPLS on-line routing in terms of rejection probability and total throughput.
Hastelloy C-276, corrosion resistant alloy at high temperature, is used in chemical plant and power generation industry. In this study, process parameter of laser welding for welding property in Hastelloy C-276 using a continuous wave Nd:YAG laser was studied. As the result of experiment, laser welding did not show segregation or crack at heat affected zone compared to conventional GTWA welding. The melting zone showed cell dendritic structure along with welding line. In addition, planer front solidification is occurred from welding structure, and it was progressed to cellular solidification. Optimal process parameter for butt welding was 1.2kW and 2.0 m/min for laser power and welding speed, respectively. While heat input, output density, tensile stress, and longitudinal strain was $441.98{\times}103$ J/cm2, $29.553{\times}103$ W/cm2, 768 MPa, and 0.689, respectively. Lap welding of the same material showed greater discrepancy in tensile property during 1 line and 2 line welding. For 1 line welding, tensile stress was about 320 MPa, and 2 line showed slightly larger tensile stress. However, strain was decreased by 20%. From this result, lap welding of the same material, Hastelloy C-276, with 2 line welding is considered to be more effective process than 1 line welding with consideration of mechanical property.
Takeda, K.;Fukunaga, Y.;Tsutsumi, T.;Ishikawa, K.;Kondo, H.;Sekine, M.;Hori, M.
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.93-93
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2016
Large scale integrated circuits (LSIs) has been improved by the shrinkage of the circuit dimensions. The smaller chip sizes and increase in circuit density require the miniaturization of the line-width and space between metal interconnections. Therefore, an extreme precise control of the critical dimension and pattern profile is necessary to fabricate next generation nano-electronics devices. The pattern profile control of plasma etching with an accuracy of sub-nanometer must be achieved. To realize the etching process which achieves the problem, understanding of the etching mechanism and precise control of the process based on the real-time monitoring of internal plasma parameters such as etching species density, surface temperature of substrate, etc. are very important. For instance, it is known that the etched profiles of organic low dielectric (low-k) films are sensitive to the substrate temperature and density ratio of H and N atoms in the H2/N2 plasma [1]. In this study, we introduced a feedback control of actual substrate temperature and radical density ratio monitored in real time. And then the dependence of etch rates and profiles of organic films have been evaluated based on the substrate temperatures. In this study, organic low-k films were etched by a dual frequency capacitively coupled plasma employing the mixture of H2/N2 gases. A 100-MHz power was supplied to an upper electrode for plasma generation. The Si substrate was electrostatically chucked to a lower electrode biased by supplying a 2-MHz power. To investigate the effects of H and N radical on the etching profile of organic low-k films, absolute H and N atom densities were measured by vacuum ultraviolet absorption spectroscopy [2]. Moreover, using the optical fiber-type low-coherence interferometer [3], substrate temperature has been measured in real time during etching process. From the measurement results, the temperature raised rapidly just after plasma ignition and was gradually saturated. The temporal change of substrate temperature is a crucial issue to control of surface reactions of reactive species. Therefore, by the intervals of on-off of the plasma discharge, the substrate temperature was maintained within ${\pm}1.5^{\circ}C$ from the set value. As a result, the temperatures were kept within $3^{\circ}C$ during the etching process. Then, we etched organic films with line-and-space pattern using this system. The cross-sections of the organic films etched for 50 s with the substrate temperatures at $20^{\circ}C$ and $100^{\circ}C$ were observed by SEM. From the results, they were different in the sidewall profile. It suggests that the reactions on the sidewalls changed according to the substrate temperature. The precise substrate temperature control method with real-time temperature monitoring and intermittent plasma generation was suggested to contribute on realization of fine pattern etching.
To fabricate a metal mold for injection molding, hot-embossing and imprinting process, mechanical machining, electro discharge machining (EDM), electrochemical machining (ECM), laser process and wet etching ($FeCl_3$ process) have been widely used. However it is hard to get precise structure with these processes. Electrochemical etching has been also employed to fabricate a micro structure in metal mold. A through mask electrochemical micro machining (TMEMM) is one of the electrochemical etching processes which can obtain finely precise structure. In this process, many parameters such as current density, process time, temperature of electrolyte and distance between electrodes should be controlled. Therefore, it is difficult to predict the result because it has low reliability and reproducibility. To improve it, we investigated this process numerically and experimentally. To search the relation between processing parameters and the results, we used finite element simulation and the commercial finite element method (FEM) software ANSYS was used to analyze the electric field. In this study, it was supposed that the anodic dissolution process is predicted depending on the current density which is one of major parameters with finite element method. In experiment, we used stainless steel (SS304) substrate with various sized square and circular array patterns as an anode and copper (Cu) plate as a cathode. A mixture of $H_2SO_4$, $H_3PO_4$ and DIW was used as an electrolyte. After electrochemical etching process, we compared the results of experiment and simulation. As a result, we got the current distribution in the electrolyte and line profile of current density of the patterns from simulation. And etching profile and surface morphologies were characterized by 3D-profiler(${\mu}$-surf, Nanofocus, Germany) and FE-SEM(S-4800, Hitachi, Japan) measurement. From comparison of these data, it was confirmed that current distribution and line profile of the patterns from simulation are similar to surface morphology and etching profile of the sample from the process, respectively. Then we concluded that current density is more concentrated at the edge of pattern and the depth of etched area is proportional to current density.
