절연보호막 처리된 Al-1 % Si박막배선에서 D.C.와 Pulsed D.C. 조건하에서의 electromigration현상에 관한 연구 (A Study on the Electromigratin Phenomena in Dielectric Passivated Al-1Si Thin Film Interconnections under D.C. and Pulsed D.C.Conditions.)
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- 한국진공학회지
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- 제5권3호
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- pp.229-238
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- 1996