• Title/Summary/Keyword: Junction

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EFFECT OF Zr-DOPED Al-OXIDE BARRIER ON THE TUNNEL MAGNETORESISTANCE BEHAVIOR

  • Choi, C.M.;Kim, Y.K.;Lee, S.R.
    • 한국자기학회:학술대회 개요집
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    • 한국자기학회 2002년도 동계연구발표회 논문개요집
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    • pp.60-61
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    • 2002
  • 현재 Magnetic Tunnel Junction는 고밀도 자기저항 헤드 및 비휘발성 메모리(MRAM)등의 자기저항 특성을 이용한 소자에 응용하기 위해 많은 연구가 진행되고 있다[1]. 하지만 Magnetic Tunnel Junction(MTJ)을 실제 소자로서 제작하여 사용하기 위해서는 smooth하고 pinhole이 없으며, 절연층 내부에 disorder나 defect가 없는 절연층을 형성해야 한다. (중략)

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다중 적층형 박막 실리콘 태양 전지의 터널 접합 특성 연구 (The Study of the Tunnel Recombination Junction Properties in Multi-Junction Thin Film Silicon Solar Cells)

  • 황선태;심현자;정진원;안세원;이헌민
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2010년도 춘계학술대회 초록집
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    • pp.62.2-62.2
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    • 2010
  • 박막 실리콘 태양 전지는 저가격화 및 대량생산, 대면적화에 유리하다는 장점을 가지고 있다. 단점으로 지적되는 낮은 효율을 극복하기 위해 광흡수층의 밴드갭이 서로 다른 두 개 이상의 박막을 적층하여, 넓은 파장 대역의 빛을 효과적으로 흡수함으로써 광변환 효율을 올리기 위한 많은 연구가 이루어지고 있다. 서로 다른 밴드갭의 광흡수층을 가진 p-i-n 구조를 다중 적층하여 고효율의 태양 전지를 제작하기 위해서는 n-도핑층과, p-도핑층 간에 전자와 정공이 빠르게 재결합할 수 있는 터널 접합(Tunnel Recombination Junction)의 형성이 필수적이며, 이때 광손실이 최소화되도록 해야한다. 만약 터널 접합이 적절하게 형성되지 않으면 결합되지 않은 전자와 정공이 도핑층 사이에 쌓이게 되고, 도핑층 사이의 저항 증가로 태양 전지의 광변환 효율은 크게 하락한다. 이번 연구에서는 터널 접합이 잘 이루어지게 하기 위한 n-도핑층 및 p-도핑층 박막의 특성과, 터널 접합의 특성에 따른 적층형 태양 전지의 광효율 변화를 확인하였다. 광흡수층 및 도핑층은 TCO($SnO_2:F$, Asahi) 유리 기판 위에 PECVD를 사용하여 p-i-n 구조로 RF Power 조건에서 증착되었고, ${\mu}c$-Si 광흡수층의 경우에는 VHF Power 조건에서 증착되었다. 광흡수층이 a-Si/${\mu}c$-Si의 구조를 가지는 이중 접합 태양 전지에서 ${\mu}c$-Si n-도핑층/${\mu}c$-Si p-도핑층 사이의 터널 접합 실험 결과 n-도핑층 및 p-도핑층의 결정화도와 도핑 농도를 조절하여 터널 접합의 저항을 최소화했고, 터널 접합 특성이 이중 접합 셀의 광효율 특성과 유사한 경향을 보임을 확인하였다. 광흡수층이 a-Si/a-SiGe/${\mu}c$-Si의 구조를 가지는 삼중 접합 태양 전지 실험의 경우 a-Si과 a-SiGe 광흡수층 사이에 ${\mu}c$-Si n-도핑층/${\mu}c$-Si p-도핑층/a-SiC p-도핑층의 구조를 적용하여 터널 접합을 형성하였으며, ${\mu}c$-Si p-도핑층의 두께 및 박막 특성을 개선하여 광손실이 최소화된 터널 접합을 구현하였고, 삼중 접합 태양 전지에 적용되었다.

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저전압 UHF TV 튜너용 바렉터 다이오드의 제작 및 특성 (Fabrication and Characteristics of a Varactor Diode for UHF TV Tuner Operated within Low Tuning Voltage)

  • 김현식;문영순;손원호;최시영
    • 센서학회지
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    • 제23권3호
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    • pp.185-191
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    • 2014
  • The width of depletion region in a varactor diode can be modulated by varying a reverse bias voltage. Thus, the preferred characteristics of depletion capacitance can obtained by the change in the width of depletion region so that it can select only the desirable frequencies. In this paper, the TV tuner varactor diode fabricated by hyper-abrupt profile control technique is presented. This diode can be operated within 3.3 V of driving voltage with capability of UHF band tuning. To form the hyperabrupt profile, firstly, p+ high concentration shallow junction with $0.2{\mu}m$ of junction depth and $1E+20ions/cm^3$ of surface concentration was formed using $BF_2$ implantation source. Simulation results optimized important factors such as epitaxial thickness and dose quality, diffusion time of n+ layer. To form steep hyper-abrupt profile, Formed n+ profile implanted the $PH_3$ source at Si(100) n-type epitaxial layer that has resistivity of $1.4{\Omega}cm$ and thickness of $2.4{\mu}m$ using p+ high concentration Shallow junction. Aluminum containing to 1% of Si was used as a electrode metal. Area of electrode was $30,200{\mu}m^2$. The C-V and Q-V electric characteristics were investigated by using impedance Analyzer (HP4291B). By controlling of concentration profile by n+ dosage at p+ high concentration shallow junction, the device with maximum $L_F$ at -1.5 V and 21.5~3.47 pF at 0.3~3.3 V was fabricated. We got the appropriate device in driving voltage 3.3 V having hyper-abrupt junction that profile order (m factor) is about -3/2. The deviation of capacitance by hyper-abrupt junction with C0.3 V of initial capacitance is due to the deviation of thermal process, ion implantation and diffusion. The deviation of initial capacitance at 0.3 V can be reduced by control of thermal process tolerance using RTP on wafer.

