• 제목/요약/키워드: LaAlO3

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La-$\beta$-Aluminate의 형성이 $\alpha$-Alumina의 기계적 성질에 미치는 영향 (Formation of La-$\beta$-Aluminate in $\alpha$-Alumina Matrix and Its Influence on Mechanical Properties)

  • 강석원;고재웅;김해두
    • 한국세라믹학회지
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    • 제29권1호
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    • pp.23-28
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    • 1992
  • Alumina ceramics was reinforced by in-situ formation of La-${\beta}$-aluminate in ${\alpha}$-alumina matrix. The powder mixture of which composition is (100-12x)Al2O3+x(La2O3+11Al2O3) was prepared for the formation of La-${\beta}$-aluminate in ${\alpha}$-alumina matrix. The amount of La-${\beta}$-aluminate in the matrix was controlled by varing x which is number of moles. The dense composite was produced by sintering at 1600$^{\circ}C$ in air or hot-pressing at 1550$^{\circ}C$ under 30 MPa. Bending strength and fracture toughness were increased, resulting from the grain growth inhibition and the crack deflection and crack bridging mechanism when La-${\beta}$-aluminate was produced in ${\alpha}$-alumina matrix.

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La 및 Si 첨가에 의한 알루미나의 열안정화 효과 (Effect of La and Si Addition on Thermal Stabilization of Alumina)

  • 이채현;임대영;김종옥;서두원;한문희
    • 공학논문집
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    • 제3권1호
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    • pp.215-222
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    • 1998
  • 촉매 연소용 촉매 담체인 $\gamma-Al_2O_3$ 분말의 열안정화에 미치는 La과 Si의 첨가 효과에 대하여 연구하였다. 첨가제의 첨가는 습식 impregnation방법으로 행하였고, 출발 물질은 $La(NO_3)_3{\cdot}6H_2O$$Si(OC_2H_5)_4$를 사용하였다. 열안정화 효과는 혼합분말을 고온에서 열처리 한 후 비표면적을 측정하여 고찰하였다. 첨가제로 첨가한 La과Si는 모두 순수한 $\gamma-Al_2O_3$분말에 비하여 소결을 억제함으로써 열 안정화 효과가 있음이 확인되었으며, 특히 Si 첨가한 경우에는 $\alpha-Al_2O_3$의 생성을 현저히 억제한다는 것을 확인하였다. 이들 첨가제에 의한 열안정화 효과는 첨가제에 의한 새로운 상의 생성과 표면 확산의 억제등이 주된 요인으로 판단되었다.

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A Study on the Electrical Properties of Al2O3/La2O3/Al2O3 Multi-Stacked Films Using Tunnel Oxide Annealed at Various Temperatures

  • Kim, Hyo-June;Cha, Seung-Yong;Choi, Doo-Jin
    • 한국세라믹학회지
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    • 제46권4호
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    • pp.436-440
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    • 2009
  • The structural and electrical properties of $Al_2O_3/La_2O_3/Al_2O_3$ (ALA) films using a tunnel oxide annealed at various temperatures were investigated. The program/erase properties of the ALA films using the tunnel oxide annealed at $600^{\circ}C$ were superior to others. The program/erase voltage and time of the ALA films using the tunnel oxide annealed at $600^{\circ}C$ were 11 V for 10 ms (program) and -11 V for 100 ms (erase), respectively, and the corresponding memory window was about 1.59 V. In the retention test, the $V_{th}$ distributions of all films were not changed up to about $10^4$ cycles. In this study, all data showed sufficient characteristics to be used in flash memory devices.

