두께가 약 3 nm 인 게이트 산화막을 갖는 P 및 NMOSFET를 제조하여 높은 압력 (5 atm.)의 중수소 및 수소 분위기에서 후속 열처리를 각각 행하여 중수소 효과(동위원소 효과)를 관찰하였다. 소자에 대한 스트레스는 -2.5V ≤ V/sub g/ ≤-4.0V 범위에서 100℃의 온도를 유지하며 진행되었다. 낮은 스트레스 전압에서는 실리콘 계면에 존재하는 정공에 의하여 게이트 산화막의 열화가 진행되었다. 그러나 스트레스 전압을 증가시킴으로써 높은 에너지를 갖는 전자에 의한 계면 결함 생성이 열화의 직접적인 원인이 됨을 알 수 있었다. 본 실험조건에서는 실리콘 계면에서 phonon 산란이 많이 발생하여 impact ionization에 의한 "hot" 정공의 생성은 무시할 수 있었다. 중수소 열처리를 행함으로써 수소 열처리에 비해 소자의 파라미터 변화가 적었으며, 게이트 산화막의 누설전류도 억제됨이 확인되었다. 이러한 결과로부터 impact ionization이 발생되지 않을 정도의 낮은 스트레스 전압동안 발생하는 게이트 산화막내 결함 생성은 수소 결합과 직접적인 관계가 있음을 확인하였다.
Aluminum and hydrogen doped zinc oxide (AZHO) films were prepared by r.f. magnetron sputtering. The structural, electrical, and optical properties of the AHZO films were investigated in terms of the annealing conditions to study the thermal stability. The XRD measurements revealed that the degree of c-axis orientation was decreased and the crystallintiy of the films was deteriorated by the heat treatment. The electrical resistivity was significantly increased when the films were annealed at higher temperature. Although the optical transmittance of AHZO films didn't highly changed by heat treatment, the optical band gap was reduced, regardless of annealing temperature and duration. The thermal stability of AHZO films was worse compared to AZO films.
A large area impurity doping method for poly-Si TFT LCD has been developed. The advantage of this method is the doping of impurities into Si over a large area without mass separation and beam scanning. Phosphorus diluted in hydrogen was discharged by RF(13.56MHz) power and ions from discharged gas were accelerated by DC acceleration voltage and were implanted into deposited Si films. The annealing characteristic of this method was similar to that of the ion implantation method in the low doping concentration. Three mechanisms were evolved in the annealing characteristics of phosphorus doped Si films. Point defects annihilation and the retrogradation of dopant atoms at grain boundaries as a result of grain growth played a major role at low and high annealing temperature, respectively. However, due to the dopant segregation, the reverse annealing range existed at intermediate annealing temperature.
Liu, Liufa;Tanaka, Katsumi;Hirose, Akio;Kobayashi, Kojiro F.
대한용접접합학회:학술대회논문집
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대한용접접합학회 2002년도 Proceedings of the International Welding/Joining Conference-Korea
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pp.570-576
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2002
Application of the aged Inconel 718 in hydrogen environment is seriously restraint by its high hydrogen embrittlement (HE) sensitivity. m previous researches, we have suggested the possibility and applicability of the laser surface annealing (LSA) process in improving the HE resistance of this alloy. Sequentially, a study on the effects of the precipitates in the Inconel 718 on its HE sensitivity was conducted in this research. Firstly, flat bar specimens were heat-treated to obtain various kinds of precipitation microstructures concerning the ${\gamma}$" phase and the 6 phase. Hydrogen was charged into the specimen by a cathodic charging process. The loss in reduction of area (RA) caused by hydrogen charging was used to assess the HE sensitivity. The HE sensitivity of the alloy was lowered with decreasing the volume fraction of ${\gamma}$". Moreover, it was possible to increase the HE resistance of the aged alloy by dissolving the $\delta$ phase, keeping the strength at the same level as that of the common aged alloy. Thus, we concluded that both the $\delta$ phase and the ${\gamma}$" phase affected the HE sensitivity of Inconel 718. Next, two kinds of notch tensile specimens were fabricated, one kind having $\delta$ phase and the other having no $\delta$ phase. All these specimens were aged via the same aging heat treatment process. The LSA process annealed a thin layer of the notch bottom of each specimen. One specimen of each kind was charged with hydrogen by the cathodic hydrogen charging process. Loss in the notch tensile strength (NTS) caused by hydrogen was used to evaluate the HE sensitivity. It was found that while the HE sensitivity of conventionally aged Inconel 718 was decreased by the LSA process, the HE sensitivity of the $\delta$-free aged Inconel 718 could further be decreased. Therefore, for applications in hydrogen environments, it is possible to fabricate alloys with both good HE resistance and high strength by controlling the precipitation conditions, and to improve HE resistance further via applying the LSA process.