실리콘-게르마늄 이종접합 바이폴라 트랜지스터의 신뢰성 현상 (The reliability physics of SiGe hetero-junction bipolar transistors)

  • 이승윤;박찬우;김상훈;이상흥;강진영;조경익
    • 한국진공학회지
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    • 제12권4호
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    • pp.239-250
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    • 2003
  • 실리콘-게르마늄 이종접합 바이폴라 트랜지스터 (SiGe HBT)에서 발생하는 신뢰성 열화 현상을 고찰하였다. SiGe HBT의 경우에 전류이득 감소, AC특성 저하, 오프셋 전압이 자주 관찰되는데 그 원인으로는 각각 에미터-베이스 역 바이어스 전압 스트레스, 과도촉진확산 (transient enhanced diffusion), 공정 변동 (fluctuation)에 따른 베이스-콜렉터 접합 특성 저하를 들 수 있다. 에미터-베이스 접합에 역 바이어스 전압 스트레스가 걸리면 에미터-베이스 접합면의 테두리 부분에서 높은 에너지를 가지는 전자와 정공들이 생성되고, 이들 전자와 정공들이 실리콘-산화막 계면 및 산화막 내부에 전하를 띈 트랩을 생성하기 때문에 재결합에 의한 베이스 누설전류가 증가하여 소자의 전류이득은 크게 감소하게 된다. 에미터-베이스 접합과 외부 베이스의 거리가 임계 값보다 짧을 때에는 소자의 차단주파수($f_t$)가 감소하게 되는데 이것은 외부 베이스 이온주입에 의하여 내부 베이스 내의 도펀트의 확산이 촉진되어 나타나는 현상이다. 외부 베이스 이온주입 에너지가 충분하지 않은 경우에는 콜렉터-베이스 접합의 턴온 전압이 감소하여 전류-전압 특성 곡선에서 오프셋 전압이 발생하게 된다.

재발성 뇌실내출혈을 일으킨 경연수접합부 동정맥기형 - 증례보고 - (Cervicomedullary Junction AVM Presenting Recurrent Intraventricular Hemorrhage - A Case Report -)

  • 이상원;최창화;차승헌;박동준;송근성;이영우
    • Journal of Korean Neurosurgical Society
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    • 제30권6호
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    • pp.781-785
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    • 2001
  • Cervicomedullary junction arteriovenous malformation(AVM) is extremely rare. The authors present a case of a cervicomedullary junction AVM in a 31-year-old woman presenting with recurrent intraventricular hemorrhage (IVH). Magnetic resonance imaging revealed the AVM(of a size of approximately $2{\times}2.5{\times}4cm$) extending from a lower medulla to C2-3 level. Vertebral angiography demonstrated a tightly coiled vascular mass with multiple feeders (radiculomedullary arteries) and irregular-shaped aneurysm at distal part of feeder originating at right C-1 level. The patient underwent superselective embolization of upper nidus and the aneurysm. The pertinent literature is reviewed, and diagnostic and therapeutic implications are discussed.

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단열교차점에서 유체간섭에 관한 수치적 고찰 (Numerical Analysis of Flow Interference at Discontinuity Junction of fracture Network)

  • 박영진;이강근;이승구
    • 대한지하수환경학회지
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    • 제4권3호
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    • pp.111-115
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    • 1997
  • 파쇄매질에서 불규칙한 양상의 유체유동과 용질이동의 모의를 위하여 연속체 모델을 대체하는 분리단열망 모델의 이용이 확산되고 있다. 분리단열망 모델은 단열내 유량이 단열 간극의 삼승에 비례한다는 삼승법칙과 매질이 이러한 단열의 통계적 조합으로 구성된다는 가정에 바탕을 두고 있다. 본 연구는 단열교차점에서 삼승법칙의 유효성이 유지될 수 있는가를 평가하기 위하여 경계좌표계 변환법을 이용하여 단열간 교차각과 단열에서 유량분포의 관계를 분석하였다. 단열 교차각의 변화에 따른 유선의 분포에 대한 분석을 통하여 단열의 기하학적 형태가 단열의 유량분포에 영향을 미침을 확인하였다. 따라서, 삼승법칙에 대한 엄밀한 수치적 실험적 검증이 필요하다.

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Surgical Treatment of Gastroesophageal Junction Cancer

  • Hashimoto, Tadayoshi;Kurokawa, Yukinori;Mori, Masaki;Doki, Yuichiro
    • Journal of Gastric Cancer
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    • 제18권3호
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    • pp.209-217
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    • 2018
  • Although the incidence of gastroesophageal junction (GEJ) adenocarcinoma has been increasing worldwide, no standardized surgical strategy for its treatment has been established. This study aimed to provide an update on the surgical treatment of GEJ adenocarcinoma by reviewing previous reports and propose recommended surgical approaches. The Siewert classification is widely used for determining which surgical procedure is used, because previous studies have shown that the pattern of lymph node (LN) metastasis depends on tumor location. In terms of surgical approaches for GEJ adenocarcinoma, a consensus was reached based on two randomized controlled trials. Siewert types I and III are treated as esophageal cancer and gastric cancer, respectively. Although no consensus has been reached regarding the treatment of Siewert type II, several retrospective studies suggested that the optimal treatment strategy includes paraaortic LN dissection. Against this background, a Japanese nationwide prospective trial is being conducted to determine the proportion of LN metastasis in GEJ cancers and to identify the optimal extent of LN dissection in each type.