Jo, Young-Soo;Seon, Kwang-Il;Witt, Adolf N.;Min, Kyoung-Wook
천문학회보
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제44권2호
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pp.48.2-48.2
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2019
Light from universe is absorbed, scattered, and re-released by interstellar dust before it reaches us. Therefore, accurate correction of the observed light requires not only spatial distribution of interstellar dust, but also information on absorption and scattering for each wavelength. Far-ultraviolet (FUV) light is mainly produced by bright, young O-type and some B-type stars, but it is also observed in interstellar space without these stars. Called FUV Galactic light (DGL), these lights are mostly known as starlight scattered by interstellar dust. With the recent release of GAIA DR2, not only accurate distance information of stars in our Galaxy, but also accurate three-dimensional distribution maps of interstellar dust of our Galaxy were produced. Based on this, we performed 3-dimensional Monte Carlo dust scattering radiative transfer simulations for FUV light to obtain dust scattered FUV images and compared them with the observed FUV image obtained by FIMS and GALEX. From this, we find the scattering properties of interstellar dust in our Galaxy and suggest the intensity of extragalactic background light. These results are expected to aid in the study of chemical composition, size distribution, shape, and alignment of interstellar dust in our Galaxy.
The most important part of the fabrication solar cells is the anti-reflection coating when excludes the kinds of silicon substrates (crystalline, polycrystalline, or amorphous), patterns and materials of electrodes. Anti-reflection coatings reduce the reflection of sunlight and at last increase the intensity of radiation to inside of solar cells. So, we can obtain increase of solar cell efficiency about 10% using anti-reflection coating. There are many kinds of anti-reflection film for solar cell, such as SiN, $SiO_2$, a-Si, and so on. And, they have two functions, anti-reflection and passivation. However such materials could not perfectly prevent reflection. So, in this work, we investigated the anti-reflection coating with the columnar structure ZnO thin film. We synthesized columnar structure ZnO film on glass substrates. The ZnO films were synthesized using a RF magnetron sputtering system with a pure (99.95%) ZnO target at room temperature. The anti-reflection coating layer was sputtered by argon and oxygen gases. The angle of target and substrate measures 0, 20, 40, 60 degrees, the working pressure 10 mtorr and the 250 W of RF power during 40 minutes. The confirm the growth mechanism of ZnO on columnar structure, the anti-reflection coating layer was observed by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM). The optical trends were observed by UV-vis and Elleso meter.
Cold temperature development (CTD) of electron beam (EB) patterned resists and subsequent dry etching were investigated for fabrication of nano-patterned Niobium (Nb). Bulky Nb fims on GaAs substrates were deposited with EB evaporation. Line patterns on Nb cathode were fabricated by EB patterning and reactive ion etching (RIE). Size deviations of nano-sized line patterns from CAD designed patterns are dependent on the EB total exposure, but it can be improved by CTD of EB-exposed resist. Line patterns of 10 to 300 nm widths of EB-exposed resist patterns were drawn under various exposure conditions of $0.2{\mu}s$/dot (total 240,000 dot) with a constant current (50 pA). Compared with room temperature development (RTD), the CTD improves pattern resolution due to the suppression of backscattering effect. RIE with $CF_4$ was performed for formation of several nano-sized line patterns on Nb. Each EB-resist patterned samples with RTDs and CTDs were etched with two different $CF_4$ gas pressures of 5 Pa. Nb etching rate increases while GaAs (or ZEP) etching rate decreases as the chamber pressure increases. This different dependent of the etching rate on the $CF_4$ pressure between Nb and GaAs (or ZEP) has a significant meaning because selective etching of nano-sized Nb line patterns is possible without etching of the underlying active layer.
