The structural Charactesties and adhesion of chemically vapor deposited TiN film on stain less steels have been investated as functions of deposition temperature, surface roughness of sub state, and types of substrates. The grain zine and the lattice parameter of TiN film decreased with decreasing roughness of substates. The(200) preferred orientation was developed dominatly and the lattlice parameter decreased as temperature intereased reardless of the surdless roughnessand type of the substrates used. The surface morphology of TiN film changed from bushed crystal to a plate and then to pyamidal dense crystals with an increase in the deposition temperature. The adhesion of TiN films increased with coating thinkness and decreased with surface roughness in general. The calculations using a Bejamin & Weaver's model have been compard. Maximum valuse of adhesion energy calculated using Laguier's model were W304=331Jm-2,w410=113Jm-2,andW430=107jm-2
In order to manufacture copper ultra fine wire used for bonding wire in integrated circuit package, continuous casting process, which can produce high purity copper rod with small cross section, and wiredrawing process have to be optimized to prevent wire brakeage during entire manufacturing process of fine wire. The optimum condition for producing copper rod with mirror surface has to established by investigation of the effects of several parameters such as withdrawal speed, superheat and rod diameter on grain morphology of the cast rod and on its drawing characteristics to fine wire. The purpose of this study is to propose the optimized process parameters in continuous casting process in order to produce cast rod without internal defects, and to predict microstructure orientation suitable for wire drawing process.
Chemistry and microstructure of steel reinforcement bars play an important role to control the corrosion in concrete environments. In present study, we have chosen two different microstructure of steel rebars produced from companies and assessed their corrosion characteristics in simulated concrete pore (SCP) solution with prolonged exposure periods. Hot rolled steel rebar showed more corrosion resistance compare to thermo-mechanically treated (TMT) one. The growth of passive is greater in hot rolled (A) than TMT (B) due to orientation of microstructure. TMT steel rebar exhibit distorted microstructure with many micro cells which enhances the galvanic coupling and induce the deterioration while on the other hand hot rolled rebars exhibit fine grain boundary which responsible in growth of uniform, adherent and protective passive film resultant improved impedance was observed.
Various fluoride films on a glass substrate were prepared and characterized to provide a seed layer for crystalline Si film growth. The XRD analysis on $CaF_2/glass$ illustrated (220) preferential orientation and showed lattice mismatch less than 5 % with Si. We achieved a fluoride film with breakdown electric field of 1.27 MV/cm, leakage current density about $10^{-6}$$A/cm^2$, and relative dielectric constant less than 5.6. This paper demonstrates microcrystalline silicon $({\mu}c-Si)$ film growth by using a $CaF_2/glass$ substrate. The ${\mu}c-Si$ films exhibited crystallization in (111) and (220) planes, grain size of $700\;{\AA}$, crystalline volume fraction over 65 %, dark- and photo-conductivity ratio of 124, activation energy of 0.49 eV, and dark conductivity less than $4{\times}10^{-7}$ S/cm.
본 고에서는 고온센서용 압전체가 필요하고 실용화할 수 있는 다결정 압전세라믹스 및 박막재료가 요구되는 점을 감안하여 고온에서도 사용할 수 있는 단결정 $A_{2}$B$_{2}$O$_{2}$형의 성장과 그 전기적 특성 및 최근 개발을 시도하고 있는 다결정 $A_{2}$B$_{2}$O$_{2}$형 압전체에 대한 지금까지의 개발동향을 문헌소개와 함께 필자의 연구결과 일부도 보고하며 아울러 박막화의 가능성도 제시하고자 한다.
B-doped ZnO thin films on glass substrates were prepared by sputtering the ceramic targets which had been prepared by sintering disks consisting of ZnO and various amounts of B2O3 While pure ZnO films show-ed a c-axis oriented growth the B-doping retarded the prefered orientation and grain growth of the film. Electron concentrations for undoped and B-doped ZnO films were on the order of 7.8${\times}$1018 cm-3 and 5${\times}${{{{ {10 }^{20 } }} c{{{{ {m }^{-3 } }} respectively. The electron mobility however decreased with the B-doping concentration. Optical meas-urements on the films showed that the average transmittance in the visible range was higher than 85% The measurements also indicated a blueshift of the absorption edge with doping.
RuO2 thin films were deposited on SiO2(1000 $\AA$)/Si by hot-wall Metal Organic Chemical Vapor Depositon. The crystallinity of RuO2 thin films increased with increasing deposition temperature and the preferred orienta-tion of RuO2 films converted (200) plane to (101) plane with increasing film thicknesses. Such a change in preferred orientation was influenced on the crystallographic structure and the residual stress of RuO2 thin films. The resistivity of the 2700$\AA$-thick RuO2 thin films deposted at 30$0^{\circ}C$ was 52.7$\mu$$\Omega$-cm and they could be applicable to bottom electrodes of high dielectric materials. However the resistivity of RuO2 thin films increased with decreasing film thicknesses. The grain size and the resistivity of RuO2 thin films were densified with increasing the annealing temperature and showed the decrease of resistivity.
We have performed spin-spray ferrite plating of $Fe{_3}{-X}-Ni_XO_4$(X=0.17~0.26) films in the temperature region $T=80~95[^{\circ}C]$. A reaction solution and an oxidizing solution were supplied to a reaction chamber by supply pump. The solubility limit of Ni increases as the substrate temperature increase, from X=0.17 at $80[^{\circ}C]$ to X=0.26 at $95[^{\circ}C]$. All the films are polycrystalline with no preferential orientation, and the magnetization exhibits no definite anisotropy. Grain size in the films increases as X increases, reaching $0.87[\mu{m}]$ at X=0.26.
Park, Jong-Pil;Kim, Sin-Kyu;Park, Jae-Young;Ok, Kang-Min;Shim, Il-Wun
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제30권1호
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pp.114-118
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2009
A new Zn/O single source precursor, TMEDA-Zn$(eacac)_2$, has been synthesized by using N, N, N’, N’-tetramethylethylendiamine (TMEDA), sodium ethyl-acetoacetate, and $ZnCl_2$. From this organometallic precursor, ZnO thin films have been successfully grown on Si (100) substrates through the metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) method at relatively mild conditions in the temperature range of 390~430 ${^{\circ}C}$. The synthesized ZnO films have been found to possess average grain sizes of about 70 nm with an orientation along the c-axis. The precursor and ZnO films are characterized through infrared spectroscopy, nuclear magnetic resonance spectroscopy, EI-FAB-spectroscopy, elemental analyses, thermal analysis, X-ray diffraction, and field emission scanning electron microscopic analyses.
In order to develop an ultra-thin CoCr perpendicular magnetic recording layer, we prepared CoCrTa/Ti double layer for perpendicular magnetic recording media by new facing targets sputtering system, Crystallgraphics and magnetic characteristics of CoCrTa on underlayer substrate temperature have been investigated. Crystallgraphic and magnetic characteristic of thin films were evaluated by X-ray diffractometry(XRD), vibrating sample magnetometer(VSM) and atomic force microscopy(AFM). The coercivity and anisotropy field was increased by increasing under layer substrate temperature, c-axis orientation of CoCrTa magnetic recording layer was improved 8$^{\circ}$ to 5.6$^{\circ}$when under layer substrate temperature was 250[$^{\circ}C$]. Also, through annealing effect for CoCrTa/Ti double layer, it was certain that crystallgraphics and magnetic characteristics was improved.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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