La2O3-CaF2-Al2O3-SiO2 계 oxy-fluoride 결정화 유리의 광 발광 특성 (Photoluminescence properties of oxy-fluoride glass-ceramics of La2O3-CaF2-Al2O3-SiO2 system)

  • 하태완;강승구
    • 한국결정성장학회지
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    • 제31권2호
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    • pp.84-88
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    • 2021
  • 레이저, 광학센서 등에 사용되고 있는 La2O3-CaF2-Al2O3-SiO2 계 유리에 희토류 물질을 첨가하였을 때, 열처리 온도에 따른 결정화유리의 발광 특성 변화에 대하여 연구하였다. 결정화유리를 얻기 위한 열처리 조건은 비등온 열분석을 통해 얻었으며, 열처리 온도에 따른 결정성장 정도 및 생성된 결정상 종류를 파악하기 위해 XRD 분석을 진행하였다. Scherrer's equation을 이용한 결과, 결정화유리 내부에 25~40 nm 크기의 결정들이 생성된 것으로 계산되었다. Photoluminescence (PL) 분석결과, 660~670℃에서 1시간 열처리 된 시편이 가장 우수한 PL 강도를 보였으며, CIE 색좌표계 분석결과, 열처리 유무와 관계없이 모든 결정화유리 시편들은 red-orange 빛을 발광하는 것으로 나타났다.

(La,Sr)CoO₃/Pb(Zr,Ti)O₃/(La,Sr)CoO₃박막 캐패시터의 비대칭성의 전극 의존성 (Electrode Dependence of Asymmetric Behavior of (La,Sr)CoO₃/Pb(Zr,Ti)O₃/(La,Sr)CoO₃ Thin Film Capacitors)

  • 최치홍;이재찬;박배호;노태원
    • 한국세라믹학회지
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    • 제35권7호
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    • pp.647-647
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    • 1998
  • 비대칭적인 전극 구조를 가지는 Pb(Zr,Ti)$O_3$(PZT) 박막의 비대칭적인 스위칭 특성을 연구하기 위해 Pulsed Laser Deposituin(PLD)방법으로 $LaAlO_3$ 기판 위에 (La,Sr)$CoO_3$/Pb(Zr,Ti)$O_3$/(La,Sr)$CoO_3$(LSCO) 다층구조를 성장시켰다. PZT 박막 캐시터의 전극이 모두 같은 조성일 때, 즉 $(La_0.5Sr_0.5)CoO_3$(LSCO)일 때 PZT 박막의 이력곡선은 대칭성을 보여주고 있다. 그러나 산화물 전극의 조성이 변할 때 PZT 박막 캐패시터는 비대칭성을 보여주고 있다. $LaCoO_3(LCO)$를 상층 전극, $La_0.5,Sr_0.5)CoO_3$(LSCO)를 하층 전극으로 사용하였을 때 이력 곡선은 음의 방향으로 분극된 상태가 불안정 하여 음의 잔류 분극의 완화 현상을 보여준다. 반면 상층 전극이 LSCO, 하층 전극이 LCO인 PZT 박막 캐패시터는 양의 방향의 분극 상태가 불안정하여 양의 잔류 분극이 완화현상을 보여준다. 이러한 이력 곡선의 완화 현상은 LCO/PZT 계면에서의 전자 밴드 구조의 변형에 의한 내부 전계의 형성 때문이라 생각할 수 있다. 내부 전계는 LCO/PZT와 LSCO/PZT 계면에서의 전자 밴드 구조의 변형에 의한 내부 전계의 형성 때문이라 생각할 수 있다.내부 전계는 LCO/PZT 계면에서의 인가된 전압 강하 차이에 의해 발생되며 전압 강하는 각각의 계면에서 0.6V와 -0.12V의 크기를 갖는다.

Effect of Substrates on Structural and Electrical Properties of Chemical Solution Derived LaNiO3 thin Films

  • Lee, Hyung-Min;Hwang, Kyu-Seog;Lee, Kyong-Moo;Kim, Byung-Hoon
    • The Korean Journal of Ceramics
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    • 제4권3호
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    • pp.231-234
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    • 1998
  • LaNiO3 thin films were fabricated on various substrates by spin-coating technique using metal naphthenates as starting materials. Highly-oriented LaNiO3 films with smooth and crack-free surfaces were grown on SrTiO3 (100) and LaAlO3(100) substrates, while films on MgO(100) and Si(100) substrates showed random orientation. In this study, we concluded that lattice-mismatches between LaNiO3 films and substrates used affect film's properties.

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