We propose a patterning method of liquid crystal (LC) alignment layer for producing multi-domain LC structures. By controlling thermal conditions during micro-contact printing procedures and facilitating wetting properties of patterning materials, patterned LC orientation can be easily obtained on a bare ITO surface or other polymer films. The newly proposed patterning method is expected to be a very useful tool for fabricating multi-domain LC structures to enhance or design electro-optic properties of LC-based devices.
Photoalignment materials of PGMAcr, poly[3-(acryloyloxy)-2-hydroxypropyl methacrylate] using an acrylate unit photopolymerized by a photo-initiator and PGMA4Ch, poly[3- (4-ehalconyloxy)-2-hydroxypropyl methacrylate] using photodimerization by the chalcone group were synthesized. Also, the liquid crystal (LC) alignment capabilities on the photopolymer layers were studied. A good LC alignment with UV exposure on the PGMAcr surface can be obtained. However, LC alignment defects were observed on the PGMA4Ch surface. The LC alignment capability of the PGMAcr surface by the photoinitiator was better than that of the PGMA4Ch surface by the chalcone group which is a photosensitive moiety.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.398-398
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2007
The Liquid Crystal (LC) alignment uniformity is very important in LC devices. The alignment mechanism of LC molecules on a rubbed polyimide (PI) surface is very important for both LC fundamental research and application. So, Generally a rubbing method to align LC has been widely used to mass-produce LCD panels. But because rubbing method is contact method between rubbing fabric and indium-tin-oxide glass or flexible substrate, rubbing method has some defects, such as the electrode charges and the creation of contaminating particles. Thus we strongly recommend a non-contact alignment technique for getting rid of some defects of rubbing method. Most recently, the LC aligning capabilities achieved by ion-beam exposure on the organic and nonorganic thin film surface have been reported successfully. In this research, we studied the tilt angle generation and electro-optical performances for a NLC on homeotropic polyimide surfaces with ion-beam exposure. The LC aligning capabilities of a nematic liquid crystal (NLC) on a homeotropic PI surface using a new ion-beam method were studied. On the homeotropic PI surface, the tilt angle of the NLC by exposure ion-beam had a tendency to decrease as increased ion-beam energy density. And, on the homeotropic PI surface, the alignment character of the NLC with respect to ion-beam energy was good. And we achieved satisfactory result for EO character.
Jo, Yong-Min;Hwang, Jeoung-Yeon;Park, Chang-Joon;Seo, Dae-Shik;Rho, Soon-Jun;Ahn, Han-Jin;Baik, Hong-Koo
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2003.04a
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pp.136-139
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2003
We studied the nematic liquid crystal (NLC) aligning capabilities using the new alignment material of a-C:H thin film as working gas at 30W rf bias condition. A high pretilt angle of about $5^{\circ}$ by ion beam(IB) exposure on the a-C:H thin film surface was measured. A good LC alignment by the IB alignment method on the a-C:H thin film surface was observed at annealing temperature of $250^{\circ}C$, and the alignment defect of the NLC was observed above annealing temperature of $300^{\circ}C$. Consequently, the high LC pretilt angle and the good thermal stability of LC alignment by the IB alignment method on the a-C:H thin film surface as working gas at 30W rf bias condition can be achieved.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.13
no.1
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pp.75-79
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2000
In this study, we investigated the pretilt angle generation and liquid crystal (LC) alignment by ultravi-olet (UV) light irradiation during imidization of polymide. The generated pretilt angle of nematic (N) LC by using the in-situ photo-alignment method was smaller than that of the conventional UV photo-alignment method. Also, generated pretilt angle of NLC tends to increase by annealing. In case of using the polymer(AL-3046), we found that the in-situ Uv photo-alignment method has higher thermal stability of LC alignment, but it has a disadvantage to control pretilt angle.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.8
no.6
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pp.274-277
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2007
