• Journal of the Semiconductor & Display Technology
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• v.9 no.4
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• pp.13-18
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• 2010

Extreme ultraviolet (EUV) lithography using 13.5 nm wavelengths is expected to be adopted as a mass production technology for 32 nm half pitch and below. One of the new issues introduced by EUV lithography is the shadowing effect. Mask shadowing is a unique phenomenon caused by using mirror-based mask with an oblique incident angle of light. This results in a horizontal-vertical (H-V) biasing effect and ellipticity in the contact hole pattern. To minimize the shadowing effect, a refilled mask is an available option. The concept of refilled mask structure can be implemented by partial etching into the multilayer and then refilling the trench with an absorber material. The simulations were carried out to confirm the possibility of application of refilled mask in 32 nm line-and-space pattern under the condition of preproduction tool. The effect of sidewall angle in refilled mask is evaluated on image contrast and critical dimension (CD) on the wafer. We also simulated the effect of refilled absorber thickness on aerial image, H-V CD bias, and overlapping process window. Finally, we concluded that the refilled absorber thickness for minimizing shadowing effect should be thinner than etched depth.

• Nuclear Engineering and Technology
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• v.51 no.3
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• pp.731-737
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• 2019

In this study, a new measurement method based on voltage transients in CdZnTe detectors response to low energy photon irradiations is applied to measure the electron mobility (${\mu}_e$) and electron mobility-lifetime product $({\mu}{\tau})_e$ in a CdZnTe detector. In the proposed method, the pulse rise times are derived from low energy photon response to 59.5 keV($^{241}Am$), 88 keV($^{109}Cd$) and 122 keV($^{57}Co$) ${\gamma}-rays$ for the irradiation of the cathode surface at each detector for different bias voltages. The electron $({\mu}{\tau})_e$ product was then determined by measuring the variation in the photopeak amplitude as a function of bias voltage at a given photon energy using a pulse-height analyzer. The $({\mu}{\tau})_e$ values were found to be $(9.6{\pm}1.4){\times}10^{-3}cm^2V^{-1}$ for $1000mm^3$, $(8.4{\pm}1.6){\times}10^{-3}cm^2V^{-1}$ for $1687.5mm^3$ and $(7.6{\pm}1.1){\times}10^{-3}cm^2V^{-1}$ for $2250mm^3$ CdZnTe detectors. Those results were then compared with the literature $({\mu}{\tau})_e$ values for CdZnTe detectors. The present results indicate that, the electron mobility ${\mu}_e$ and electron $({\mu}{\tau})_e$ values in CdZnTe detectors can be measured easily by applying voltage transients response to low energy photons, utilizing a fast signal acquisition and data reduction and evaluation.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2002.08a
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• pp.780-783
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• 2002

We report very efficient white OLEDs consisting of a blue-emitting 4,4'bis[N-(1-napthyl)-N-phenyl-amino]-biphenyl (${\alpha}$-NPD), a hole-blocking layer of 2,9-dimethyl-4, 7-diphenyl-1, 10-phenanthroline (BCP) doped with red fluorescent dye of 4-dicyanomethylene-2-methyl-6-[2-(2,3,6,7-tetrahydro- 1H, 5H-benzo[i,j]quinolizin-8-yl) vinyl]-4H-pyran) (DCM2), and green-emitting tris(8-hydroxyquinoline) aluminum ($Alq_3$). The device with the structure of ITO/${\alpha}$-NPD (50 nm)/BCP:DCM2 (0.8 %, 4 nm)/$Alq_3$ (50 nm)/LiF (0.5 nm)/Al shows a white emission with the CIE coordinates (0.329, 0.333). The maximum luminance of 20,800 cd/$m^2$ is obtained at 15.4 V. The power efficiency is 2.6lm/W and the external quantum efficiency is 2.1 % at a luminance of 100 cd/$m^2$ at the bias voltage of 6 V.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2000.02a
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• pp.195-195
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• 2000