Hydrogenated microcrystalline silicon (${\mu}c-Si:H$) films have attracted much attention as materials of the bottom-cells in Si thin film tandem photovoltaics due to their low bandgap and excellent stability against light soaking. However, in PECVD, the source gas $SiH_4$ must be highly diluted by $H_2$, which eventually results in low deposition rate. Moreover, it is known that high-rate ${\mu}c-Si:H$ growth is usually accompanied by a large number of dangling-bond (DB) defects in the resulting films, which act as recombination centers for photoexcited carriers, leading to a deterioration in the device performance. During film deposition, Si nanoparticles generated in $SiH_4$ discharges can be incorporated into films, and such incorporation may have effects on film properties depending on the size, structure, and volume fraction of nanoparticles incorporated into films. Here we report experimental results on the effects of nonoparticles incorporation at the different substrate temperature studied using a multi-hollow discharge plasma CVD method in which such incorporation can be significantly suppressed in upstream region by setting the gas flow velocity high enough to drive nanoparticles toward the downstream region. All experiments were performed with the multi-hollow discharge plasma CVD reactor at RT, 100, and $250^{\circ}C$, respectively. The gas flow rate ratio of $SiH_4$ to $H_2$ was 0.997. The total gas pressure P was kept at 2 Torr. The discharge frequency and power were 60 MHz, 180 W, respectively. Crystallinity Xc of resulting films was evaluated using Raman spectra. The defect densities of the films were measured with electron spin resonance (ESR). The defect density of fims deposited in the downstream region (with nonoparticles) is higher defect density than that in the upstream region (without nanoparticles) at low substrate temperature of RT and $100^{\circ}C$. This result indicates that nanoparticle incorporation can change considerably their film properties depending on the substrate temperature.
1996년 미국 버클리 대학의 Space Science Laboratory와 공동으로 고온 성간 물질의 관측에 대한 Conceptual Study로부터 시작되어 1998년 과학위성 1호의 주 탑재체로 선정되면서 본격적인 개발에 들어간 원자외선 분광기(FIMS: Far-ultraviolet IMaging Spectrograph)는 Engineering Model 개발, Qualification Model 개발, Flight Model의 개발 및 보정, 그리고 최종적으로 과학기술위성 1호 본체와의 조립 시험 및 환경시험을 거쳐 2003년 9월 26일 러시아의 플레세츠크에서 COSMOS-3M 발사체에 의해 발사된다. FIMS를 포함한 과학위성 1호는 현재 발사를 위해 러시아 현지에 이송되어 최종 시험을 진행 중이며, 발사 후 약 20일 가량은 위성의 운용 시험을 하게 되며, 이후 FIMS의 운용에 영향을 줄 수 있는 Out-gassing이 충분히 이루어진 후 FIMS의 Test 및 초기 운용이 이루어 진다. FIMS의 Detector로 사용되는 MCP(Micro Channel Plate)의 정상적 동작이 확인되면, 1년여에 걸쳐 FIMS의 주 임무인 원자외선 영역(900∼1750')의 은하계 전천 탐사를 수행하게 된다. 전천 탐사가 마무리 되면, 전천탐사의 결과를 바탕으로 개별 천체의 영상 및 분광 자료를 획득하게 되며, 동시에 원자외선 영역의 오로라 및 지구 대기광 측정을 수행한다.
YBa₂CU₃O/sub 7-8/(YBCO) coated conductor의 완충층 구조를 개선하기 위하여 2축배향된 Ni-3 wt%W 합금 기판위에 단일 완충층으로 SrTiO₃(STO) 박막을 증착하였다. YBCO와 STO 박막은 펄스레이저 증착법으로 성장시켰다. STO 박막의 표면은 증착온도에 따라 다른 미세조직을 보여 주었고, XRD 분석에서는 STO와 YBCO 박막이 금속기판의 배향성을 가지면서 성장되었음을 알 수 있었다. 액체질소 온도에서 1.2 MA/㎠의 임계전류밀도와 86 K의 임계온도를 가지는 짧은 길이의 coated conductor를 STO 단일완충층을 이용하여 제조하였다.
