Since the hydrofluoric acid spill accident in Gumi in 2012, the current situation has continued to suffer from makeshift responses or feeble national system maintenance in preparing real countermeasures against chemical accidents, regardless of their repeated occurrence and seriousness. Industrial chemical accidents have an enormous ripple effect on the whole country and society. The purpose of this study is to propose ways of establishing directions for the national disaster management system against repeated occurrence of chemical accidents. To achieve this goal, the present study proposed improvement measures of response system for industrial chemical accident through the analysis of the current response system and structural causes of disaster control failure for chemical accidents.
Catastrophic disasters are sprouting out recently, i.e., the radiation leaks and the hydrofluoric acid gas leaks, etc. The restoration work for these kinds of disasters is very harmful and dangerous for human beings to handle themselves, thus allowing manless robots to fly the reconnaissance planes over to the disaster stricken areas and do the necessary work instead. For this endeavor and purpose, we created and tested an intelligent robot that can inspect those areas, using Mbed (ARM processor) technology temperature sensors and gas sensors aided by CAM (Computer-Aided Manufacturing) cameras. Also, HTTP Server, PC, androids and their combined efforts allow their remote controlled operation from far away with timing control. These intelligent robots can be on duty for 24 hours, minimizing the accidents and crimes and what not, and can respond more quickly when these misfortunes actually happen. We can anticipate the economic effects as well, derived from the reduced needs for hiring human resources.
Physical and chemical changes in a polished wafer and in $2.5{\mu}m$ & $4{\mu}m$ epitaxially grown Si layer wafers (Epilayer wafer) after surface treatment were investigated. We characterized the influence of surface treatment on wafer properties such as surface roughness and the chemical composition and bonds. After each surface treatment, the physical change of the wafer surface was evaluated by atomic force microscopy to confirm the surface morphology and roughness. In addition, chemical changes in the wafer surface were studied by X-ray photoemission spectroscopy measurement. Changes in the chemical composition were confirmed before and after the surface treatment. By combined analysis of the physical and chemical changes, we found that diluted hydrofluoric acid treatment is more effective than buffered oxide etching for $SiO_2$ removal in both polished and Epi-Layer wafers; however, the etch rate and the surface roughness in the given treatment are different among the polished $2.5{\mu}m$ and $4{\mu}m$ Epi-layer wafers in spite of the identical bulk structural properties of these wafers. This study therefore suggests that independent surface treatment optimization is required for each wafer type, $2.5{\mu}m$ and $4{\mu}m$, due to the meaningful differences in the initial surface chemical and physical properties.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.438-439
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2013
Microelectronic devices의 접촉저항의 향상을 위해 Metal silicides의 형성 mechanism과 전기적 특성에 대한 연구가 많이 이루어지고 있다. 지난 수십년에 걸쳐, Ti silicide, Co silicide, Ni silicide 등에 대한 개발이 이루어져 왔으나, 계속적인 저저항 접촉 소재에 대한 요구에 의해 최근에는 Rare earth silicide에 관한 연구가 시작되고 있다. Rare-earth silicide는 저온에서 silicides를 형성하고, n-type Si과 낮은 schottky barrier contact (~0.3 eV)를 이룬다. 또한, 비교적 낮은 resistivity와 hexagonal AlB2 crystal structure에 의해 Si과 좋은 lattice match를 가져 Si wafer에서 high quality silicide thin film을 성장시킬 수 있다. Rare earth silicides 중에서 ytterbium silicide는 가장 낮은 electric work function을 갖고 있어 낮은 schottky barrier 응용에서 쓰이고 있다. 이로 인해, n-channel schottky barrier MOSFETs의 source/drain으로써 주목받고 있다. 