In this study, liquid crystal(LC) aligning capabilities for homeotropic alignment on the $SiO_x$ thin film by electron beam evaporation method were investigated. Also, the control of pretilt angles and thermal stabilities of the nematic liquid crystal(NLC) treated on $SiO_x$ thin film were investigated. A high pretilt angle of about $86.5^{\circ}$ was obtained, and also the suitable pretilt angle of the NLC on the $SiO_x$ thin film at $10{\sim}50nm$ thickness with e-beam evaporation can be achieved. The uniform LC alignment and good thermal stabilities on the $SiO_x$ thin film surfaces with electron beam evaporation can be achieved. It is considered that the LC alignment on the $SiO_x$ thin film by electron beam evaporation is attributed to elastic interaction between LC molecules and micro-grooves at the $SiO_x$ thin film surface created by evaporation.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.399-399
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2007
Recently, it is widely studied to liquid crystal (LC) alignment using ion-beam exposure. Because conventional rubbing method has some problems such as defects from dust and electrostatic charges during rubbing process. Therefore rubbing-free techniques like ion-beam method are strongly required. We studied LC alignment by controlling ion-beam energy density and electro-optical (EO) characteristics of twisted nematic LC on the polyimide surface. In this experiment, a good uniform alignment of the nematic liquid crystal (NLC) with the ion-beam exposure on the polyimide (PI) surface was observed. In addition, it can be achieved the good EO properties of the ion-beam-aligned twisted nematic liquid crystal display (TN-LCD) on PI surface.
Jo, Yong-Min;Hwang, Jeoung-Yeon;Hahn, Eun-Joo;Paek, Seung-Kwon;Seo, Dae-Shik
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.11a
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pp.526-529
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2002
We studied the nematic liquid crystal (NLC) aligning capabilities by the UV alignment method on a diamond like carbon (DLC) thin film surface. A good LC alignment by UV exposure on the DLC thin film surface at $200\AA$ of layer thickness was achieved. Also, a good LC alignment by the UV alignment method on the DLC thin film surface was observed at annealing temperature of $180^{\circ}C$. However, the alignment defect of the NLC was observed above annealing temperature of $200^{\circ}C$. Consequently, the good thermal stability of LC alignment by the UV alignment method on the DLC thin film surface can be achieved.
In this paper, we developed the new non-rubbing liquid crystal (LC) alignment techniques in the cell with slanted non-polarized ultraviolet (UV) light irradiation on polyimide (PI) film. It is shown that the uniform alignment for nematic (N) LC is obtained by using slanted non-polarized UV light irradiation on PI surface. We successfully obtained that the pretilt angle of NLC is generated about 3.3 degree in the cell with slanted non-polarized UV light irradiation with 70 degree on PI surface, for the first time. It is considered that the pretilt angle generation in NLC is attributed to interaction between the LC molecular and the PI, which is broken the polymer by slanted non-polarized UV irradiation. Therefore, we concluded that the uniform LC alignment is attributed to anisotropic dispersion force due to photo depolymerization with slanted non-polarized UV light irradiation on PI surface.
Kim, Young-Hwan;Kim, Byoung-Yong;Oh, Byoung-Yun;Kang, Dong-Hun;Park, Hong-Gyu;Lee, Kang-Min;Seo, Dae-Shik
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.431-431
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2007
In this paper, the LC alignment characteristics of the NDLC thin film deposited by PECVD and sputtering were reported respectively. The NDLC thin film deposited using sputter showed uniform LC alignment at the 1200 eV of the ion beam intensity and pretilt angle was about $2^{\circ}$ while the NDLC thin film deposited using the PECVD showed uniform LC alignment and high pretilt angle at the 1800 eV of the ion beam intensity. Concerning the ion beam intensity, uniform LC alignment of the NDLC thin film deposited by the sputtering was achieved at the lower intensity. And the pretilt angle of the NDLC thin film deposited by sputter was higher than those of NDLC thin film that was deposited using the PECVD. The uppermost of the thermal stability of NDLC thin film was $200^{\circ}C$, respectively. However, NDLC thin film deposited by the PECVD showed stability at high temperature without defects, compared to NDLC thin film deposited by the sputter.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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