Effect of Annealing Conditions on $Ta_2$ $O_5$ Thin Films Deposited By PECVD System
(열처리 조건이 PECVD 방식으로 증착된 $Ta_2$ $O_5$ 박막 특성에 미치는 영향)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics A
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- v.30A no.8
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- pp.34-41
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- 1993