측모의 연조직 분석 시 Subnasale는 중요한 기준점으로 사용되지만 이상적인 위치에 대한 평가한 연구는 드물다. 본 연구의 목적은 한국인 측모에서 Subnasale의 위치 변화에 따른 심미적 안모에 대한 객관적 기준을 제시 하는 것이며, 추가적으로 전문가 집단과 일반 대중 간의 안모 선호도 인식에 어떤 차이가 존재하는지 평가 하는 것이다. 이번 연구를 위해 채득한 20대 여성 사진 중에서 전문가에 의해 결정된 적절한 측면 안모 비율로 판단되는 1명의 측모 사진을 선정하였다. 선정된 사진은 비순각을 유지하며 진성 수직선에 수직한 평면상에서 Subnasale을 전, 후방으로 변화시켰다. 합성된 사진은 전문가 집단(교정의사 9명)과 일반 대중(126명)에게 제시되어 각각의 선호도를 VAS상에 표시하도록 하였다. 다음의 결론을 얻었다. 1. Subnasale의 이상적인 위치는 Lateral canthus~Subnasale : Subnasale~Pronasale가 1.769 : 1을 이룰 때 이다. 2. 각도상 Nasion을 통과하는 진성 수직선과 Subnasale가 $5.5^{\circ}$를 이룰 때 이다. 3. 전문가 집단은 모든 비율 변화를 인지하였으나, 일반 대중은 1.571 : 1과 1.769 : 1 사이의 변화를 인지하지 못하였다.
This study was designed to analyze morphological characteristics of Korean young adults, norms and standard deviation of variables, sexual differences, correlationship between each area of face and correlationship between hard tissue and soft tissue. The primary sample consisted of 45 males and 57 females who were early and middle twenties and had acceptable profile, no history of previous orthodontic treatment, absence of remarkably large overjet and overbite, full complement of permanent teeth, Class I skeletal and dental relationships and good vertical facial proportions. Their cephalograms were analyzed morphologically with a computer morphometrics. Then the final sample - 25 males and 38 females - were selected within 1 S.D. of E-line, ANB, P/A facial height ratio, Interincisal angle, L1 to A-Pog, ODI and APDI. The results of the study were as follows: 1 In the form and proportion of facial skeleton there were no significant differences between males and females, but in the size males were larger than females. 2. The dental protrusion patterns had no significant sexual difference and no significant correlationship between protrusion of upper lip and inclination of upper incisor. But mentolabial angle had positively correlated with interincisal angle and negatively with inclination of upper and lower incisor. 3. In the relationship between nose and soft-tissue profile, males were larger than females in nasal length, height and angular measurements. 4. In analysis of soft-tissue profile, males were larger than females in the length and thickness. In the angular measurements and proportion of soft-tissue profile, there were no significant differences between males and females.
Symbiotic stars are known as binary systems of a giant with heavy mass loss and a white dwarf accompanied by an emission nebula. They often show bipolar nebulae, and are believed to form an accretion disk around the white dwarf component by attracting the slow but heavy stellar wind around the giant companion. However, the existence and physical properties of the accretion disk in these systems still remain controversial. Unique to the spectra of symbiotic stars is the existence of the symbiotic bands around $6830{\AA}$ and $7088{\AA}$, which have been identified by Schmid (1989) as the Raman scattered features of the O VI $1032{\AA}$ and $1038{\AA}$ doublet by atomic hydrogen. Due to the incoherency of the Raman scattering, these features have very broad profiles and they are also strongly polarized. In the accretion disk emission model, it is expected that the Raman features are polarized perpendicular to the binary axis and show multiple peak structures in the profile, because the neutral scatterers located near the giant component views the accretion disk in the edge-on direction. Assuming the presence of scattering regions outflowing in the polar directions, we may explain the additional red wing or red peak structure, which is polarized parallel to the binary axis. We argue that in the accretion disk emission model it is predicted that the profile of the Raman feature around $6830{\AA}$ is different from the profile of the $7088{\AA}$ because the O VI line optical depth varies locally around the white dwarf component. We conclude that the Raman scattered features are an important tool to investigate the physical conditions and geometrical configuration of the accretion disk in a symbiotic star.
함초추출물을 산란계에 급여하여 난생산성, 난품질 및 혈액의 성상에 미치는 영향을 구명하고자 총 216수의 40주령 하이라인 브라운 산란계를 10주간 공시하였다. 함초추출물의 급여수준은 0(대조구), 1cc/L(T1) 및 5cc/L(T2)로 음수로 급여하였으며, 공시계는 처리구당 3반복, 반복당 24수씩 배치하였다. 사양시험의 결과, 함초추출물은 산란계의 난생산성, 난품질 및 혈액의 특성에 부정적인 영향을 미치지 않았으며, 시험 마지막 주의 산란율과 난각 두께를 개선시켰고, 파란율은 유의하게 감소시켰다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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