• 한국결정성장학회지
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• 제25권2호
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• pp.45-50
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• 2015

본 논문에서는 Al 조성이 점진적으로 변화된 AlGaN 에피층을 HVPE (hydride vapor phase epitaxy) 방법에 의하여 성장하였다. 소스영역의 온도는 $950^{\circ}C$, 성장 영역의 온도는 $1145^{\circ}C$에서 연속적으로 (0001) 사파이어 기판위에 성장되었고, AlGaN 에피층은 시간당 100 nm의 성장률을 보였다. FE-SEM 측정과 EDS 측정으로부터 성장층의 Al 변화를 확인하였으며, AFM 측정결과 2인치 기판위에 성장된 graded AlGaN 에피층의 거칠기는 수십 nm였다. Al 조성의 변화는 XRD 측정에 의하여 확인하였으며, Al 조성 74 %의 (002) AlGaN의 주피크 관측과 함께 연속적으로 (002) AlN 층의 피크가 확인되었다. 이는 하나의 층에 사파이어 기판으로부터 Al 조성이 점진적으로 변화하는 에피층을 HVPE 방법으로 얻었음을 증명하며, 이 결과로부터 다양한 광소자 및 전자소자의 응용이 기대된다.

• Electronic Materials Letters
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• 제14권6호
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• pp.784-792
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• 2018

In this letter, a standard deviation based optimization technique has been applied on High Resolution X-ray Diffraction symmetric and asymmetric scan results to accurately determine the Aluminum molar fraction and lattice relaxation of Molecular Beam Epitaxy grown compositionally graded Aluminum Gallium Nitride (AlGaN)/Aluminum Nitride/Gallium Nitride (GaN) heterostructures. Mathews-Blakeslee critical thickness model has been applied in an alternative way to determine the partially relaxed AlGaN epilayer thicknesses. The coupling coefficient determination has been presented in a different perspective involving sample tilt method by off set between the asymmetric planes of GaN and AlGaN. Sample tilt is further increased to determine mosaic tilt ranging between $0.01^{\circ}$ and $0.1^{\circ}$.