광양제철소의 소둔로 설비를 대상으로 정성적 및 정량적 위험성을 평가하였다. 소둔로는 냉연 강판 제조시 품질 향상을 위한 열처리 목적으로 이용되는 제철 설비중 하나로 Coke Oven Gas(COG)가 연료로 사용되고, 수소와 질소의 혼합가스 또는 순수한 수소가 분위기 가스로 사용된다. 위험성 평가를 통하여, 소둔로의 가연성 가스 누출 시나리오와 빈도를 분석하였으며, 가연성 가스 누출 사고시 화재 또는 폭발의 피해 영향을 분석하였다. 이들 분석 결과와 함께 여러 다른 지수(Index)를 제시하여 소둔로 가스 설비의 안전성 향상 방안을 도출하였다.
In a BAF(Batch Annealing Furnace), various studies have been pursued in order to reduce energy consumption rate to improve productivity and to stabilize the properties of products. The purpose of this study was to investigate the effects of both the atmospheric gas and convector plate shapes on the augmentation of heat transfer. The use of hydrogen instead of nitrogen as an atmospheric gas, combined with high convection in the BAF, has shown that considerable increases in furnace out put and significantly improved material quality are attainable. Because convector plate shapes make the atmosheric gas easily flow density, high diffusivity and reducing character of hydrogen, a better heat transfer rates resulting in uniform material temperature distribution and improved coil surface quality can be achieved. Also, it was found that the closed convector plate took more time for the annealing cycle time than the other plate type(open-type)by about ten hours.
The waveguide Bragg gratings have been fabricated by the phase-mask method. An excimer laser with maximum 600mJ output pulse energy and uniform phase masks have been used. Hydrogen loading is often used for enhancing the uv photosensitivity of the core, however, the resultant gratings show significant aging effect. In the present study, high temperature thermal annealing process has been investigated to obtain thermal gratings and process parameters are deduced.
Methylene blue(MB) was photocatalytically degraded with one-body photoanode and solar simulator to investigate the possible application to both environmental purification and photoelectrochemical cell for hydrogen production. Photoactive titanium dioxide was formed on both sides of Ti plate following steps such as rinsing-annealing-calcination or anodizing(20 V, 30 V)-annealing($350^{\circ}C$, $450^{\circ}C)$ after etching. The prepared titania plate($2cm{\times}2\;cm$, ca 1.6 mg $TiO_2$ on the basis of $1\;{\mu}m$ thickness) was used to degrade MB(10 ppm in 200 mL solution). The reaction tended to follow the Langmuir-Hinshelwood kinetics with zero order. Comparative experiments with Degussa P25 showed the same zero order kinetics when 2 mg of P25 had been used, while the first order kinetics when 200 mg used. This concludes the feasibility of the prepared titania plate as a material for the purification of low-level harmful organics and an electrode or a membrane for photoelectrochemical system for hydrogen production.
HDDR (hydrogenation, disproportionation, desorption, recombination) and mechanical milling processes have been applied to the $SmCo_{5}$ alloy in an attempt to produce a highly coercive powder. The $SmCo_{5}$ alloy had very high structural stability under the hydrogen atmosphere and the 1:5 phase was only partially disproportionated under up to 10 kgf/$\textrm{cm}^2$ hydrogen gas. The partially disproportionated material was recombined not into 1:5 phase after the HDDR, but rather into multi-phase mixture consisting of 1:5, 2:17, 2:7 and 1:7 phases. The $SmCo_{5}$ alloy HDDR-treated with hydrogen up to 10 kgf/$\textrm{cm}^2$ had poor coercivity. For a useful HDDR to prepare a high coercivity $SmCo_{5}$ alloy powder, much higher hydrogen pressure well exceeding 10 kgf/$\textrm{cm}^2$ would be required. The $SmCo_{5}$ alloy lump was amorphized by an intensive mechanical milling, and it was crystallised ultra-finely by a subsequent optimum annealing. The optimally annealed material had very high coercivity, and it was found that the mechanical milling followed by an annealing was an effective way of producing highly coercive $SmCo_{5}$ alloy powder.
In this study, the etched trench properties including cross-sectional profile, surface roughness, and crystalline defects were investigated depending on the various silicon etching and additive gases, For the case of HBr$He-O_2SiF_4$ trench etching gas mixtures, the excellent trench profile and minimum defects in the silicon trench were achieved. Due to the residual oxide film grown by the additive oxygen gas, which acts as a protective layer during trench etching, the undercut and defects generation in the trench were suppressed. To improve the electrical characteristics of trench gate, the hydrogen annealing process after trench etching was also adopted. Through the hydrogen annealing, the trench corners might be rounded by the silicon atomic migration at the trench corners having high potential. The rounded trench corner can afford to reduce the gate electric field and grow a uniform gate oxide. As a result, dielectric strength and TDDB characteristics of the hydrogen annealed trench gate oxide were remarkably increased compared to the non-hydrogen annealed one.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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