The safety device of infrared type for dangerous machine being used currently has a harmful effect on human's eye and skin. In this paper we explain about the characteristics of lasr source and analyze the amount of harmfulness on human's eye by simulation method. We used the datas given by ANSI in this simulation.
Purpose Yttrium-90 (Y-90) is high-energy beta emitters ($E{\beta}$, max = 2.28 MeV) with the mean penetration depth of 2.5 mm in tissue. Radioactive microspheres containing Y-90 is widely used for the transarterial radioembolization of hepatocellular carcinoma. However, bremsstrahlung radiation from Y-90 can cause the external radiation exposure to medical staff who handle the Y-90 microspheres. In this study, shielding device for Y-90 microspheres was developed to minimize the external radiation exposure. Materials and Methods Y-90 microsphere shielding device was made from 6 mm thicknesses of tungsten including the lead glass window. Radiation shielding ability of Y-90 microsphere shielding device was evaluated using 4 GBq of $SIR-Spheres^{(R)}$ Y-90 microspheres. The bremsstrahlung radiation was measured using radiation survey meter. Results The mean radiation dose of Y-90 microspheres in acrylic shield was $261.7{\pm}2.3{\mu}Sv/h$ (n=5) at 10 cm away from the shield. With the additional tungsten shielding device, it was $23.7{\pm}1.3{\mu}Sv/h$ (n=5). Thus, the bremsstrahlung radiation dose was decreased by 90.9%. At 50 cm away from the shield, bremsstrahlung radiation was reduced by 89.2% after using tungsten shielding device. Conclusion During the preparation and radioembolization of Y-90 microsphere, medical staff are exposed to external radiation. In this study, we demonstrated that the use of tungsten shielding device devices significantly reduced the amount of bremsstrahlung radiation. Y-90 microsphere tungsten shielding device can be highly effective in reducing the bremsstrahlung radiation.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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v.19
no.6
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pp.834-840
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2010
Photo lithography process is very important technology to fabricate highly integrated micro patterns with high precision for semiconductor and display industries. Up to now, mask type lithography process has been generally used for this purpose; however, it is not efficient for small quantity and/or frequently changing products. Therefore, in order to obtain higher productivity and lower manufacturing cost, the mask type lithography process should be replaced. In this study, a maskless lithography system using the DMD(Digital Micromirror Device) is developed, and the exposure condition and optical properties are analyzed and simulated for a single beam case. From the proposed experimental conditions, required exposure experiments were preformed, and the results were investigated. As a results, 10${\mu}m$ spots can be generated at optimal focal length.
TTo comply with increasingly strict regulations for protection against radiation exposure, many nuclear power plants have been working ceaselessly to reduce and control both the radiation sources within power plants and the radiation exposure experienced by operational and maintenance personnel. Many research studies have shown that deposits of irradiated corrosion products on the surfaces of coolant systems are the main cause of occupational radiation exposure in nuclear power plant. These corrosion product deposits on the fuel-clad surface are also known to be main factors in the onset of axial offset anomaly (AOA). Hence, there is a great deal of ongoing research on water chermistry and corrosion processes. In this study, a magnetic filter with permanent magnets was devised to remove the corrosion products in the coolant stream by taking advantage of the magnetic properties of the corrosion products demonstrated a removal efficiency of over 90% for particles above 5${\mu}m$. This finding led to the construction of an electromagnetic device that causes the metallic particulates to flocculate into larger aggregates of about 5${\mu}m$ in diameter by using a novel application of electromagnetic flocculation on radioactive corrosion products.
Ji, Hyo-Chul;Hong, Hyun-Ki;Kim, Sung-Woo;Lee, Ju-Hyung;Kim, Deok-Won
Proceedings of the KIEE Conference
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2007.04a
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pp.70-72
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2007
In this study, electromagnetic fields emitted from the various environment in the hospital were measured. Measurement spot was patients' head. To monitor how much magnetic fields are emitting from operation room, monitoring device was attached to 19 anesthesiologist and monitoring lasted 8 hours. We also took a measurement from various medical devices. Devices include ESWL, PET, MRI, CT, Gamma knife, X-ray, Angiogram, Echocardiogram, Upper GI and Linear Accelerator. Electromagnetic fields were measured from 10 spots from each of 5 patient waiting room. As a results, there were no places showing risk of high exposure. All the measurement values were below the reference levels for general public exposure to time varying electric and magnetic fields which is issued by ICNIRP.