특히 ytterbium과 molybdenum co-deposition을 하여 증착할 경우 thin film 형성에 있어 안정적인 morphology를 나타낸다. 또한, ytterbium silicide와 마찬가지로 낮은 면저항과 electric work function을 갖는다. 그러나 ytterbium silicide에 molybdenum을 화합물로써 높은 농도로 포함할 경우 높은 schottky barrier를 형성하고 epitaxial growth를 방해하여 silicide film의 quality 저하를 야기할 수 있다. 본 연구에서는 ytterbium과 molybdenum의 co-deposition에 따른 silicide 형성과 전기적 특성 변화에 대한 자세한 분석을 TEM, 4-probe point 등의 다양한 분석 도구를 이용하여 진행하였다. Ytterbium과 molybdenum을 co-deposition하기 위하여 기판으로 $1{\sim}0{\Omega}{\cdot}cm$의 비저항을 갖는 low doped n-type Si (100) bulk wafer를 사용하였다. Native oxide layer를 제거하기 위해 1%의 hydrofluoric (HF) acid solution에 wafer를 세정하였다. 그리고 고진공에서 RF sputtering 법을 이용하여 Ytterbium과 molybdenum을 동시에 증착하였다. RE metal의 경우 oxygen과 높은 반응성을 가지므로 oxidation을 막기 위해 그 위에 capping layer로 100 nm 두께의 TiN을 증착하였다. 증착 후, 진공 분위기에서 rapid thermal anneal(RTA)을 이용하여 $300{\sim}700^{\circ}C$에서 각각 1분간 열처리하여 ytterbium silicides를 형성하였다. 전기적 특성 평가를 위한 sheet resistance 측정은 4-point probe를 사용하였고, Mo doped ytterbium silicide와 Si interface의 atomic scale의 미세 구조를 통한 Mo doped ytterbium silicide의 형성 mechanism 분석을 위하여 trasmission electron microscopy (JEM-2100F)를 이용하였다.
Kim, Yeon;Wu, Mihye;Choi, Sungho;Shim, Kwang Bo;Jung, Ha-Kyun
Korean Journal of Materials Research
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v.26
no.9
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pp.504-511
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2016
To prepare $Mn^{4+}$-activated $K_2TiF_6$ phosphor, a precipitation method without using hydrofluoric acid (HF) was designed. In the synthetic reaction, to prevent the decomposition of $K_2MnF_6$, which is used as a source of $Mn^{4+}$ activator, $NH_5F_2$ solution was adopted in place of the HF solution. Single phase $K_2TiF_6$:$Mn^{4+}$ phosphors were successfully synthesized through the designed reaction at room temperature. To acquire high luminance of the phosphor, the reaction conditions such as the type and concentration of the reactants were optimized. Also, the optimum content of $Mn^{4+}$ activator was evaluator based on the emission intensity. Photoluminescence properties such as excitation and emission spectrum, decay curve, and temperature dependence of PL intensity were investigated. In order to examine the applicability of this material to a white LED, the electroluminescence property of a pc-WLED fabricated by combining the $K_2TiF_6$:$Mn^{4+}$ phosphor with a 450 nm blue-LED chip was measured.
Objectives: The goal of this study is to identify the distribution of the foliar fluorine content of vegetation surrounding the area where hydrofluoric acid was accidently released in Gumi, Gyeongsangbuk-do on September 27, 2012. In addition, it also aims to estimate the concentration of hydrogen fluoride in the air on the day of the accident. Methods: Samples of plant leaves were collected on October 7, 2012 within 1 km from the site where the accident occurred. These samples were analyzed for soluble fluorine ion with an ion selective electrode. The ambient concentration of hydrogen fluoride was calculated using the fluoride content in the plant via the dose-rate equation (${\Delta}F$=KCT). Results: The arithmetic and geometric means of the concentrations were 2158.2 and 1183.7mg F $kg^{-1}$ for leaves and, 2.4 and 1.1 ppm HF for the air, respectively. The highest concentration of hydrogen fluoride in the air was 14.7 ppm, which is higher than the maximum concentration reported by the government (1 ppm) and the exposure limit (ceiling, 3 ppm). The concentrations of both fluorine and hydrogen fluoride decreased with increasing distance from the accident site and showed a significant decrease outside of a 500m radius from the site (p <0.05). Conclusions: The area around the accident site was highly polluted with hydrogen fluoride according to the results of this study. Considering the persistency of hydrogen fluoride in the environment, long-term monitoring and environmental impact assessment should be pursued.