TFT-LCD의 제조공정은 박막층의 식각 공정에 대해 기존의 습식 공정을 대치하는 건식식각이 선호되고 있다. 건식 식각 공정은 반도체 공저에 응용되면서 소자의 최소 선폰(CD)이 감소함에 따라 유도결합셩 프라즈마를 비롯한 고밀도 플라즈마 이용한 플라즈마 장비 사용이 증가하는 추세이다. 여기에 평판디스플레이의 공정을 위해서는 대면적과 사각형 기판에 대한 균일도를 보장할 수 있는 고밀도의 균일한 플라즈마 유지가 중요하다. 본 실험에서는 자장강화된 유도결합형 플라즈마의 플라즈마 밀도 및 균일도를 살펴보고 TFT-LCD에 gate 전극으로 사용되는 Al-Nd 박막의 식각을 통하여 식각균일도와 식각속도 및 식각 선택도 등의 건식 식각 특성을 보고자 한다. 영구자석 및 전자석의 설치는 사각형의 유도결합형 플라즈마는 소형 영구자석을 배열하여 부착하였으며, 외부에는 chamber와 같이 사각형태의 전자석을 500mm$\times$500mm의 크기를 갖는 z축 방향의 Helmholtz형으로 제작하였다. 더. 영구자석 배열에 대해서는 자석간의 거리와 세기 변화를 조합하여 magnetic cusping의 변화를 주었으며 전자석의 세기는 전류값을 기준으로 변화시켜 보았다. 실험을 통하여 플라즈마 균일도를 5% 이하로 개선하고 이러한 균일도를 유지하며 플라즈마 밀도를 높일 수 있는 조건을 찾을 수 있었다. 이러한 적합화된 조건에서 저장강화된 유도결합형 프라즈마를 Al-Nd 박막 식각에 응용한 결과, Al-Nd의 식각속도 및 식각 선택도는 유도결합형 프라즈마에 비해 크게 증가하였으며, 식각균일도가 개선되는 것을 관찰하였다. 또한 electrostatic probe(Hiden, Analytical)를 이용하여 Al-Nd 식각에 사용된 반응성 식각가스에 대한 저장강화된 유도결합형 플라즈마의 특성 분석을 수행하였다.c recoil detection, Rutherford backscattering spectroscopy, X-ray diffraction, secondary electron microscopy, atomic force microscoy, $\alpha$-step, Raman scattering spectroscopu, Fourier transform infrared spectroscopy 및 micro hardness tester를 이용하여 기판 bias 전압이 DLC 박막의 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 분석결과 본 연구에서 제작된 DLC 박막은 탄소와 수소만으로 구성되어 있으며, 비정질 상태임을 알 수 있었다. 기판 bias 전압의 증가에 따라 박막의 두께가 감소됨을 알 수 있었고, -150V에서는 박막이 거의 만들어지지 않았으며, -200V에서는 기판 표면이 식각되었다. 이것은 기판 bias 전압과 ECR 플라즈마에 의한 이온충돌 효과 때문으로 판단되며, 150V 이하에서는 증착되는 양보다 re-sputtering 되는 양이 더 많을 것으로 생각된다. 기판 bias 전압을 증가시킬수록 플라즈마에 의한 이온충돌 현상이 두드러져 탄소와 결합하고 있던 수소원자들이 떨어져 나가는 탈수소화 (dehydrogenation) 현상을 확인할 수 있었으며, 이것은 C-H 결합에너지가 C-C 결합이나 C=C 결합보다 약하여 수소 원자가 비교적 해리가 잘되므로 이러한 현상이 일어난다고 판단된다. 결합이 끊어진 탄소 원자들은 다른 탄소원자들과 결합하여 3차원적 cross-link를 형성시켜 나가면서 내부 압축응력을 증가시키는 것으로 알려져 있으며, hardness 시험 결과로 이것을 확인할 수 있었다. 그리고 표면거칠기는 기판 bias 전압을 증가시킬수록 더 smooth 해짐을 확인하였다.인하였다.을 알 수 있

• Journal of Information Display
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• v.4 no.2
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• pp.13-18
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• 2003

We synthesized bis (2-methyl-8-quinolinolato)(triphenylsiloxy) aluminum (III) (SAlq), a blue-emitting material having a high luminous efficiency, through a homogeneous-phase reaction. The photoluminescence (PL) and electroluminescence (EL) spectra of SAlq show two peaks at 454 nm and 477 nm. Efficient white light-emitting devices are fabricated by doping SAlq with a red fluorescent dye of 4-dicyanomethylene-2-methyl-6-{2-(2,3,6,7-tetrahydro-1H,5H-benzo[i,j]quinolizin-8yl) vinyl}-4H-pyran (DCM2). The incomplete energy transfer from blue-emitting SAlq to red-emitting DCM2 results in light-emission of both blue and orange colors. Devices with the structure of ITO/TPD (50 nm)/SAlq:DCM2 (30 nm, 0.5 %)/$Alq_3$ (20 nm)/LiF (0.5 nmj/Al show EL peaks at 456 nm and 482 nm originating from SAlq and at 570 nm from DCM2, resulting in the Commission Internationale d'Eclairage (CIE) chromaticity coordinates of (0.32, 0.37). The device exhibits an external quantum efficiency of about 2.3 % and a luminous efficiency of about 2.41m/W at 100 $cd/m^2$. A maximum luminance of about 23,800 $cd/m^2$ is obtained at the bias voltage of 15 V.