Journal of Korean Society of Occupational and Environmental Hygiene
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v.33
no.3
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pp.280-283
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2023
Objectives: The purpose of this study was to examine the change in exposure concentration in the cleaning process after installing a local exhaust system. Methods: Dichloromethane measurement was conducted according to the KOSHA Guide (A-19-2019). Results: After the local exhaust device was installed, a total of three measurements were conducted, including temporary work environment measurements, and all of the measurements did not exceed the DCM exposure standard, but were more than 50% of the DCM Time Weighted Average((8-TWA) Conclusions: It is thought that the local ventilation system of a small business needs not only support for the initial installation cost, but also educational support for maintaining the performance of the local ventilation system and support for consumables (adsorbents, filters, etc.) that incur periodic costs.
During the intramedullary nailing procedure, surgeons feel difficulty in manipulation of the X-ray device to align it to axes of nailing holes and suffer from the large radiation exposure from the X-ray device. These problems are caused by the fact the surgeon cannot see the hole's location directly and should use the X-ray device to find the hole's location and direction. In this paper, we proposed the robotic guidance of the distal screwing using an optical tracking system. To track the location of the hole for the distal screwing, the reference marker is attached to the proximal end of an intramedullary nail. To guide the drill's direction robustly, the 6-degree-of-freedom robotic arm is used. The robotic arm is controlled so as to align the drill guiding tool attached the robotic arm with the obtained the hole's location. For the safety, the robot's linear and angular velocities are restricted to the predefined values. The experimental results using the artificial bones showed that the position error and the orientation error were 0.91 mm and $1.64^{\circ}$, respectively. The proposed method is simple and easy to implement, thus it is expected to be adopted easily while reducing the radiation exposure significantly.
Park, Ji-Koon;Jung, Bong-Jae;Park, Hyong-Hu;Noh, Si-Cheol;Kang, Sang-Sik
Journal of the Korean Society of Radiology
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v.10
no.2
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pp.109-115
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2016
Despite of increasing the use of the digital imaging device in the radiology area, the setting on the optimal irradiation conditions are insufficient. In this study, the exposure dose and image quality by exposure condition of digital radiography device were compared. The exposure doses were obtained by adjusting the exposure condition as 5 steps respectively based on the exposure conditions that are currently used of CR and DR radiography devices. The acquired image has been assessed by 20 medical image professors using the assessment method of the Japanese Society for Tuberculosis Prevent. As a result, in the case of the CR system, the better image quality was obtained in the condition of 120 kVp and 1.5 mAs~2.4 mAs (quality score 91~95.5 points) than standard exposure condition(110 kVp, 3.2 mAs, 86 points). And exposure dose was evaluated as low with $61.3{\sim}98.4{\mu}Gy$ than standard condition($105.11{\mu}Gy$). In DR system, however, the image quality score was higher as 97~98.6 points in the lower tube voltage range (112 kVp, 2.4~3.2 mAs) condition than the standard exposure condition (125 kVp, 3.2 mAs, 91 points). In addition, the exposure dose was $61.5-77.2{\mu}Gy$ lower than standard condition($93{\mu}Gy$). In addition, the exposure dose was low as $61.5-77.2{\mu}Gy$ than standard condition($93{\mu}Gy$). With the results of this study, we confirmed that it is possible to reduce the patient exposure dose with the same image quality by adjusting the optimal exposure condition of digital device.
Ultimate objective of industrial hygiene is the prevention of health impairment that may result from exposure to chemicals at workplace. Workers in solvent thinner-using occupation environment may be highly exposed to VOCs (volatile organic compounds) because solvent thinner has been used extensively such as painting, spraying, degreasing, coating and so on in Korea. The purpose of this study was to recognize, evaluate, and propose the control methods of VOCs from solvent thinner-using workplace. Five target volatile organic compounds (benzene, toluene, ethylbenzene, o-xylene, and m-xylene) were monitored in H company of Shiwa Industrial Complex and analyzed in perosnal, occupational indoor and outdoor during working hours simultaneously. Engineering control such as local ventilation should be made in considering the long-term exposure, though measured VOCs concentration did not exceed the workplace exposure standards. In addition, air cleaning device should be installed in local ventilation because Shiwa Industrial Complex has had the serious ambient air pollution. Currently, environmental purification using $TiO_2$ photocatalyst have attracted a great deal of attention with increasing number of recent environmental problems. In this study, $TiO_2$ sol coated on the ceramic bead was prepared by sol-gel method and the photodegradation of target compounds was investigated in gas phase by the exposure to UV-A lamp(365nm) in a batch system.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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