PURPOSE. The aim of this study was to evaluate the microshear bond strength (µSBS) of four computer-aided design/computer-aided manufacturing (CAD/CAM) blocks repaired with composite resin using three different surface treatment protocols. MATERIALS AND METHODS. Four different CAD/CAM blocks were used in this study: (1) flexible hybrid ceramic (FHC), (2) resin nanoceramic (RNC), (c) polymer infiltrated ceramic network (PICN) and (4) feldspar ceramic (FC). All groups were further divided into four subgroups according to surface treatment: control, hydrofluoric acid etching (HF), air-borne particle abrasion with aluminum oxide (AlO), and tribochemical silica coating (TSC). After surface treatments, silane was applied to half of the specimens. Then, a silane-containing universal adhesive was applied, and specimens were repaired with a composite, Next, µSBS test was performed. Additional specimens were examined with a contact profilometer and scanning electron microscopy. The data were analyzed with ANOVA and Tukey tests. RESULTS. The findings revealed that silane application yielded higher µSBS values (P<.05). All surface treatments were showed a significant increase in µSBS values compared to the control (P<.05). For FHC and RNC, the most influential treatments were AlO and TSC (P<.05). CONCLUSION. Surface treatment is mandatory when the silane is not preferred, but the best bond strength values were obtained with the combination of surface treatment and silane application. HF provides improved bond strength when the ceramic content of material increases, whereas AlO and TSC gives improved bond strength when the composite content of material increases.
The effects of existing anions in hydrofluoric acid solutions, $F^-$ and $HF_2$on the extraction of methylene blue-$BF_4^-$ ion-pair into 1,2-dichloroethane have been investigated by spectrophotometry. The absorbance of the extracted ion-pair is found to be independent of $F^-$ion up to $10^{-2}$ molar concentration, which implies that $F^-$ion dose not directly interfere with the extraction. However, $HF_2^-$ ion competes with $BF_4^-$ion for methylene blue and the extraction constant for methylene blue-H$F_2$ion-pair is calculated to be 8.5 at $25^{\circ}C$.
The purpose of this study was to evaluate the long term tooth-brushing effect on the color change of specially treated IPS Empress porcelain surface. Staining techique with blue stain and liquid was used. The surfaces of the specimen were treated with 5% and 10% Hydrofluoric acid, 50mm and 250mm alumina sandblast, and then blue stain and liquid were used for external stain. After 29,200, 58,400, 87,600, 116,200 brushing strokes (equivalent to 2, 4, 6, 8 years each), color changes of the stained layer were measured with spectrophotometer(CM-3500d, MINOLTA, Tolkyo, Japan). The result of this study was obtained as follows : 1. The color changes were great after 29,200 tooth brushing strokes in every group, but from 29,200 strokes to 116,800 strokes, there were no significant color changes in each group. (p>0.05) 2. The greastest color changes were observed in 5% HF treated group and the least color changes were observed in $50{\mu}m$ aluminar sandblast treated group in every stroke (p<0.05), but no statistical difference between groups compared with control group (p>0.05). According to these results, pretreatment of I.P.S. Empress porcelain with alumina sandblast improved the color stability It is thought that about 8 year-tooth brushing strokes does not change the color of IPS Empress porcelain significantly on this condition, but long term follow-up will be needed.
Journal of Korean Society of Environmental Engineers
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v.35
no.4
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pp.257-262
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2013
The fluorine-containing waste water tends to show a higher removal efficiency through the coagulative precipitation process with calcium. However the tetrafluoroborate produced from the etching process is difficult to remaval due to it's low reactivity with calcium. The objective of this study is improving the efficiency of fluoride ion removal in tetrafluoroborate through decomposing. Research on tetrafluoroborate decomposition depending on reaction pH, temperature, and aluminum dosage were conducted, using a laboratory-scale reactor. The result shows that the reaction of tetrafluoroborate with aluminum is faster with lower pH, higher water temperature, and higher Al/T-F (Aluminum/Total Fluoride) mole ratio. It is found that there was no big change in concentration after over 120 minutes of reaction. This study is to be able to improve the efficiency of tetrafluoroborate and fluoride wastewater treatment by using aluminum.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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