• 제목/요약/키워드: Langasite

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Growth of $La_{3}Ga_{5}SiO_{14}$ single crystals by the floating zone method

  • Won Ki Yoon;Jong Cheol Kim;Keun Ho Auh
    • 한국결정성장학회지
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    • 제9권6호
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    • pp.547-552
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    • 1999
  • Langasite$(La_{3}Ga_{5}SiO_{14})$ single crystal was successfully grown by Floating Zone (FZ) method and characterized. The growth rate was 1.5 mm/h and the rotation speed was 15 rpm for an upper rotation and 13 rpm for a lower rotation. The grown crystal was 12 mm in length and 6 mm in diameter. The grown crystal was dark orange color and it was grown along [001] direction. The composition of grown crystal and the structure were analyzed using XRD and WDS. The electrical properties of grown crystal at various frequencies and temperatures were discussed.

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광대역 고온용 SAW filter 소자용 $La_3Ga_5SiO_{14}$ 단결정의 고밀도 플라즈마 식각 (High density plasma etching of single crystalline $La_3Ga_5SiO_{14}$ for wide band high temperature SAW filter devices)

  • 조현
    • 한국결정성장학회지
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    • 제15권6호
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    • pp.234-238
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    • 2005
  • [ $Cl_2/Ar$ ] 유도결합 플라즈마(ICP)내의 플라즈마 조성, 이온 flux 및 이온 에너지가 $La_3Ga_5SiO_{14}$ 단결정 wafer의 식각속도, 표면 양상 및 화학량론적 조성에 미치는 영향을 조사하였다. 비교적 높은 ICP source power$({\sim}1000W)$ 또는 높은 $Cl_2$ gas 유량 비율 조건으로부터 최고 약 $1600{\AA}/min$의 실용적이고 조절이 용이한 식각속도를 확보하였다. 식각된 $La_3Ga_5SiO_{14}$ 표면은 식각 이전과 비슷하거나 더 낮은 표면 조도 특성을 나타내었으며 식각 공정 전, 후 표면의 화학량론적 조성에 있어서의 변화는 없는 것으로 조사되었다.