GSH 006-15+7 is a Milky Way supershell discovered by Moss et al. (2012). This supershell shows large shell-like structures in H I velocity maps. We have analyzed FUV emission for the supershell regions based on the FIMS and GALEX observations. Bright FUV flux at the boundaries of the supershell is mostly originated from dust scattering of FUV photons by dust clouds which was also observed at the boundaries of the supershell. We could find the distance to the supershell can be closer more than 30% compared with the distance of 1500 pc suggested by Moss et al. (2012) from the dust scattering simulation. And we also found the albedo and the phase function asymmetry factor of interstellar grains were 0.30 and 0.40, respectively. The confidence range for the albedo covers the theoretical value of 0.40, but g-factor is rather smaller than the theoretical value of 0.65. The small g-factor might mean the environment of turbulent ISM of the supershell. Meanwhile, the excess of C IV and X-ray emissions in the inside of the supershell can support the existence of hot gas and cooling in the supershell. And the C IV and X-ray emissions are monotonically decrease as away from the center of the SNR. This indicates the size of the hot bubble has considerably shrunk. We applied a simple simulation model to the PDR candidate region of the lower part of the supershell and obtained a H2 column density N(H2) = 1017.0-18.0 cm-2 and total hydrogen density nH ${\geq}$ 10 cm-3. This result shows the PDR candidate region represents a transition region from the warm phase to the cool phase in the PDR.
We updated the far-ultraviolet (FUV) spectral images of the entire Vela supernova remnant (SNR) using newly processed FIMS/SPEAR data. In the present study, we compare the newly produced FUV images with the X-ray and $H{\alpha}$ images, and examine how the Vela SNR evolves and interacts with the ambient medium on a global scale. The comparison with X-ray images has revealed a FUV filamentary feature corresponding with the boundary of the northeast-southwest asymmetry of the X-ray shell. The relatively low O IV] ${\lambda}1404$ to O III] ${\lambda}{\lambda}1661$, 1666 ratio estimated on the FUV filament is compatible with the previous proposal that the observed asymmetry of the Vela SNR could be due to the ${\gamma}2$ Velorum stellar wind bubble (SWB). The southwest FUV features surrounding a faint extended X-ray region are characterized as the region where the Vela SNR is interacting slightly stronger with ambient mediums within the dim X-ray southwest section. From a comparison with the $H{\alpha}$ image, we identify a ring-like $H{\alpha}$ feature overlapped with an extended hot X-ray feature of similar size and two local peaks of C IV ${\lambda}{\lambda}1548$, 1551 emission. Their morphologies are consistent with the expected shape when the $H{\alpha}$ ring is in direct contact with the near or far side of the Vela SNR. We suggest that the B3V-type star HD 76161 found at the center of the $H{\alpha}$ ring would be the exciting source of the H II region.
We firstly present the unified Far-UV continuum map of the Taurus-Auriga-Perseus (TPA) complex, one of the largest local associations of dark cloud located in (l, b)=([154,180], [-28, -2]), by merging both FIMS and GALEX. The FUV continuum map shows that dust extinction correlate well with the FUV around the complex. It shows strong absorption in FUV toward the dense Taurus cloud while it does not in California cloud. It turned out that it is related to the relative location of each cloud and Perseus OB2 association. We also present some results of dust scattering simulation based on Monte Carlo Radiative Transfer technique (MCRT). Through this dust scattering simulation, we have derived the scattering parameter for this region, albedo(a)=$0.42^{+0.05}{_{-0.05}}$, asymmetry factor(g)=$0.47^{+0.11}{_{-0.27}}$. The optical parameters we obtained seem reasonable compared to the theoretical model values ~0.40 and ~0.65 for the albedo and the phase function though the phase function is rather small. Using the result of simulation, we figured out the geometries of each cloud in the complex region, especially their distances and thicknesses. Our predictions from the results are in good agreement with the previous studies related to the TPA complex. For example, the Taurus cloud is within ~200pc from the Sun and the Perseus seems to be multi-layered, at least two. The California cloud is more distant than the other cloud on average at ~350 pc and Auriga cloud seems to be between the Taurus cloud and the eastern end of the California cloud. We figured out that across the TPA complex region, there might be some correlation between the LSR velocity and the distance to each cloud in the complex.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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